【課題】高解像度で、十分な厚膜化が可能であり、かつ透明性、耐熱性、密着性、耐溶剤性等の諸物性にも優れた層間絶縁膜を形成しうる層間絶縁膜形成用感放射線性樹脂組成物、当該樹脂組成物から形成された層間絶縁膜等を提供する。
【解決手段】層間絶縁膜形成用感放射線性樹脂組成物は、（Ａ）（ａ）酸性官能基を有する重合性不飽和化合物１０〜５０重量％、（ｂ）脂環式炭化水素基を有し、酸性官能基をもたない重合性不飽和化合物２０〜６０重量％および（ｃ）他の重合性不飽和化合物５〜４０重量％を重合して得られるアルカリ可溶性共重合体、（Ｂ）重合性不飽和化合物、（Ｃ）光重合開始剤、並びに（Ｄ）カップリング剤を含有することを特徴とする。
層間絶縁膜は、当該層間絶縁膜形成用感放射線性樹脂組成物から形成される。 （もっと読む）

【課題】安定したベンド配向を形成でき、応答速度が速く、透過光及び反射光を有効に利用することができて表示特性が優れた半透過型液晶表示装置及びその製造方法を提供する。
【解決手段】ＴＦＴ基板２１及び対向基板２２間に、誘電率異方性が負の液晶を封入して構成され、透過光を制御する透過領域と反射光を制御する反射領域とを有する。また、ＴＦＴ基板２１の反射電極２５及び透明電極２４は第１の垂直配向膜２６に覆われており、対向基板２２側のコモン電極２８は第２の垂直配向膜２９に覆われている。そして、第２の垂直配向膜２９の全体と、透過領域の第１の垂直配向膜２６のみが光改質され、第１の垂直配向膜２６と第２の垂直配向膜２９の界面の液晶分子のプレチルト角が４５°以上であり、透過領域の液晶分子がベンド配向している。 （もっと読む）

【課題】 偏光ＵＶを利用した、液晶材料を配向させるための配向膜の製造方法であって、偏光ＵＶの偏光方向に対して、平行な方向に液晶材料に対する配向性を有する前記配向膜を容易に作製する方法を提供すること。
【解決手段】 側鎖にシンナモイル基またはその誘導体を有し、かつ主鎖とシンナモイル基の間にメチレン鎖を有するモノマー単位を含有し、かつメソゲン基を有しない光反応性ポリマーを含有する塗工液を、基材上に塗布して塗膜を形成した後、当該塗膜に対して斜め方向から偏光ＵＶを照射することを特徴とする液晶材料を配向させるための配向膜の製造方法。 （もっと読む）

【課題】視野角特性に優れ、高品位の表示が可能な液晶表示装置を提供する。
【解決手段】絵素は、液晶層の厚さ方向の中央付近に位置する液晶分子３０ａの配向方向が互いに異なる第１、第２、第３および第４ドメイン（Ｄ１〜Ｄ４）がある方向に沿ってこの順に配列された４分割ドメインＤを含む。第１基板１０は、液晶分子３０ａを第１方向Ｒ１に配向させる規制力を有する２つの第１領域Ａ１と、第１方向と反対の第２方向に配向させる規制力を有し、２つの第１領域Ａ１の間に設けられた第２領域Ａ２とを有する。第２基板２０は、第１方向Ｒ１と交差する第３方向Ｒ３に配向させる規制力を有する第３領域Ａ３と、第３方向Ｒ３と反対の第４方向Ｒ４に配向させる規制力を有する第４領域Ａ４とを有する。各ドメイン（Ｄ１〜Ｄ４）間の境界は、各ドメイン（Ｄ１〜Ｄ４）の配列方向に直交する方向に延びている。 （もっと読む）

【課題】 非偏光を斜めに照射する配向膜の配向処理方法において、基板の大型化、広幅化に適した配向処理方法を提供する。
【解決手段】 支持体上に塗布した配向膜の配向処理において、複数の半導体レーザーからそれぞれ出射された複数のレーザービームを合波したレーザービームを、マルチモード光ファイバーを介して単一方向から照射する。 （もっと読む）

