【課題】光量検出精度の低下を抑制できる光源装置を提供する。
【解決手段】 光源装置２２００は、面発光レーザアレイチップ１００と、該面発光レーザアレイチップ１００から射出された光束の一部を通過させる通過部を含むカバーガラス１０４と、前記光束の残部の少なくとも一部を直接受光してその光量を検出するフォトセンサ１０５とを備える。 （もっと読む）

【課題】 光学部品の組立誤差、製造誤差によるピッチ間隔の変動を抑制することを可能にした光走査装置を提供する。
【解決手段】 少なくとも主走査方向に離間した複数の発光点を備えた光源と、光源からの複数の光束を偏向させる偏向手段と、偏向手段で偏向された複数の光束を被走査面上に結像させる結像光学系とを有し、結像光学系は、複数の発光点のうち最も主走査方向に離間した２つの発光点からの光束の主光線をＡ、Ｂとし、有効走査域全域において、副走査方向のパワーの絶対値が最も大きい光学面上での主光線ＡとＢの主走査断面内における離間量Ｄ(mm)は、D≧0.35を満足し、主走査断面内において、副走査方向のパワーの絶対値が最も大きい光学面の主光線ＡとＢの中央線Ｌの射出位置における法線と中央線Ｌとの成す角をΔθ(rad)とした時、副走査方向のパワーの絶対値が最も大きい光学面の主走査断面内の形状は、｜Δθ｜≦0.1/Dを満足する。 （もっと読む）

【課題】走査光学系にプラスティックレンズを用い、マルチビーム光源を用いた場合の光学性能を確保して、高速、高精細な画像形成を行うことができる光走査装置および画像形成装置を提供する。
【解決手段】結像光学系は、少なくとも1枚のプラスティックレンズを備え、副走査方向において、複数の発光点からの主光線がプラスティックレンズ付近で交差しており、かつ、プラスティックレンズの主走査方向における中央側光束通過領域と端部側光束通過領域とで、一方ではプラスティックレンズに対して光軸方向で前方位置、他方では後方位置で主光線が交差するように構成する。 （もっと読む）

【課題】被走査面上での副走査方向のビームピッチの誤差を小さくすることができる光走査装置を提供する。
【解決手段】 走査光学系は、樹脂製の第１走査レンズ及び樹脂製の第２走査レンズを有し、第２走査レンズの射出側の面が副走査対応方向に関して最も強いパワーを有する面である。そして、各第２走査レンズ（２１０７ａ、２１０７ｂ）では、副走査対応方向に関して近接した位置を発光部ｃｈ１からの光ビームと発光部ｃｈ４０からの光ビームが通過している。また、主副直交方向に関して、第２走査レンズは、感光体ドラムの像高０ｍｍに向かう光ビームに対する開口部の共役点と、感光体ドラムの像高１６４ｍｍに向かう光ビームに対する開口部の共役点の間に位置している。 （もっと読む）

【課題】高コスト化を招くことなく、被走査面を安定して走査することができる光走査装置を提供する。
【解決手段】 光源装置１１は、光源１０１、ガラス板１０２、受光素子１０３、保護カバー１０４などを有している。そして、複数の発光部から射出され受光素子１０３で受光される複数の光の光量がいずれも０．０１ｍＷ以上であり、複数の発光部について、射出される光の半値全角が変化したとき、受光素子１０３で受光される光の光量と開口板の開口部を通過する光の光量との比の変化率が４％以下となるように、受光素子１０３の大きさが設定されている。 （もっと読む）

【課題】 ピッチムラやモアレの発生を防止することができる走査光学装置を提供する。
【解決手段】 被走査面を露光する走査光学装置１に、個別に発光が制御される複数の発光部ｅ１〜ｅ３６が二次元に配置された光源２００と、発光部ｅ１〜ｅ３６から射出される光ビームの結像点を被走査面の上で走査するように光ビームを偏向する偏向部材１１と、を設け、複数の発光部を、副走査方向ＳＳに連続して配置される複数の発光部群２００Ａ、２００Ｂ、２００Ｃに区分けし、複数の発光部群のそれぞれの発光部群を主走査方向ＭＳに複数の発光部区画２００Ａ１、２００Ａ２に区分けしたときに、複数の発光部群のそれぞれの発光部群において、複数の発光部区画のうちの少なくとも一つの発光部区画における複数の発光部の配列規則が、複数の発光部区画のうちの他の発光部区画における複数の発光部の配列規則と異なるように構成した。 （もっと読む）

