【課題】シール材の硬化不良に伴うシミの発生の問題が解消された液晶表示装置を実現する。
【解決手段】本発明の液晶表示装置は、互いに対向配置されたアレイ基板１およびＣＦ基板２と、アレイ基板１とＣＦ基板２との間に設けられた液晶層６と、液晶層６を連続して取り囲むように配されているとともに、アレイ基板１およびＣＦ基板２を結合するように配されたシール材３と、アレイ基板１の表面の一部に設けられたメタル配線４と、アレイ基板１上における、シール材３とメタル配線４との間に設けられた透明膜とを備え、透明膜は、異なる材料で形成された少なくとも二層を含み、上記少なくとも二層のそれぞれは、シール材３とメタル配線４との間に配されている。 （もっと読む）

【課題】良好な電気的接続を確保できる信号線引き回し配線と走査線引き回し配線との間
の透明導電性部材を用いたブリッジ接続を提供すること。
【解決手段】第１引き回し配線１６ａと第２引き回し配線１６ｂとの配線切り替え領域に
おいて、第１絶縁膜１７と第２絶縁膜２０を貫通して第１引き回し配線１６ａの表面を露
出させるコンタクトホールが複数個配設された第１コンタクトホール群２４と、第２絶縁
膜４を貫通して信号線引き回し配線１６ｂの表面を露出させるコンタクトホールが複数個
配設されてなる第２コンタクトホール群２５とを形成し、それらコンタクトホール群２４
、２５を被覆する接続電極２３で第１引き回し配線１６ａと第２引き回し配線１６ｂとを
ブリッジ接続する。 （もっと読む）

【課題】電極の引出し加工が容易であり、かつ大電流を流すことが可能な画像表示素子を提供する。
【解決手段】前面パネル１と、これに対向する裏面パネル２と、前面パネル１及び裏面パネル２間に配置された複数の画素と、画素を制御する複数の電極とを有し、前面パネル１と裏面パネル２が画素及び電極を挟んで貼り合わされて構成され、金属膜配線５を介して電極を駆動回路に接続する画像表示素子において、裏面パネル１は電極端子４が露出するように分割されると共に、この分割部分に断面Ｖ字型の溝部３が形成され、金属膜配線５は裏面パネル１の上部の面に形成されており、電極端子４と金属膜配線５は、溝部３を構成する傾斜面に沿って塗布された導電ペースト１０により接続され、電極端子４と導電ペースト１０の接続部の界面には接触抵抗低減手段が設けられている。 （もっと読む）

【課題】 高精細化によって配線間のピッチが小さくなった場合であっても、ＩＣドライバと接続する端子の面積、および端子におけるコンタクトホールのための所定の面積を確保でき、配線のパターニングを可能とした表示装置の提供。
【解決手段】 表示領域内に走行する複数の信号線が端子配線を介して前記表示領域外に形成された端子群の各端子に引き出され、前記各端子は、隣接するもの同士で端子配線の走行方向にずれをもって配置された少なくとも第１端子と第２端子とを有する表示装置であって、
第１端子および第２端子は、それぞれ、透明導電膜をコンタクトホールの形成領域外における端子配線に重ねて延在させ、かつ、コンタクトホールの形成領域における端子配線の幅よりも狭い幅を有して構成させている。 （もっと読む）

【課題】工程を単純化することのできる酸化物薄膜トランジスタを備えた表示素子及びその製造方法を提供する。
【解決手段】表示素子は、第１基板１２０及び第２基板１４０と、第１基板の画素領域に形成され、ゲート電極１２１、ゲート絶縁層１２６、酸化物半導体層１２２、並びにソース電極１２３及びドレイン電極１２４からなる薄膜トランジスタと、第１基板のゲートパッド領域に形成されたゲートパッド１１８、及び第１基板のデータパッド領域に形成されたデータパッド１１９と、ゲートパッド領域のゲート絶縁層上に形成され、コンタクトホールを介してゲート電極に接続する金属層１５５と、第１基板の全体にわたって形成された保護層１２８と、画素領域の保護層に形成された画素電極と、ゲートパッド領域に形成された第１透明導電層１２９ａ及びデータパッド領域に形成された第２透明導電層１２９ｂと、基板間に形成された液晶層１３０とから構成される。 （もっと読む）

