【課題】画像センサ等の撮影領域を少ない消費電力で照明できる照明装置を提供する。
【解決手段】光ビームを出射する光源２、ＣＣＤカメラ１１の撮影領域Ａに対して光源１から出射された光ビームを反射しその反射光ビームを２次元走査するガルバノミラー４と、ガルバノミラー４による撮影領域Ａの走査周期とＣＣＤカメラ１１の画像データを取込む画像取込み部１２の画像の取込みタイミングとを同期させる同期制御部６とを備えて構成した。 （もっと読む）

【課題】単一の加工装置によって複数の加工用途に応じた使用を可能にするレーザ加工用レンズ装置及びレーザ加工装置を提供する。
【解決手段】レーザ加工用レンズ装置１０は、ｆθレンズ２ｅによりレーザ光を集光して加工対象物Ｗに加工するレーザマーカ１のヘッド部２に着脱自在に取り付けられるレンズホルダ１１を備える。レンズホルダ１１には、ｆθレンズ２ｅから出射されたレーザ光の光軸Ｘに対する角度を変更する補助レンズ１２が装着される。 （もっと読む）

【課題】被走査面上の走査位置による反射光の明るさの差異を低減させることのできる光走査装置及び画像形成装置を提供する。
【解決手段】光を反射する光反射部材２１と、光反射部材２１を軸Ａ回りに揺動可能に支持する支持部材２６とを含む走査部２を有し、光反射部材２１が揺動することにより、光反射部材２１によって反射された反射光を半球面スクリーンＳＣ１上に走査可能な光スキャナー１０と、光スキャナー１０が設けられ、軸Ａに垂直な軸Ｂ回りに回動可能に構成された中空モーター７０と、を備え、光スキャナー１０は、半球面スクリーンＳＣ１上における反射光の所定方向の走査速度を変更するために、走査部２の半球面スクリーンＳＣ１に対する空間的位置を変更するＺステージ８を有する。 （もっと読む）

【課題】撮像装置において、解像度の高い画像を撮像可能にし、且つ、製造コストを低くする。
【解決手段】撮像装置１は、制御回路の制御に基づき、光源から入射された光線を２軸型の偏向器により偏向させて、対象物に、水平方向及び垂直方向にそれぞれ第１走査周波数ｆＨ、第２走査周波数ｆＶで２次元的に走査する。各走査周波数は、ｆＨがｆＶの倍数ではなく、且つ、２×ｆＨがｆＶの倍数となるように設定されており、垂直方向に１往復走査するとき光線の走査経路が重ならないように構成されている。制御回路は、対象物からの反射光を受光することにより受光器から出力される受光信号と光線の走査位置とに基づいて、画像を再構成する。光線が、垂直方向に１往復走査される間に１つの撮像フレームの画像データ得ることができ、実効的な走査線の数を増加させて画像を撮像することができる。 （もっと読む）

【課題】高速に広範囲をスパイラル走査可能なレーザービーム走査装置および光アンテナ装置を得る。
【解決手段】第１のウェッジプリズム１および第２のウェッジプリズム２と、第１のウェッジプリズム１および第２のウェッジプリズム２をそれぞれ回転させる第１の回転駆動手段および第２の回転駆動手段と、第１のウェッジプリズム１および第２のウェッジプリズム２が異なる回転速度で回転するように第１の回転駆動手段および第２の回転駆動手段を制御する回転速度制御手段とを備え、第１のウェッジプリズム１および第２のウェッジプリズム２は、レーザービームが透過するように配置され、かつ、レーザービームの進行方向に対するそれぞれの回転方向が等しい。このような構成により、空間における任意の面上で所望の渦巻き状の軌跡を描くようにレーザービームを走査することができる。 （もっと読む）

【課題】 高い時間効率でビームを照射する。
【解決手段】 レーザビームを出射するレーザ光源と、レーザ光源から出射されたレーザビームを偏向させる偏向角可変の副偏向器と、副偏向器によって偏向されたレーザビームが入射する位置に配置された偏向角可変の主偏向器であって、最大偏向角が、副偏向器の最大偏向角よりも大きく、かつレーザビームを偏向させる応答速度が、副偏向器のそれよりも遅い主偏向器とを有するビーム照射装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】１次元型の光変調装置の製造上のばらつきによって生じる画像のスジを低減する。
【解決手段】走査光学部130に、１次元型の光変調装置の長手方向と略直交する方向に走査する主走査光学部108と、１次元型の光変調装置の長手方向に走査する副走査光学部107とを設ける。副走査光学部107によって例えばフレーム毎に上下移動することで、画像の横筋を抑制ないしは回避することができる。ポリゴンミラーの面倒れ誤差を補正できる。 （もっと読む）