【課題】 高品質の液晶表示装置およびその製造法を提供する。
【解決手段】 信号電極および走査電極の少なくともいずれか一方と画素電極との間隙上における液晶分子が、当該信号電極および走査電極の少なくともいずれか一方から当該画素電極の方向に傾いているようになした状態で、液晶組成物中の重合性化合物を重合させる。重合後に当該液晶相中に残存している重合性化合物量が、液晶１００重量部に対して０．０５重量部以下であることが好ましい。液晶層を囲むシール部には、非表示部のうち液晶注入口と反対側の位置に、第二のシール壁を設けることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、周囲の画素に影響を当与えることなく、簡易な工程で輝点を黒点化することができ、この黒点が時間経ても輝点に戻ることなく、維持されるような輝点欠陥の補修方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 本発明は、一対の基板（２０ａ、２０ｂ）と、当該一対の基板の間に介在する液晶層（１０）と、基板と液晶層の間に設けられて液晶層の液晶の配向を規制する配向膜（１２ａ、１２ｂ）とからなる液晶パネルを備える液晶表示装置の輝点欠陥画素（Ｂ）を補修する方法であって、配向膜の輝点欠陥画素に対応する範囲にレーザ光を照射して配向膜の配向規制力を局所的に低下または消失させる工程を含み、液晶を表示させる時に、前記配向規制力を低下または消失させた範囲を透過する光の強度を低下させることによって輝点欠陥画素を補修することを特徴とする液晶表示装置の欠陥補修方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】 画像の欠けが防止された液晶表示装置、及びこれを製造するためのパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】 仮支持体上に少なくとも一層の感光性樹脂層を有する感光性転写材料を基板に転写する工程、所望のパターンで露光する露光工程、及び、現像処理により不要部を除去する現像工程、を含み、かつこの順で実施されるパターン形成方法であって、前記転写工程と前記露光工程との間に、前記感光性転写材料を転写した基板を加熱する基板加熱工程を含むことを特徴とするパターン形成方法。また、少なくとも一層のナフトキノンジアジド誘導体を含む感光性転写材料の転写工程の基板温度が１２０℃以上１８０℃以下、又はロール温度が１３０℃以上１６０℃以下又は搬送速度が１ｍ／分以上２ｍ／分以下であるパターン形成方法。また、熱可塑性樹脂と中間層がある場合には、前記転写工程と前記露光工程との間に、該熱可塑性樹脂層と該中間層とを除去する工程を含むパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】 本発明の目的は、イオンビーム照射により配向処理をおこなう際に、均一な配向処理ができるイオンビーム照射装置を提供することにある。
【解決手段】 イオンビーム照射装置１０は、基板１２を上流側から下流側に搬送する搬送ステージ１８と、イオンビームＩＢを搬送ステージ１８に配置された基板１２に照射するイオンガン２０と、上流側と下流側に配置されたマスク２２，２４と、下流側のマスク２４に設けられ、上昇傾斜可能なブレード２６と、上流側のマスク２２とブレード２６とで形成され、イオンビームＩＢを通過させるスリット２８と、を含む。 （もっと読む）

【課題】
着色がなく可視光に対する高い透過率を有し、適正な現像条件の範囲が広いので、目的とする形状の硬化樹脂パターンを容易に形成でき、さらに架橋基を有するので耐薬品性に優れた硬化樹脂パターンが形成できる新たな感放射線性樹脂組成物と、それを用いて形成された、硬化樹脂パターンを提供する。
【解決手段】
活性メチレン基および活性メチン基からなる群から選ばれる少なくとも１種の基を有する不飽和化合物から導かれる構成単位（ａ１）と、光および／または熱の作用により反応する基を有する不飽和化合物から導かれる構成単位（ａ２）とを含む共重合体（Ａ）ならびにキノンジアジド化合物を含有する感放射線性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】 駆動電圧の上昇を生じることなく、また焼き付きの発生率を低減することが可能で、さらにはプロジェクタ等の光変調装置に用いた場合にも劣化が生じ難い配向層を備えた液晶装置を提供する。
【解決手段】 本発明の液晶装置は、一対の基板１０，２０間に液晶層５０を挟持してなる液晶装置であって、前記一対の基板１０，２０の各液晶層５０側に配設された電極９，２３と、これら電極９，２３の少なくとも一方の液晶層５０側に配設された配向層１１（２１）とを備え、前記配向層１１（２１）が、自身の表面形状によって液晶分子の配向を規制するものであり、且つ透光性の導電材料にて構成されてなることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】
ステンレス基材に対する濡れ性が良好な、ＴＦＴの絶縁膜などの透明な硬化樹脂パターンを形成するために用いられる感放射線性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】
硬化性を有するアルカリ可溶性樹脂（Ａ）、キノンジアジド化合物（Ｂ）および溶剤（Ｃ）を含有する感放射線性樹脂組成物において、溶剤（Ｃ）中に、式（１）で表される化合物および乳酸アルキル（該アルキル基は、炭素数１〜４のアルキル基を表す。）を含む感放射線性樹脂組成物。
Ｒ^１−Ｏ−［ＣＨ（ＣＨ_３）ＣＨ_２Ｏ］_ｎ−Ｒ^２ （１）
［式（１）中、Ｒ^１およびＲ^２は、それぞれ独立して、炭素数１〜４のアルキル基を表す。
ｎは、１〜４の整数を表す。］ （もっと読む）

【課題】大型基板と層間絶縁膜との間に発生する応力を緩和し、大型基板の反りを防止する。
【解決手段】大型基板１００上に導電層１５，１５ｂと層間絶縁膜１３，１４，１９，２５とが交互に積層して複数の素子基板を形成する工程において、大型基板１００に成膜した各層間絶縁膜１３，１４，１９，２５の互いに隣接する素子基板領域１０の境界位置に、大型基板１００の一端から他端へ貫通する分断溝１８０を複数本平行に形成する。各層間絶縁膜１３，１４，１９，２５に分断溝１８０を形成したので、大型基板１００と層間絶縁膜１３，１４，１９，２５との間の応力が緩和され、大型基板１００の反りが解消される。 （もっと読む）

