半透過型表示装置は、デュアルギャップ構造を規定するために、絶縁層（２０）に形成された孔又は凹部（３０）を有している。孔又は凹部の少なくとも一つの側壁（７２）は共通基板の面に実質的に垂直であり、少なくとも一つの側壁（７０）は共通基板の面に垂直な面に対して傾斜している。このようにして、孔又は凹部の一部が垂直となるので、画素開口の損失がない。また、孔又は凹部の側壁の別の部分は傾斜しているので、この傾斜した側壁において良好なカバレージを得ることができる。
（もっと読む）

【課題】 反射面の凸凹形状を反射のし易い形状とすること。
【解決手段】 基板上に感光性を有する絶縁性樹脂を形成する工程と、前記樹脂表面に凸凹を形成するためのパターンが形成されたフォトマスクを用いて前記絶縁性樹脂を露光する工程と、露光された前記樹脂を現像する工程と、前記凸凹が形成された樹脂上に反射用の表示電極を形成する工程を備える表示用基板の製造方法において、露光工程は、前記フォトマスクの樹脂残存用パターンの周囲に樹脂の周囲に傾斜面を形成するための樹脂残存用補助パターン５３を形成したフォトマスク５を用いることを特徴とする。 （もっと読む）