【課題】Ｚ軸スキャナの移動時間によるロスを低減して、加工に要する処理時間の短縮を図る。
【解決手段】レーザ光の焦点距離を調整可能なＺ軸スキャナと、Ｚ軸スキャナを透過するレーザ光を、Ｘ軸方向に走査させるためのＸ軸スキャナと、Ｙ軸方向に走査させるためのＹ軸スキャナと、加工対象面の３次元形状に関してＸＹ座標位置とＺ座標位置との対応関係を関連付けて記憶するための記憶部とを備え、レーザ制御部が、レーザ光の出射をＯＮしている間は、Ｘ軸及びＹ軸スキャナの移動にＺ軸スキャナを追従させ、記憶部に記憶された対応関係に基づき、Ｘ軸及びＹ軸スキャナの指示するＸＹ座標と対応するＺ座標を指示するようＺ軸スキャナを移動させ、一方レーザ制御部が、レーザ光の出射をＯＦＦしている間は、Ｚ軸スキャナの追従を中断し、ＸＹ座標の対応関係に拘わらず所定のＺ座標位置に移動させるよう構成している。 （もっと読む）

【課題】塗り潰し加工をムラなく安定的に行いうるレーザ加工装置を提供する。
【解決手段】レーザ加工装置Ｍは、パルスレーザ光を出射するレーザ光源１０と、光走査手段としてのガルバノスキャナ２０とを備えている。ガルバノスキャナ２０は、ＣＰＵ３４の制御に基づいて、レーザ光源１０からのパルスレーザ光の照射スポットを、被加工対象物Ｗ上において第１のずらし間隔Ｗ１でずらして重ね合わせながら一方向に走査し、かつ、その走査方向と直交する直交方向へ第２のずらし間隔Ｗ２でずらして重ね合わせる構成をなしている。さらに、第１のずらし間隔Ｗ１及び第２のずらし間隔Ｗ２のいずれかを一方を設定変更可能に構成されており、この一方が変更された場合に、第１のずらし間隔Ｗ１と第２のずらし間隔Ｗ２とが所定の関係となるように、パルスレーザの照射スポット径に基づいて他方が自動調整されるようになっている。 （もっと読む）

【課題】レーザディスプレイ装置を提供する。
【解決手段】少なくとも１つのレーザビームを放出する光源１００と、光源１００から放出されたレーザビームを映像信号によって変調する光変調部１２０と、光変調部１２０で変調されたレーザビームを走査するスキャニング部１５０と、画像が形成されるものであり、スキャニング部１５０から走査されたレーザビームによって励起光の発生する蛍光層を有した画像部１９０と、を備えるレーザディスプレイ装置である。 （もっと読む）

【課題】むらの発生を低減し高品質な画像を表示することが可能な画像表示装置等を提供すること。
【解決手段】ビーム光を走査させることにより画像を表示する画像表示装置１０であって、ビーム光を供給する光源部と、光源部からのビーム光を第１の方向と、第１の方向に略直交する第２の方向へ走査させる走査部である水平スキャナ１３及び垂直スキャナ１５と、を有し、水平スキャナ１３及び垂直スキャナ１５は、複数のフィールドを合成させて１フレームの画像を形成させるようにビーム光を走査させ、フィールドごとにビーム光を走査させる軌跡の位相を変化させるように駆動される。 （もっと読む）

【課題】 モータを停止しなくても、所定の方向に一定期間、光ビームを照射することのできる光ビーム走査装置を提供すること。
【解決手段】 光ビーム走査装置１は、光源装置１０と、ステッピングモータなどの同期モータにより回転駆動される透過型光偏向ディスク３０とを備えており、透過型光偏向ディスク３０のディスク面には、周方向において分割された複数の光偏向領域３２の各々に、入射した光ビームを隣接する光偏向領域３２と異なる方向に屈折させて出射する傾斜面３３を備えている。 （もっと読む）