【課題】 画像むらのない良好な画像を形成できるようにする。
【解決手段】 画像形成装置では、半導体レーザ素子２００Ｋの発光部から射出されるレーザビームが照射されるポリゴンミラー１０２ｃ（回転多面鏡）の反射面を特定する。また、ポリゴンミラー１０２ｃの各反射面によって走査されるレーザビームによる感光体ドラム１０４ａ上での各主走査ラインの副走査方向の位置ずれ量を検出する。そして上記特定した反射面と上記検出した各主走査ラインの副走査方向の位置ずれ量とに応じて半導体レーザ素子２００Ｋの複数個の発光部から使用する発光部を選択することにより、各主走査ラインの副走査方向の位置ずれを補正する。 （もっと読む）

【課題】 安定的に光源パワーを得ることができ、高品位な画像出力を維持しつつ、レイアウト性を向上することができる光走査装置および画像形成装置を得る。
【解決手段】 光源１と、光源１からの光束を偏向する偏向手段７と、光源からの光束を偏向手段の偏向反射面近傍に主走査方向に長い線像として結像させる結像光学系５ａ，５ｂと、偏向手段により偏向された光束を主走査方向に走査する走査光学系８と、を備えた光走査装置において、光源から偏向手段への光路上に、光源からの光束を分割する光束分割手段４が配置され、結像光学系から偏向手段への光路上に、光源からの光束の偏光状態を変える平行平板状の光学素子１１ａ，１１ｂが配置されている。 （もっと読む）

【課題】折り返しミラーに特別なコーティングを施すことなく、感光体ドラムの周面における光量分布の均一性を保つこと。
【解決手段】折り返しミラー６７７に対するレーザー光ＬＢの入射角θの範囲は４０°〜６５°とする。そして、レーザー光のＳ偏光成分に対する折り返しミラー６７７の反射率は、赤色波長領域のレーザー光のＰ偏光成分に対する反射率より３％以上高くする。更に、折り返しミラー６７７の主走査方向各位置におけるレーザー光の入射角のうち、最小入射角で入射したときの反射率と最大入射角で入射したときのＳ偏向成分の反射率の差と、最小入射角で入射したときの反射率と最大入射角で入射したときのＰ偏向成分の反射率の差は共に５％以下とする。また、折り返しミラー６７７の副走査方向の傾斜角度αを２０°〜３０°、防塵ガラス６２１の副走査方向の傾斜角度βを５°〜２０°とする。 （もっと読む）

【課題】光源の特性などが変化しても、その都度駆動電流の上限値を求める必要がなく、画像形成に要する時間が長くなることのないようにする。
【解決手段】光源１０５は駆動電流を増加させるとその光量が増加して最大光量に達する単調増加域と、当該最大光量からさらに駆動電流を増加させると光量が減少する単調減少域とを有している。光量センサ１０９、Ｉ−Ｖ変換部１１７、Ｖｉｍ微分回路１２１は光源から出力される光ビームの光量の変化を検出して光量変化検出信号を出力する。ＩｓｗＤＡＣ１１９、Ｉｓｗ微分回路１２２は駆動電流の変化を検出して電流変化検出信号を出力する。比較回路１２３、ＣＰＵ１２０、ＡＰＣ回路１１８は光量変化検出信号および電流変化検出信号に応じて光源が単調増加域および単調減少域にあるか否か判定し、判定結果に応じて光源に印加する駆動電流の増減制御を行う。 （もっと読む）

【課題】レーザー走査光学装置において、適切な走査線湾曲調整のアクセス方向を選択できるともにスペースの増大や折返しミラーの増加につながることなく複数の光路を設定可能とする。
【解決手段】複数の光源手段から発せられた光束は偏向平面に対してそれぞれ異なる角度を有して偏向手段１０に入射し、走査光学素子のうち最も大きい副走査方向のパワーを持つ走査レンズは、複数の光源手段から発せられたそれぞれの光束の光路中に配置されている。走査レンズは副走査方向Ｚに非対称な断面形状を有し、走査レンズをその弾性変形によって走査線の湾曲を調整する調整機構を備えている。走査レンズのうち少なくとも二つ２３ｙ，２３ｋと２３ｍ，２３ｃとは同形状をなし、かつ、走査線の湾曲を調整するための基準座面を副走査方向Ｚの両側部に有している。 （もっと読む）

