【課題】 実装端子の狭ピッチ化において、ＣＯＧ実装等の位置合わせ誤差マージンを、従来よりも大きくできる実装端子基板を提供する。具体的には、従来よりも大きな開口部を有する実装端子構造を提供する。また、このような実装端子基板を用いた表示装置を提供する。
【解決手段】 ガラス基板１上に千鳥配置で列をなす実装端子３と、実装端子３に接続され、絶縁膜４で覆われたゲート配線２と、実装端子３上の絶縁膜４が除去された開口部５を有し、列方向の実装端子３間にゲート配線２が配置される。実装端子３は大きさの異なる下層導電膜６及び上層導電膜７からなり、上層導電膜６の列方向の幅ｅ１は、開口部５に露出する下層導電膜６を覆うように下層導電膜６の列方向の幅ｄ１よりも大きく設けられ、かつ、開口部５の列方向の幅ｈ１以下である。 （もっと読む）

【課題】波状ノイズが発生せず高画質を実現する液晶表示装置用アレイ基板を得る。
【解決手段】基板の上部に相互に交差して形成され画素領域を定義するゲート配線及びデータ配線と、前記ゲート配線及びデータ配線間の絶縁膜と、前記ゲート配線から延長されたゲート電極と、前記絶縁膜の上部のアクティブ層と、前記アクティブ層の両一端に別々に隣接して第１物質で構成されるオーミックコンタクト層と、前記オーミックコンタクト層の上部に、前記第１物質と相異なる第２物質で構成されるバッファ層と、前記バッファ層の一方いずれかと接触するソース電極と、前記バッファ層の他方他のいずれかと接触するドレイン電極とを有する前記画素領域のトランジスタを含み、前記アクティブ層は、前記ゲート電極の上部でアイランド状に形成されて、前記ゲート電極の周辺によって定義される境界部内に形成される。 （もっと読む）

【課題】ＡｌまたはＡｌ合金膜から形成された電極や配線と透明電極層とを直接接触させることができ、かつ、信頼性、生産性に優れた半導体デバイスを提供すること。
【解決手段】本発明にかかる透明性導電膜は、Ｉｎ_２Ｏ_３、ＳｎＯ_２およびＺｎＯから実質的に構成される透明導電性膜であって、モル比Ｉｎ／（Ｉｎ＋Ｓｎ＋Ｚｎ）が０．６５〜０．８であり、かつ、モル比Ｓｎ／Ｚｎが１以下であるものである。当該透明導電性膜はＡｌまたはＡｌ合金膜から形成された電極や配線と良好な電気的コンタクト特性を有する。また、当該透明導電性膜と、ＡｌまたはＡｌ合金膜から形成された電極や配線とを備ええる半導体デバイスは、信頼性、生産性に優れる。 （もっと読む）

【課題】引き回し配線間に大きな容量が寄生せず、かつ、引き回し配線の引き回し領域が占有する面積を狭めることのできる電気光学装置、電子機器、および電気光学装置の製造方法を提供すること。
【解決手段】液晶装置１の素子基板において、複数本のゲート引き回し配線１ｘが平行な平行配線領域１ｇでは、ゲート引き回し配線１ｘを一本おきに、層間絶縁膜４ｓの下層側に形成された第１メタル配線３ｓとし、他の１本おきのゲート引き回し配線１ｘについては層間絶縁膜４ｓの上層側に形成された第２メタル配線６ｓとする。第１メタル配線３ｓと第２メタル配線６ｓとの間の平面的なスペース幅Ｓは、第１メタル配線３ｓのライン幅Ｌ１および第２メタル配線６ｓのライン幅Ｌ２のいずれよりも狭く、例えば０である。 （もっと読む）

【課題】大画面用の液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）の作製に好適なパターン形成方法及びＴＦＴアレイ基板並びに液晶表示素子の提供。
【解決手段】走査方向に対し、描素部の列方向が所定の設定傾斜角度θをなすように配置された露光ヘッドを用い、使用描素部指定手段により、使用可能な前記描素部のうち、Ｎ重露光（ただし、Ｎは２以上の自然数）に使用する前記描素部を指定し、描素部制御手段により、前記使用描素部指定手段により指定された前記描素部のみが露光に関与するように、前記描素部の制御し、前記ポジ型感光層に対し、前記露光ヘッドを走査方向に相対的に移動させて露光を行う露光工程等を含むパターン形成方法である。 （もっと読む）

