略平行化された光を与えるための装置は、１以上のストリップライトのような細長い光源（１２）と、この光源に隣接して配置されたオープンセル型ハニカムパネル構造体（１４）とを備える。ハニカムパネル（１４）は、その構造体を通して延びる複数の平行経路を与える。これらの経路に略平行な光線は、それらの経路を通過できるが、これらの経路に対してより鋭角に傾斜した光線は、これらのセルの壁によって遮られる。かくして、パネル（１４）を通過した光源（１２）からの光は、前記経路に概ね平行なビームとして出現する。この装置はまたレンズ系（Ａ，Ｂ）を有することもある。
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【課題】外光反射の低減、広い視野角の確保、高精細な表示が可能で、容易に製造可能なスクリーン等を提供すること。
【解決手段】凸部２１２を有し、アレイ状に設けられた複数の光学素子２１０と、光学素子２１０からの光を通過させる開口部２０６と、開口部２０６どうしの間に設けられた遮光部２０８と、を備える遮光パターン層２０４と、を有し、光学素子２１０は、遮光パターン層２０４が設けられている側に凸部２１２を向けて設けられ、開口部２０６は、光学素子２１０の焦点位置の近傍に設けられ、遮光部２０８は、光学素子２１０の焦点位置の近傍以外の位置に設けられる。 （もっと読む）

【課題】 固体撮像素子のスミアの原因となる遮光膜端から、受光部以外の領域に光が入射することを抑制する。
【解決手段】 半導体基板１に形成された拡散層からなる受光部２と、受光部２上に形成された反射防止膜７と、反射防止膜７の領域が開口部となるように半導体基板１上に形成された遮光膜６とを備え、反射防止膜７が上方に凸の曲面を有する。これにより、遮光膜６の開口部から斜めに光が入射しても、曲面で屈折して受光部２の中央部に光を集めることができる。したがって、受光部２に隣接して形成されている電荷転送部３にまで入射光が到達せず、スミアを低減することができる。 （もっと読む）

【課題】カラーフィルター基板のフォト装備に利用される現像液を一元化することにより、最小限のフォトバックアップ装備でも生産力の極大化が可能であるフォト装備及びこれを利用したカラーフィルター基板の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明によるフォト装備は、ネガティブ現像液を供給する現像液供給部と、基板上に形成された光遮断金属層をパターニングして、ブラックマトリクスを形成する際に必要であるポジティブフォトレジストパターンを、ノボラック系の樹脂を基本として、アクリル系の樹脂を含むポジティブフォトレジストと前記ネガティブ現像液とを利用して形成する第１フォト装備を含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 ディスプレイ素子の輝度及びコントラストを向上させるため光吸収領域に向って外部光をフォーカシングするディスプレイ素子のマイクロ構造のための装置及び方法を提供する。
【解決手段】 光放出層の一側に配置された光吸収層を含むディスプレイ素子であり、該光吸収層は、光屈折構造及び光吸収素子を含むが、光吸収素子のそれぞれは、光屈折構造内に位置し、光案内構造は、外部光の反射を減少させるためその内部に位置する複数の光吸収素子のうち一つに向って入射光を案内する。 （もっと読む）

【課題】 高精度のピンホール形状と、高い遮光性を有し、かつ面精度の良好なピンホールマスクを提供する。
【解決手段】 SiＮ薄膜２の上にレジスト３を塗布し（ｄ）、ＥＢ描画により、レジスト３のピンホールを作成したい部分を露光し、レジスト３を現像することにより、ピンホール４を形成する。そして、残ったレジスト３をマスクとしてＲＩＥエッチングにより、SiＮ薄膜２にもピンホール５を形成する（ｆ）。その後、レジスト３をドライエッチングにより除去する。これにより、ピンホールを有するSiＮ薄膜２からなるメンブレンが完成する（ｇ）。その後、後に説明するように、SiＮ薄膜２からなるメンブレンの両面に、２種類以上の金属からなる、金属薄膜６を、蒸着やスパッタリングにより成膜する。この際、成膜された金属薄膜にも、ピンホール７が形成される（ｈ）。 （もっと読む）

【課題】 遮光性が高いがエッチングされにくい材料を使用する場合でも、微小な径のピンホールを形成することが可能なピンホールマスクの製造方法を提供する。
【解決手段】 基板１に、細く絞った粒子線２を照射しながら、基板１の、粒子線２が照射される領域の近傍に、気体導入管３を用いて気体４を吹き付ける（ａ）。すると、基板１の粒子線２が照射される領域には、気体４と粒子線２との相互作用により、反応生成物５が付着する。粒子線２を照射し続けると、反応生成物５は成長し、柱状構造になる（ｂ）。反応生成物５の柱状構造を形成後、基板１に遮光膜６を成膜する（ｃ）。成膜後に反応生成物５を除去すると、遮光膜６にピンホール７が形成される（ｄ）。続いて、遮光膜６をマスクとして基板１をエッチングすることにより、基板１にもピンホール８が形成される（ｅ）。 （もっと読む）