【課題】光路間での光量ムラの差を抑えること。
【解決手段】光ビームＢｙ，Ｂｋの第１の光路ペアが形成され、光ビームＢｍ，Ｂｃの第２の光路ペアが形成される。各光路ペアにおいて、２個の光源１１ｙ，１１ｋは、偏光面Ｆｓａ，Ｆｓｂが水平面Ｆ１に対し互いに対称になるよう配置される。さらに、各光路ペアの光ビームＢｙ，Ｂｋは、水平面Ｆ１に対し対称な傾き角θｐ１でポリゴンミラーに入射される。その後、光ビームＢｙ，Ｂｋはいずれも、水平面Ｆ１に対し対称形状を有する共通走査レンズ２１，２２を通過する。その後、光ビームＢｙ，Ｂｋは、水平面Ｆ１に対し対称に配置される個別走査レンズ２３ｙ，２３ｋを通過する。 （もっと読む）

【課題】マルチビーム方式の光走査装置において、光源とＢＤセンサーとを同一の回路基板に搭載した構成を採用しつつ、ＢＤセンサーへ検知用光束を入射させるための特殊な光学素子を省く。
【解決手段】レーザー光源３０はリード部３５を有し、ブラケット３６で保持された状態で回路基板７０に搭載されている。回路基板７０とブラケット３６とは、リード部３５のみによって連結され、両者間に所定間隔Ｈが介在する状態で、発光部３０Ａは回路基板７０上に立設されている。この所定間隔Ｈは、副走査方向のビームピッチの調整のために発光部３０Ａの光軸回りの回転されるときに、リード部３５が捻れることを許容する長さである。このため、副走査方向のビームピッチの調整が行われ、ブラケット３６のハウジング２０への固定が行われた後に、ＢＤセンサー６と入射光束との位置合わせを行って回路基板７０をハウジング２０に固定させることができる。 （もっと読む）

【課題】高コスト化及び走査精度の低下を招くことなく、小型化を図ることができる光走査装置を提供する。
【解決手段】 光源ユニットは、光源、駆動用チップ、回路基板、偏光調整部材１３、及びコリメートレンズなどを有している。偏光調整部材１３は、半導体レーザチップ１０１の発光部１０１ａから射出された光束ＬＢ１に対向する領域１４ａと、発光部１０１ｂから射出された光束ＬＢ２に対向する領域１４ｂとを有する位相シフト素子を含み、光束ＬＢ１及び光束ＬＢ２の偏光方向を、互いに直交する偏光方向に調整する。 （もっと読む）

【課題】走査線の間隔の調整を行う際の調整の自由度を高めること。
【解決手段】２行１７列の二次元に配置された個別に制御可能な３４個の発光点ｍ１〜ｍ１７、ｎ１〜ｎ１７を有するマルチビーム光源１０１と、マルチビーム光源１０１から出射された光ビームが感光ドラム上を主走査方向に走査するように偏向する回転多面鏡２と、マルチビーム光源１０１と回転多面鏡２の間に設けられるコリメータレンズ群１ｃと、回転多面鏡２により偏向された光ビームを感光ドラム上に結像させる結像光学系とを備え、感光ドラム上における副走査方向の走査線の間隔が所定の解像度に応じた所定の間隔となるように、光源１ｄをコリメータレンズ群１ｃの光軸と平行な軸を中心に回転させることにより調整を行う光走査装置Ｅであって、発光点ｍ１７とｎ１の走査線の間隔が、調整により所定の間隔からずれることに応じて、３４個の発光点の中から発光させる発光点を選択する。 （もっと読む）

【課題】発光素子の回路基板への実装の作業性を向上させることができる組立方法を提供する。
【解決手段】光源装置の組立方法では、１次元レーザアレイＬＡ（発光素子）の複数のリード線Ｒが回路基板１０に形成されたリード線挿入孔１０ａ（１０ｂ）に＋α側から一括して挿入され、リード線ガイド部材２１の外周に形成された複数の案内溝２１ｃの第１溝部２１ｃ_１を規定する面が、複数のリード線Ｒの先端に個別に突き当てられる。そして、リード線ガイド部材２１が＋α方向に移動され、複数のリード線Ｒが対応する端子２９に向けてガイドされる。従って、発光素子の回路基板への実装の作業性を向上させることができる。 （もっと読む）