【課題】本発明は、プリント配線基板（ＰＷＢ）を無くすとともに、配線の高抵抗化およびそれを原因とする電源電圧の低下や信号の劣化を解消でき、ひいてはモジュールサイズの縮小及び軽量化を実現し、さらに低コストの表示モジュールを提供することを課題とする。
【課題手段】本発明に係る表示モジュールは、表示基板を有する表示パネル、前記表示パネルの表示基板６１の一側縁に該一側縁に沿って形成され駆動用電源電圧および信号を供給するための複数の駆動供給配線６８ａ、該表示パネルを駆動するために、該表示パネルの表示基板６１の一側縁に沿って実装された複数の駆動回路基板６５、及び、前記複数の駆動回路基板６５ごとに設けられるとともに所望の駆動供給配線６８ａから各駆動回路基板６５に駆動用電源電圧および信号を供給すべく前記駆動回路基板６５と駆動供給配線６８ａとを接続する接続配線７６を備えることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】電極と金属配線との接触抵抗を低減した表示装置およびその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る表示装置Ａは、透明基板１と、透明基板１上に形成された透明電極と、上記透明電極の一部として形成された端子部２ａと、端子部２ａに導通接続される金属配線６とを備えた表示装置であって、端子部２ａの金属配線６との接触部７には、金属あるいは金属化合物で構成された金属粒５ａが離散的に分布されており、接触部７の金属粒５ａが分布されていない部分が、凹状に形成されていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】熱可塑性フィルムを熱圧着する際に生じる薄膜電極へのダメージを抑制する画像表示媒体およびその製造方法を提供する。
【解決手段】画像表示媒体１００は、液晶等からなる表示層１０１と、表示層１０１を挟んで対向配置された、透明な第１および第２の薄膜電極１０２、１０３を有する透明な第１および第２の基板１０４、１０５と、第１および第２の薄膜電極１０２、１０３表面に形成された外部と電気的な接続を行うための第１および第２の取出電極１０６、１０７と、第２の基板１０５と第１の取出電極１０６との隙間に充填された第１の充填部材１０９と、第１の基板１０４と第２の取出電極１０７との隙間に充填された第２の充填部材１１０と、構成部分全体を覆うように形成された熱可塑性フィルム２００と、を有して概略構成される。 （もっと読む）

【課題】液晶表示装置のＴＦＴ基板を製造する際に、ホトマスクの枚数を減らして、製造プロセスを簡略化する。
【解決手段】ガラス基板上に、第１のホトマスクを用いて、ゲート配線ＧＬと共通電極ＣＯＭを形成する。次に、第２のホトマスクを用いて、ドレイン配線ＤＬと画素電極ＰＸを形成する。最後に、第３のホトマスクを用いて、ゲート配線端子ＧＴとドレイン配線端子ＤＴを形成する。 （もっと読む）

【課題】横電界方式で駆動され、ＣＯＧ技術で他の電子部品が実装される液晶表示装置において、ＣＯＧ技術の高密度化を可能とすることである。
【解決手段】液晶表示装置の表示パネル１４は、表示部１６と、水平ドライバＬＳＩ３０が接続される接続端子部１８とを有する。表示部１６の下側の透明パネル基板４０は、下ガラス基板１００の上に、バッファ層１０２、ＴＦＴ形成層１１０、画素電極層１６０、中間絶縁層１７０、スリット１８９を有する共通電極層１８０等が順次積層される。接続端子部１８においては、接続配線１４０，１４１，１４２が配置され、その上に中間導電体層が配置される。中間導電体層は、画素電極層１６０と同じ工程で形成される第１導電体層１６２，１６４と、共通電極層１８０と同じ工程で形成される第２導電体層１８１とが、隣接する接続配線の間で交互に配置される。 （もっと読む）

【課題】入出力配線やゲート配線などのように、長い距離にわたって形成されるような配線を低抵抗化し、動作性能の高い半導体装置を提供する。
【解決手段】画素部に形成されたゲート配線、若しくは駆動回路と外部入力端子とを電気的に接続する入出力信号配線、を有し、前記ゲート配線若しくは前記入出力配線は、前記第１及び第２の薄膜トランジスタのゲート電極と同一層で且つ同一材料からなる第１配線と、前記第１配線の上に形成された第２配線と、を有し、前記第２配線は、前記第１配線よりも抵抗率が低い材料を用いる。 （もっと読む）

【課題】ＵＶシールの液晶層への溶出を防止し表示品位を向上した液晶パネルを提供する。
【解決手段】ＵＶシール５と液晶層４との境界部5aにＵＶシール５を硬化させるＵＶ光が透過可能な透過部を設ける。透過部のスリット部を通過して、境界部5aに充分なＵＶ光を確実に照射できるので、境界部5aに位置するＵＶシール５を確実に硬化させることができ、ＵＶシール５の液晶層４への溶出を防止でき、この溶出の防止により、表示品位を向上できる。 （もっと読む）

【課題】駆動ドライバから、複数本の信号線を並列的に配置した配線材を介して表示デバイスに表示データを供給する場合に、この配線材内のインダクタンス成分の影響のバラつきによる輝度ムラを目視しにくく、または目視することができない程度にまで低減する。
【解決手段】配線材５１を経由した後の表示データＤ１〜Ｄ５を伝送する信号線２ａ〜２ｅの配列を、配線材５１内のインダクタンス成分の影響が相対的に大きい信号線を経由した表示データとインダクタンス成分の影響が相対的に小さい信号線を経由した表示データとが表示デバイス１の隣り合う画素Ｐまたは画素群に互い違いに供給されるように入れ替える。 （もっと読む）

