【課題】可撓性透明基板の上にカラーフィルタのパターンが形成された表示装置用カラーフィルタを、寸法精度良く、大量に製造する方法を提供する。
【解決手段】連続的に繰り出される搬送キャリア上へ枚葉形状の可撓性透明基板を仮固定する工程と、仮固定された可撓性透明基板の表面にカラーパターンを形成する工程と、カラーパターンが形成された可撓性透明基板を加熱処理する工程と、加熱処理された可撓性透明基板と搬送キャリアとを分離する工程とを備える製造方法により表示装置用カラーフィルタを製造した。 （もっと読む）

【課題】２枚の可撓性基板に高分子散乱型液晶を挟持し、反射板と紫外線カットフィルムとが貼り付けられた液晶セルの反りを簡便な方法で防止できる液晶素子の提供すること。
【解決手段】液晶素子１００は、可撓性を有する基板３，６間に高分子散乱型液晶５を挟持した液晶セル１０と、この液晶セル１０の視認側に貼り付けられた紫外線カットフィルム１と、液晶セルの反視認側に貼り付けられた反射板８とを有している。基板３，６と反射板８の線膨張率はほぼ等しくなっており、さらに、紫外線カットフィルム１と同じ材料からなるフィルム９が反射板８の反視認側に貼り付けられている。 （もっと読む）

【課題】２枚の可撓性基板に高分子散乱型液晶を挟持し、紫外線カットフィルムが貼り付けられた液晶セルの反りを簡便な方法で防止できる液晶素子の提供すること。
【解決手段】液晶素子１００は、可撓性を有する基板３，６間に高分子散乱型液晶５を挟持した液晶セル１０と、この液晶セル１０の視認側に貼り付けられた紫外線カットフィルム１とを有しており、紫外線カットフィルム１と同じ材料からなるフィルム９が液晶素子１００の反視認側に貼り付けられている。 （もっと読む）

【課題】調光薄膜を提供する。
【解決手段】本発明が提供する調光薄膜は、調光液晶層と、高分子複合材料層と、感圧接着剤と、表面構造層と、抗輻射処理層と、粘着層と、を含み、該調光液晶層は、２つの高分子複合材料層間に設けられ、所定電源と接続でき、且つ高分子複合材料層は、基底とするポリエチレンテレフタレート、及び二層の複層体を有し、そのうち１つの高分子複合材料層の表面に抗輻射処理層を有し、該輻射処理層表面上に粘着層を形成し、上記の構造を所定透明ガラス上に貼付し、高分子複合材料層の構造が損傷を受け難くする機能を有し、粘着層を介して所定ガラスに粘着する方式によって簡単に実装、修理、更新することができ、且つ上記の構造は、抗紫外線、隔熱、良好な透光性、損傷を受け難い、省電力で環境保護に適合した特性も有する。 （もっと読む）

【課題】液晶ディスプレイ用ガラス基板の要求項を満足し、Ａｓ₂Ｏ₃やＳｂ₂Ｏ₃を含有せず、優れた耐ソラリゼーション性を備えた無アルカリガラスを提供する。
【解決手段】無アルカリガラスは、アルカリ金属酸化物（Ｒ₂Ｏ）、Ａｓ₂Ｏ₃、Ｓｂ₂Ｏ₃を実質的に含有せず、質量％で、ＳｉＯ₂ ５０〜７０％、Ａｌ₂Ｏ₃ １０〜２０％、Ｂ₂Ｏ₃ ９〜１５％、ＭｇＯ ０〜２．５％、ＣａＯ ６．５〜１５％、ＳｒＯ ３〜１０％、ＢａＯ ０〜３％、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ １０〜１８％、ＳｎＯ₂ ０．０５〜１％を基本組成として含有し、紫外線の照射前後での波長４００ｎｍにおける透過率（肉厚０．７ｍｍ）の差が０〜２％、１０^2.5ポイズに相当する温度が１５６０℃未満、密度が２．５０ｇ／ｃｍ³未満であることを特徴とする。 （もっと読む）

