【課題】 マトリクス配線全体の膜厚を増加させることなく、特定の配線の膜厚のみを増加させることで、一部の配線の低抵抗化を図ることができるアクティブマトリクス基板を実現する。
【解決手段】 ガラス基板１３上に形成された信号伝達用配線１５、あるいは補助容量本線１６に対し、ガイド層５１１および補助金属５１２からなる補助配線５１、ガイド層５２１および補助金属５２２からなる補助配線５２を形成する。上記ガイド層５１１および５１２は、画素電極と同一の導電層によって形成され、補助金属５１２および補助金属５２２は、インクジェット方式等の、金属微粒子を吐出または滴下する方式によって形成される。 （もっと読む）

アクティブマトリックスディスプレイに、ディスプレイ基板の上、しかし表示領域（６３）の外側で、ディスプレイの端に沿って延びる、導体ライン（６２ａ，６２ｂ，６２ｃ）が設けられる。これらの導体ラインは、画素のアレイを定義する薄膜層に追加される、少なくとも１つの層（９０）を備える。行ドライバ回路および／または列ドライバ回路は、表示領域（６３）の外側で共通基板に設けられた、導体ラインに接続する部分（４０，５０）を有する。専用の処理を、導体ラインのために用いて、低抵抗のラインを形成することができる。これらは、行または列ドライバ回路の、共通基板への集積化または実装を助ける。
（もっと読む）

【課題】　配線抵抗による電圧降下の影響や画素への信号の書き込み不良や階調不良などを防止し、より高画質のＥＬ表示装置や液晶表示装置を代表とする表示装置を提供することを課題とする。
【解決手段】　本発明はＥＬ表示装置や液晶表示装置を代表とする表示装置に用いられる電極や配線として、Ｃｕを有する配線を設ける。また、該配線のＣｕを主成分とする導電膜は、マスクを用いたスパッタ法により形成する。このような構成により、電圧降下や信号のなまりを低減することができる。 （もっと読む）