【課題】金属配線と金属酸化物を有する層を形成する際、電蝕といわれる腐食の発生をおさえることにより、半導体装置の動作特性および信頼性を向上させ、歩留まりの向上を実現することを目的とする。
【解決手段】配線は、耐酸化性金属からなる第１の層と、その上に形成されたアルミニウムもしくはアルミニウムを主成分とする第２の層と、その上に形成された耐酸化性金属からなる第３の層からなる３層構造とし、前記配線と電気的に接続する金属酸化物を有する層を有する。また、第２の層の上面及び下面は第１及び第３の層と接し、側面は酸素とアルミニウムを含む酸化層と接する。 （もっと読む）

【課題】電気光学装置用基板における意図しないエッチングに起因する影響を抑制し、電
気光学装置に好適な電気光学装置用基板を提供する。
【解決手段】電気光学装置用基板（２００）は、基板（２１０）と、基板上に形成された
透光性を有する絶縁層（２２０）と、絶縁層上に配設された導電性パターン（２３０）と
を備える。該導電性パターンは、絶縁層上に所定の厚さに積層された第１金属層（２３２
）と、第１金属層の上層側に積層され、モリブデンを含んでなる第２金属層（２３１）と
を有し、第１金属層は、フッ素系ガスによりエッチングされる度合いが、フッ素系ガスに
より第１金属層がエッチングされる度合いに比べて小さく、且つ塩素系ガスによりエッチ
ングされる度合いが、塩素系ガスにより前記絶縁層がエッチングされる度合いに比べて大
きい金属を含んでなる。 （もっと読む）

【課題】デマルチプレクサ方式を採用した電気光学装置において、高品位な表示を行う。
【解決手段】電気光学装置は、Ｍ本毎にブロック化された複数のデータ線（６ａ）と、該複数のデータ線に夫々対応する複数のスイッチ（７１）を含み、ブロック毎に１本のデータ線を、選択信号に応じて選択して、画像信号をその選択したデータ線に出力する選択回路（７）とを備える。更に、複数のデータ線の配列方向に沿って延びる配線部分を夫々有しており、選択信号が夫々供給されるＭ本の選択信号供給線（ＳＬ１〜ＳＬ８）と、複数のデータ線の配列方向に交わる方向に沿って夫々延びると共に、スイッチの選択信号入力線（７１Ｇ）及び選択信号供給線の前記配線部分に夫々電気的に接続されており、互いに同じ膜構成、配線長及び配線幅を有する複数の引出配線（Ｈ１〜Ｈ８）とを備える。 （もっと読む）

【課題】高透過率と低抵抗を兼備した優れた特性を備え、高品位な画像を得ることができる透明導電性基板、及び電気化学表示素子を提供する。
【解決手段】透明基板と、透明基板の上に形成されたパターン化された金属電極膜と、金属電極膜を含む透明基板の上に形成された透明絶縁膜と、透明絶縁膜の上に形成された透明導電膜と、を備え、透明導電膜は、透明絶縁膜に設けられた開口部を通して金属電極膜に電気的に接続されている透明導電性基板であって、金属電極膜のパターン形状は、縦横にそれぞれ延在する縦パターンおよび横パターンからなる格子状に形成されている。 （もっと読む）