薄いフィルムの電子デバイスを製造する方法は、湿式の鋳造工程を使用することで剛性のキャリア基体へプラスチックのコーティングを設けること、プラスチックのコーティングが、プラスチックの基体を形成すること並びに透明なプラスチックの材料及びＵＶを吸収する添加物を具備することを具備する。薄いフィルムの電子デバイスは、プラスチックの基体に形成されると共に、剛性のキャリア基体は、プラスチックの基体から剥離される。この発明は、ＵＶ吸収体での基体のプラスチックの材料のドーピングを通じた、レーザー剥離工程に適切な透明な基体の材料を作る方法を提供する。このＵＶ吸収体は、非常に高い吸収でリフトオフレーザーの波長（例のために、３０８−３５１ｎｍ、又は３５５ｎｍ）において吸収する。
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【課題】液晶層の劣化を防止する機能を長期に亘って維持し易く、組み付けコストも低下させ易い液晶ディスプレイパネルを提供する。
【解決手段】板面を互いに対向させて配置してある一対のガラス基板１，２の間に液晶層３を設け、液晶層の外周部を封止するシール材４を一対のガラス基板の間に設けてある液晶ディスプレイパネルであって、一対のガラス基板のうちの少なくともバックライト側に配置されるバックライト側ガラス基板１を、紫外線透過能と熱膨張率とが低下するように選択した組成からなるガラス基板で構成してある。 （もっと読む）

【課題】透明性が高く、可撓性に優れ、温度変化に対する寸法変化が小さい、各種の光学基板として好適に使用可能な透明多層シートを提供する。
【解決手段】有機材料を含有し、平均線膨張率が５０ｐｐｍ／Ｋ以下である層（Ａ層）と、有機材料を含有し、引っ張り弾性率が１ＧＰａ以下である層（Ｂ層）とを少なくとも備えてなるとともに、１００μｍ厚換算での全光線透過率が６０％以上であり、ヘーズが２０％以下である。 （もっと読む）

【課題】本発明は、重合性成分を含有する液晶層を基板間に封止し、液晶層に電圧を印加しながら重合性成分を重合して液晶配向を安定化させるポリマーを用いたプレチルト角付与技術を用いて液晶の配向方位を規制して、広い視野角が得られると共に、中間調の応答時間を短くできる液晶表示装置を提供することを目的とする。
【解決手段】対向配置された２枚の基板２０、３０間に、液晶分子のプレチルト角および駆動時の傾斜方向を規定するポリマーを含んだ液晶層２４が封止されている。液晶層２４に電圧を印加しながら液晶層２４中に混合された重合性成分を固化してポリマーを形成する際に液晶分子がパターン長手方向に配向するように、スペース１０の幅よりパターン幅の方が広く形成された複数のストライプ状電極パターン８が配列している。 （もっと読む）

【課題】レーザ切断方法において、高スループット、低コスト、高精度で基板を切断するレーザ切断方法を提供する。
【解決手段】少なくとも一対の基板１，１８を貼り合せた重ね基板を切断する方法であって、前記重ね基板１，１８の切断位置に沿って当該基板１，１８の相互間に、当該各基板１，１８を透過する波長の光を吸収する性質を持ったパターン部材２１を配設し、基板１，１８を透過する波長のレーザをパターン部材２１に沿って照射し、これによって前記重ね基板１，１８を前記パターン部材２１に沿って切断すること。 （もっと読む）

【課題】より簡略化したプロセスで自在に形成することができる光の屈折率が変化した層を備えた基板、このような基板を備えた電気光学装置および電子機器、基板の製造方法、電気光学装置の製造方法を提供すること。
【解決手段】液晶表示装置２０は、一対の基板１，２と、一対の基板１，２によって挟持されシール材３によって封着された液晶４と、２つの防塵ガラス１１，１２とを備えている。一対の基板１，２と光が入射する側の防塵ガラス１２の内部に集光点を結ぶようにレーザ光を照射して多光子吸収を発生させ、各基板１，２，１２の内部に表示領域Ｄを囲むように額縁状にそれぞれ遮光性を有する改質層７，８，１３を形成した。各改質層７，８，１３は、各基板１，２，１２の液晶４側に面する表面から僅かに離間した位置を始点として形成した。 （もっと読む）