【課題】 液晶材料に対して配向性の高い配向膜を提供すること。
【解決手段】 液晶ポリマーにより形成されており、異方性を有することを特徴とする液晶材料を配向させるための配向膜。
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【課題】 柱、リブ、重ね柱及び絶縁膜の少なくともいずれかを高解像度で作製することができるセル内構造の製造方法等の提供。
【解決手段】 少なくともバインダーを含む感光性組成物を用いて基材の表面に、少なくとも、感光層を形成する感光層形成工程と、光照射手段からの光を受光し出射する描素部をｎ個有する光変調手段により、前記光照射手段からの光を変調させた後に、前記描素部における出射面の歪みによる収差を補正可能な非球面を有するマイクロレンズが配列されたマイクロレンズアレイを通過させた光によって、前記感光層を、露光する露光工程と、該露光工程により露光された感光層を現像する現像工程とを有することを特徴とするセル内構造の製造方法である。該セル内構造が、柱、リブ、重ね柱及び絶縁膜の少なくともいずれかである態様が好ましい。 （もっと読む）

【課題】ＭＶＡモードによる液晶ディスプレイ１において、容易に且つ安価に表示品位の高い液晶デイスプレイを提供すること。
【解決手段】対向する１組の基板間に形成された液晶層の液晶分子の配向方向を複数に制御する突起１６を少なくとも一方の基板に備え、この突起の可視光線領域での透過率が８０％以上であること。突起は、感光性樹脂を用いフォトリソグラフィ法にて形成された突起であること。突起は、フォトリソグラフィ法におけるポストベーク前に紫外線が照射された突起であること。 （もっと読む）

【課題】 着色がなく透過率に優れ、且つ、高さや、基板と接触する角度等の形状が安定した液晶分割配向突起を形成することができる液晶分割配向突起用感光性組成物を提供する。
【解決手段】 エチレン性不飽和化合物、光重合開始剤、アルカリ可溶性樹脂を主成分とする液晶分割配向突起用感光性組成物において、該感光性組成物を膜厚１．７μｍで塗布した感光層に、線幅１５μmの細線パターンを有するマスクを介して波長３６５ｎｍの紫
外光を５０ｍＪ／ｃｍ²で照射し、継いで、２３℃、水圧０．２５ＭＰａのシャワー現像
処理により得られた細線画像の側面と基板平面から形成される接触角を（W1）、該細線画像をさらに２３０℃、３０分の加熱処理を施した液晶分割配向突起状の細線画像の側面と基板平面から形成される接触角を（W2）とした場合、以下の式を満たすことを特徴とする液晶分割配向突起用感光性組成物。
W1／W2≧１．２ （もっと読む）

【課題】 静電気の発生がなく、かつ量産に適した配向処理技術を用いた液晶表示パネル及びその製造方法を提供する。
【解決手段】 ＴＦＴ基板２１上に、光照射によって性質が変化する配向膜２４を形成する工程と、配向膜２４に光を照射して配向性を付与する工程と、ＴＦＴ基板２１を用いて液晶表示パネルを作成する工程とを有する。一方向に長い複数のパターンを各パターンの長手方向が相互にほぼ平行になるように配置した形状を有する領域に光を照射する。 （もっと読む）

露光システムを用いて異方吸収分子で形成された配向層（３０４）を露光して、後で塗布される液晶高分子（ＬＣＰ）の配向を可能にする。配向層に入射する光は偏光される。単一の偏光子（３１８ａ）を用いる場合、方位偏光方向は配向層を担持する基板にわたり変化する。様々なタイプの偏光回転低減素子（３１８ｂ）の導入および光源に対して適当なチルト角を選択することを始めとする、方位偏光変化を低減する様々な手法を採用し得る。さらにまた反射構造を光源と配向層との間に挿入し得る。反射構造の使用は配向層に入射する全光量を増加させるとともに、光源と偏光子との間に挿入した場合には偏光回転も低減し得る。
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【課題】
【解決手段】パターニングされた多層薄膜構造体は、超高速レーザ及び吸収分光法を用いて、多層構造体の下側の層にダメージを与えることなくパターニングされる。この構造体は、熱スペクトル、強度スペクトル及び吸光スペクトルに基づいて除去可能な層を選択し、適切な波長（Λ）、パルス幅（τ）、スペクトル幅（Δλ）、スポットサイズ、バイトサイズ及びフルエンスでプログラムされた超高速レーザを用いることによって形成される。最終の構造体は、最後に設けられた層（頂部層）又は多層構造体内のより下位の層においてパターニングされた構造的特徴（ビア、絶縁領域又はインクジェット印刷された領域など）を有し得、且つ、有機発光ダイオード（OLED）及び有機薄膜トランジスタ（OTFT）の構成要素などのアプリケーションにおいて使用され得る。本発明の方法は、製品のスペックを決定するステップと、基板を提供するステップと、層を選択するステップと、該層を設けるステップと、該層をパターニングするステップと、多層薄膜構造体にさらなる層を追加する必要があるかどうかを判定するステップとを包含する。 （もっと読む）