【課題】ＦＦＳ方式の液晶表示装置において平坦化膜やＦＦＳ絶縁膜の剥がれを防止する
ことができ、信頼性に優れた高品質な液晶表示装置を提供する。
【解決手段】非表示領域８における一方の基板１０には、下地導電パターン７０と、平坦
化膜２５を下地導電パターン７０の表面に達するまで開口させた開口部７１ａと、開口部
７１ａの内面の少なくとも一部を覆う第１導電パターン７１と、第１導電パターン７１の
少なくとも一部を覆う絶縁膜２７と、下地導電パターン７０の上面において第１導電パタ
ーン７１を少なくとも覆う第２導電パターン７２と、を備えたコンタクト部２００が設け
られ、コンタクト部２００において、第１導電パターン７１が、下地導電パターン７０上
の平坦化膜２５の縁部２５ｂを覆うように形成されるとともに、絶縁膜２７の縁部２７ｂ
が、下層側の第１導電パターン７１と上層側の第２導電パターン７２とで挟持されている
ことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】抵抗率の低い導電性に優れた透明導電膜を得ることができ、量産ラインに容易に
用いることができる透明導電膜を提供する。
【解決手段】本発明の透明導電膜９は、インジウム−スズ酸化膜９ａ又はインジウム−亜
鉛酸化膜９ｃ、アルミニウム−ニッケル合金膜９ｂ及びインジウム−スズ酸化膜９ａ又は
インジウム−亜鉛酸化膜９ｃが順次積層された３層構造からなることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 基板の周辺領域の金属配線の上に配向膜を有する液晶表示パネルにおいて配向膜のラビング処理時の配向膜の剥離を防止する。
【解決手段】 本発明の液晶表示パネルは液晶層と液晶層を外部から入力される電気信号によって駆動する基板とを有し、基板には液晶層が駆動される画素領域と、画素領域の外側であって外部からの電気信号を伝達する金属配線を備えた周辺領域とを有し、基板の画素領域および周辺領域に配向膜が形成され、周辺領域の金属配線と配向膜との間に金属配線の側部を覆う透明電極層を有する。 （もっと読む）

【課題】外部からの静電気に起因して、ドライバに異常が生じるのを防ぐことができる構造簡単な表示装置を提供する。
【解決手段】複数の画素が設けられた液晶パネル（表示部）を具備し、液晶パネルに情報を表示する液晶表示装置（表示装置）であって、複数の画素を駆動するソースドライバ（ドライバ）２３を備えている。そして、液晶表示装置において、ソースドライバ２３の近傍には、当該ソースドライバ２３と独立して静電気を吸収する吸収体１１を設けた。 （もっと読む）

【課題】ＩＰＳタイプの液晶表示装置において、走査線引出し線に印加されるゲート電圧の影響によって対向基板の内側が帯電し、画面周辺に白抜けが生ずる現象を防止する。
【解決手段】走査線引出し線３１は、対向電極１０８と同層で形成されたシールド電極１０７によって覆われている。走査線引出し線３１はシール材２０の下にも形成されている。シールド電極１０７はシール材２０の下まで延在し、シールド電極１０７の下に形成されている走査線引出し線３１の全数を被覆しているので、シールド効果は高い。また、シール材２０の下に形成されたシールド電極１０７には抜きパターン１０７１が形成されているので、シールド電極１０７と、それをサンドイッチする無機パッシベーション膜１０６および上部絶縁膜１０９との間の接着強度の低下を防止することが出来る。 （もっと読む）

【課題】層間載せ換え部の断線の恐れを軽減させた表示装置を提供すること
【解決手段】表示装置は、第１の電極膜が形成される第１の導電層と、第１の導電層上に設けられる第１の絶縁層と、第１の絶縁層上に設けられ第２の電極膜が形成される第２の導電層と、第２の導電層上に設けられる第２の絶縁層と、前記第２の絶縁層及び前記第１の絶縁層を貫通して前記第１の電極膜に至る１または複数の第１の孔と、前記第２の絶縁層を貫通して前記第２の電極膜に至る１または複数の第２の孔とを含む。前記第１の孔と前記第２の孔はあわせて少なくとも３つ以上であり、前記第１の孔及び前記第２の孔の前記少なくとも３つを接続する前記第２の絶縁層上の領域に導電膜が形成される。 （もっと読む）