【課題】優れた光学特性とフィルム成形可能な力学特性とを有するポリアリレートを提供する。
【解決手段】下記一般式（１）または（２）で表わされる構造を有するポリアリレート。
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【課題】反射画素電極に適性な凹凸が形成されることにより良好な反射特性を有し表示品質の高い反射型液晶表示装置を高歩留りで得る。
【解決手段】ＴＦＴアレイを形成する基板として透明もしくは着色されたＵＶカットガラスで構成された絶縁性基板１を用い、この絶縁性基板はＵＶ光に対して不透過な状態に処理されており、ＴＦＴや電極配線上に形成され表面を平坦化する層間絶縁膜１１を構成する感光性樹脂の露光時に、感光性樹脂に吸収されなかったＵＶ光が基板を透過し、基板ホルダーからの反射光等の不適当な光となって感光性樹脂を感光させるのを防止する。 （もっと読む）

【課題】 第１の電極基板に紫外線硬化型シール剤を形成し、シール剤で囲まれた基板表面に液晶を滴下し、前記第１の電極基板と第２の電極基板を真空中で貼合わせ、前記シール剤に紫外線を照射して硬化させる工程において、液晶組成物及び配向膜の分解または劣化を防止して高表示品質及び高信頼性な液晶表示素子の製造方法を提供する。
【解決手段】 シール剤に紫外線を照射して硬化させる工程において、液晶組成物の複屈折をΔｎとするとき、Δｎが０．０８未満のときには３３０ｎｍ以下、Δｎが０．０８以上のときには６３０×Δｎ＋２８０ｎｍ以下の波長領域の光線を除去した紫外線を照射して硬化させる。 （もっと読む）

【課題】複雑な駆動回路が不要であり、応答特性が優れた液晶表示装置を提供する。
【解決手段】画素毎に画素電極１２０が設けられたＴＦＴ基板１１０と、コモン電極１３３が設けられた対向基板１３０と、ＴＦＴ基板１１０及び対向基板１３０間に封入された液晶１４０とを有する液晶表示装置において、画素電極１２０に印加する電圧が第１の電圧（例えば黒表示電圧）から第２の電圧（例えば白表示電圧）に変化したときに、液晶分子の配向状態の変化に伴って透過率が最大透過率まで上昇した後に、第２の電圧に応じた安定時の透過率まで減少することを利用して、応答時間（立ち上がり時間）の短縮を図る。 （もっと読む）

【課題】有機膜による不良を防止する。
【解決手段】基板１１０の表示領域Ａには薄膜トランジスタが形成され、薄膜トランジスタ上及び基板の周辺領域Ｂには有機膜が形成されている。画素電極は、表示領域の有機膜上に形成され、薄膜トランジスタと接続され、画素電極と同一層の基板の周辺領域に有機膜遮断部材１９９が形成され、周辺領域の有機膜上に、画素電極を取り囲む封止材３１０を備えている。画素電極形成時に有機膜露出領域にＩＴＯからなる有機膜遮断部材を形成することによって、UVを利用した仕上げ封止材工程において生じやすい有機膜不良を除去することができる。また、有機膜と接触している液晶の汚染を防止することができる。 （もっと読む）

外側パネル（５２）、内側パネル（５４）、光透過制御層（５６）および衝撃吸収層（５８）を備えた不透明性調節可能な窓（５０）が提供される。外側パネル（５２）と内側パネル（５４）は、それらの間に空洞（６０）を提供し、前記光透過制御層および衝撃吸収層が該空洞内に配される。該衝撃吸収層は、前記光透過制御層を支持および保護する可撓性シート（６２）である。光透過制御層は、液晶セル（６６）で構成される。該セルの透過率は、可変制御が可能である。 （もっと読む）