【課題】特に曲面形状を有する部材に対して空気との界面での光の反射を低減し、光を実質的に完全に吸収することのできる光吸収部材を提供すること。
【解決手段】光吸収部材は、反射を低減すべき光を吸収可能な材料からなる基材１０１、１１１と、該光の波長よりも短いピッチで、曲面の表面にアレイ状に配列された構造単位を有する反射防止構造体１０２、１１２、３０３とを備え、基材は、巨視的に曲面形状を有しており、構造単位は、基材の曲面に相当する仮想面に対して突出又は陥没した形状を有し、仮想面と各構造単位の端部とを結ぶ直線が互いに略平行になるよう配列されている。 （もっと読む）

テーパ付導波管を有するディスプレイ用光学装置とその製造方法が開示される。導波管内の光の吸収量を減らすために、光学装置の前方の表面のみに吸光物質をコーティングする。或いは、導波管と隣接する空間部に、導波管とは屈折率の異なる、好ましくは、導波管より屈折率の小さい樹脂をコーティングした後に、吸光物質を充填する。更に、大きさが大きくて、均一な吸光物質を空間部に充填することができる。光学装置は、既存の光学装置に比べて光効率が優れるので、優れた輝度を示す。更に、本発明の製造方法により、このような光学装置を、簡単な方法で、改善した製造効率で生産できる。

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スクリーン用光分散フィルムが、光透過基板と、基板上に配置された複数の光拡散構造と、を有する。光吸収材料が、光拡散構造間のキャビティを少なくとも部分的に充填する。光分散フィルムを形成する方法が、上に複数の光拡散構造が配置された光透過基板を提供する工程と、光吸収材料でそれらの間のキャビティを少なくとも部分的に充填する工程と、を含む。
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本発明は、第１の材料（３２）の第１のフィルム（２２）を提供するステップと、第２の材料（３４）を押し出して溶融状態の第２のフィルムを形成するステップと、第２のフィルムを溶融状態に維持するステップと、第１のフィルム（２２）を溶融した第２のフィルムに隣接させるステップと、溶融した第２のフィルムにパターン形成して複数の構造（２４）を形成するステップであって、これらの構造（２４）がそれらの間に複数の空隙（２６）を画定しているステップと、溶融した第２のフィルムを固化させるステップとを含む光学フィルム（２０）の形成方法に関する。
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【課題】３次元形状を露光によって形成するための露光用マスクとして簡単な構成でしかも十分な階調数を得るようにすること。
【解決手段】本発明は、露光装置Ｓで用いられ露光用のマスクＭにおいて、露光装置Ｓから出射される光を遮断する遮光パターンと、この光を透過する透過パターンとの対から構成されるパターンブロックが複数連続して配置されているとともに、その連続するパターンブロックのピッチが一定で、しかも遮光パターンと透過パターンとの比率が徐々に変化するよう設けられている。 （もっと読む）

透過型スクリーンは視聴空間に映像を投影するためのマイクロレンズアレイから形成される拡散素子を含む。本スクリーンは、レンズアレイの１つ以上のレンズの構造的特徴をレンズアレイの他のレンズと比べて光が異なる方向にかつ／または異なる光学的性質で方向付けられるよう変化させることによって、改善されたクオリティの映像を作り出す。変化させる構造的特徴としては、レンズアレイのレンズのサイズ、形状、曲率、または間隔のいずれか１つ以上の特徴が含まれる。この結果、従来のスクリーンと比較して本スクリーンは、より広い視野角と、改善されたスクリーン解像度および利得とを実現すると共に、作り出された映像の中のエイリアシングまたは他のアーチファクトを軽減もしくは除去するより強い能力を獲得する。このタイプの透過型スクリーンの製造方法は、好ましくはマスタに基づくスタンピング加工を使用してマイクロレンズアレイを形成する。このアプローチを採用することによって、本スクリーンは、従来の方法と比べてより少ない製造行程で、しかもより少ないコストで製造される。

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【課題】 光量調整フィルタによって反射された迷光の撮像素子への入射を確実に回避することができると共に、その光量調整フィルタのレンズ系における占有体積を小さくすることのできるカメラ装置を得る。
【解決手段】 レンズ系１２、１３、１４、１６と、そのレンズ系よりの光束が焦点を結ぶ如く照射される撮像素子１９と、レンズ系に挿脱自在に配される、絞り羽及び中性フィルタを備える光量調整フィルタ１５とを有するカメラ装置において、光量調整フィルタ１５の撮像素子１９に対向する面側に回折格子１５ｂが設けられてなるものである。 （もっと読む）

【課題】 パネルガラスの内面にブラックマトリックスを形成方法において、レジストパターンが形成されているパネルガラスの中央部にカーボンを注入することによって生じていたカーボンの注入ムラを解消させること。
【解決手段】 パネルガラスの内面にブラックマトリックスを形成する方法であって、該パネルガラスの内側にレジストパターンを形成した後にノズルを介してカーボンを注入する際、該パネルガラスのスカート部へカーボンを注入するようにしたことにより、レジストパターンはカーボン注入の吐出圧による衝撃を受けないので、レジストパターンの変形による注入ムラが生じないで、スッキリしたパターンのブラックマトリックスを形成できる。 （もっと読む）