【課題】良好な表示品位を維持することが可能な信頼性の高い液晶表示装置を提供することを目的とする。
【解決手段】 アレイ基板２００は、アクティブエリア１２０に配置された第１信号配線ＳＧ１及び第１信号配線とは異なる電位の第２信号配線ＳＧ２を含む信号配線と、シール材１１０で囲まれた内側のアクティブエリア外の変換部ＴＬにおいて第１信号配線及び第２信号配線とそれぞれ電気的に接続された第１接続配線ＣＮ１及び第２接続配線ＣＮ２を含む接続配線と、を備えている。対向基板３００は、アクティブエリア外に延在し第１接続配線と第２接続配線とで挟まれる領域に対向する切欠部ＣＴが形成された対向電極３３０と、アクティブエリア外に配置され樹脂によって形成された遮光層ＢＭＸと、を備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】液晶装置等の電気光学装置において、カラーフィルタを平坦化膜と共に、素子基板側に備えつつ、接続端子による良好な電気的な接続を図る。
【解決手段】電気光学装置は、基板（１０）上に、画像表示領域（１０ａ）に形成されたカラーフィルタ（２６）と、平坦化膜（２７）と、画像表示領域の周辺領域における、外部との間で信号を入出力される接続端子（１０２）とを備える。平坦化膜は、接続端子の表面が露出されるように除去されていると共に、接続端子の縁部分において画素領域に比べて薄く形成されている、又は除去されている。 （もっと読む）

【課題】 ヒロック等の発生による障害が発生することがなく、十分な信頼性を確保することが可能なアレイ基板及び画像表示装置を提供する。
【解決手段】 第１配線層、第２配線層１７、第３配線層１９を有し、信号線が第２配線層１７及び第３配線層１９により構成されるとともに、最下層の第１配線層の一部が薄膜トランジスタのゲート電極１５を構成している。外部接続用のＯＬＢパッド４が最上層の第３配線層１９の一部により形成されており、ＯＬＢパッド４と接続される引き出し配線が第２配線層１７により形成されている。 （もっと読む）

【課題】ＩＰＳタイプの液晶表示装置において、走査線引出し線に印加されるゲート電圧の影響によって対向基板の内側が帯電し、画面周辺に白抜けが生ずる現象を防止する。
【解決手段】表示領域を構成する画素部Ａにおいて、平面状に形成された対向電極１０８の上に絶縁膜１０９を介して画素電極１１０が配置されている。走査線引出し部Ｃにおいて、領域Ｃの幅を小さくするため、走査線引出し線は、別層に形成された、第１走査線引出し線３１１と第２走査線引出し線３１２で構成されている。走査線引出し線は、対向電極１０８と同層で形成されたシールド電極１０７によって覆われている。シールド電極１０７はシール材２０の下まで延在しているので、シールド効果は高い。また、シール材２０とシールド電極１０７の間に絶縁膜１０９が存在しているので、シール効果を損なうことは無い。 （もっと読む）

【課題】有機層間絶縁膜を有する液晶表示装置では、コンタクトホールの形成とシール部分の開口を同一プロセスで行うとシール部のゲート配線が露出し、配線材料の腐食によりシール材とゲート配線の接着力が低下した。この問題を回避するためには、２回のフォトリソグラフィ工程が必要となり、製造コストが増大した。
【解決手段】薄膜トランジスタが形成された画素部と画素部周辺に配置されたシール部を備えた第１の基板と、第１の基板に対向する第２の基板と、第１の基板と第２の基板との間に充填された液晶層とを有し、第１の基板と第２の基板がシール部に設けられたシール材により接着された液晶表示装置の製造方法であって、薄膜トランジスタを構成する半導体層を形成する工程と、シール部に半導体層と同一材料からなる半導体接続層を形成する工程を含み、半導体層を形成する工程と半導体接続層を形成する工程とを同時に行う。 （もっと読む）