【課題】配線材料間の亀裂、断線による製品不良の減少、生産の歩留まり向上に寄与する積層構造の製造方法を提供する。
【解決手段】酸化インジウムを含む各種透明導電薄膜とモリブデン金属薄膜からなる積層構造であって、透明導電薄膜及びモリブデン金属薄膜をそれぞれスパッタリングで成膜する時の放電ガス圧力を調整して、二つの膜に生じる内部応力の差を１６００ＭＰａ以下にすることで、界面で生じる応力を低減し亀裂、断線の発生を抑制する。 （もっと読む）

【課題】絶縁樹脂にて接着された基板と電子部品の実装構造体若しくはこれを備えた電気
光学装置において、絶縁樹脂の接着力の低下に起因する導電接続不良の発生を抑制するこ
とにより、実装構造の電気的信頼性を向上させる。
【解決手段】本発明の電気光学装置１００は、電気光学物質が配置されてなる基板１１１
を有し、前記基板上に電子部品１２０が実装されてなり、前記基板上に設けられた導電体
１１７ａ、１１８ａと前記電子部品に設けられた電極１２４とが直接若しくは間接的に導
電接続され、前記基板と前記電子部品とが絶縁樹脂１１９Ａにより接着されてなり、前記
絶縁樹脂中には、前記基板又は前記電子部品の前記絶縁樹脂が接着される部分の熱膨張係
数に対して前記絶縁樹脂を構成する樹脂基材１１９ａよりも近い熱膨張係数を備えた素材
で構成されるフィラー１１９ｆが混入されている。 （もっと読む）

【課題】コスト増を招くことなく配線を形成する。
【解決手段】複数層の膜４１、４７及び４２、４７が積層されてなる配線を基板Ｐに形成する。複数層の膜のうち、少なくとも二層の膜をそれぞれ液相法で塗布する工程と、少なくとも二層の膜を一括して焼成する工程とを有する。 （もっと読む）

【課題】表示装置において、低抵抗材料を配線に用いることが望まれてきたが、これまでは、有効な配線形成の手段が存在しなかった。
【解決手段】第１の導電膜を形成し、第１の導電膜上に選択的にレジストを形成し、第１の導電膜及びレジスト上に第２の導電膜を形成し、レジストを除去すると共にレジスト上に形成された第２の導電膜を除去し、第１の導電膜上に形成された第２の導電膜を覆うように第３の導電膜を形成し、第１の導電膜及び第３の導電膜を選択的にエッチングし、複数の配線及び電極を形成する。これにより、大型パネルに低抵抗材料を用いた配線を形成することができるため、信号遅延等の問題を解決できる。 （もっと読む）

【課題】データ配線の構造の工夫により有機薄膜トランジスタの特性を向上させる表示装置、及びその簡単な製造方法を提供する。
【解決手段】本発明による表示装置は、ＩＴＯまたはＩＺＯから成るソース電極とドレイン電極との対とは別に、金属から成る低抵抗のデータ配線が備えられている。本発明による表示装置の製造方法は、ゲート絶縁膜の上に透明電極物質層とデータ配線物質層とを順番に積層し、同じ感光膜を利用して透明電極物質層とデータ配線物質層とを続けてパターニングする。 （もっと読む）

【課題】
導電層の損傷を防ぐことができるを配線基板とその製造方法並びに表示装置を提供すること。
【解決手段】
本発明の一態様にかかる配線基板は、ガラス基板１０と、ガラス基板１０上に設けられた庇状のソース配線と、ソース配線２を覆うように設けられた層間絶縁膜８と、層間絶縁膜８の上に設けられ、ソース配線２の庇状の箇所の上に配置された画素電極６と、前記第１の導電層の庇状の部分に対応する箇所に設けられたテーパー状の塗布絶縁膜２１とを備えるものである。 （もっと読む）

【課題】工程を単純化することと共に開口率を増加させることのできる液晶表示装置及びその製造方法を提供する。
【解決手段】透明な第１導電層１０１と不透明な第２導電層１０３が積層された二重構造のゲートライン１０２と、ゲートライン１０２と交差し、画素領域を定義するデータライン１０４と、ゲートライン１０２及びデータライン１０４と接続された薄膜トランジスタと、ゲートライン１０２と並行して第１導電層１０１と第２導電層１０３を有する共通ライン１２０と、画素領域に共通ライン１２０の第１導電層１０１が延長され形成された共通電極１２２と、薄膜トランジスタと接続され、画素領域に共通電極１２２と水平電界を成すように形成された画素電極１１８とを備えることを特徴とする。 （もっと読む）