【課題】 ラビングすじの発生を抑えた導電パターンを備えた液晶装置、液晶装置の製造方法を提供する。
【解決手段】 所定方向からラビング処理が施してある基板における、配向膜が形成されていない領域に存在する導電パターンを、導電パターンの延在方向に対して直交する面で切断した断面形状が、基板と対向している下辺と、下辺と対向している上辺と、上辺の一方の端部に交差する第１の側辺と、上辺の他方の端部と下辺の一方の端部とに交差する第２の側辺と、下辺の他方の端部と第１の側辺とに交差する第３の側辺とを含む所定形状であるとともに、第１の側辺は所定方向に対向する側に位置しており、下辺の延長線と第１の側辺の延長線とのなす角度（θ１）が、下辺と第２の側辺とのなす角度（θ２）よりも小さく、下辺と第３の側辺とのなす角度（θ３）が下辺の延長線と第１の側辺の延長線とのなす角度（θ１）よりも大きくしてある。 （もっと読む）

【課題】低抵抗の銅を電極や配線材料として用いる場合に、水分やレジスト剥離液に対する耐酸化性を向上でき、しかもエッチング剤などに対する耐酸性を向上できる電子機器用基板及びその製造方法を提供することと、そのような電子機器用基板を備えた電子機器の提供。
【解決手段】少なくとも表面が絶縁性である基板３６上に銅層（銅配線）４０ａを形成し、該銅層（銅配線）４０ａをリン化銅、ホウ化銅、シュウ化銅のうちから選択されるいずれかの銅化合物層４０ｂによって被覆したことを特徴とする電子機器用基板３１を用いた液晶表示装置（電子機器）３０。 （もっと読む）

【課題】接着性が向上し、伝導性に優れた配線及びその形成方法とこれを用いて形成された薄膜トランジスタ基板及びその製造方法を提供する。
【解決手段】 配線は、酸化反応性金属またはシリサイド化反応性金属、及び銀を含む接着層と、前記接着層上に形成される銀導電層と、前記銀導電層上に形成され、前記酸化反応性金属及び前記銀を含んで形成される保護層とを有する。 （もっと読む）

【課題】
表示装置用の検査装置１の周囲が高湿度であってもリークせず、誤動作を低減することができる表示装置用の検査装置を提供する。
【解決手段】
本発明に係る表示装置用の検査装置１は、点灯試験用基板１１と、液晶表示装置２０の電極端子２３ａ〜２３ｊに接続するために点灯試験用基板１１上に形成された接続端子１１１ａ〜１１１ｋと、点灯試験用基板１１上に形成され、接続端子１１１ａ〜１１１ｋに電気的に接続された試験信号入力用端子１１２ａ〜１１２ｄ、１１３ａ〜１１３ｄとを備え、この試験信号入力用端子を介して接続端子に電圧を印加することにより、液晶表示装置２０の点灯試験を行う検査装置である。ヒータ１４が、点灯試験用基板１１上に取り付けられており、接続端子１１１ａ〜１１１ｋに熱を供給する。 （もっと読む）

【課題】アクティブマトリクス型の液晶表示装置に代表される電気光学装置ならびに半導体装置において、ＴＦＴを作製する工程数を削減して製造コストの低減および歩留まりの向上を実現することを目的としている。
【解決手段】基板上に逆スタガ型のＴＦＴ上に無機材料から成る第１の層間絶縁層と、第１の層間絶縁膜上に形成された有機材料から成る第２の層間絶縁層と、前記第２の層間絶縁層に接して形成された画素電極とを設け、前記基板の端部に他の基板の配線と電気的に接続する入力端子部とを有し、該入力端子部は、ゲート電極と同じ材料から成る第１の層と、画素電極と同じ材料から成る第２の層とから形成されていることを特徴としている。このような構成とすることで、フォトリソグラフィー技術で使用するフォトマスクの数を５枚とすることができる。 （もっと読む）

【課題】不良発生を防止して表示品質を向上させることができるアレイ基板及びその製造方法並びに表示装置を提供する。
【解決手段】表示領域及び該表示領域の周辺に形成される周辺領域を有する基板と、前記表示領域に形成され、ゲート電極、ソース電極、及びドレイン電極を有し、前記ゲート電極は、第１金属膜と、該第１金属膜上に積層される第２金属膜と、該第２金属膜の窒化処理を通じて前記第２金属膜上に形成される第３金属膜とを有するスイッチング素子とを有する。 （もっと読む）

【課題】製造コストを抑えつつ、高精度の電子素子を形成できる電子基板の製造方法および電気工学装置の製造方法並びに電子機器の製造方法を提供する。
【解決手段】配線パターンを有する基板Ｐに対してマスク２２を貼着する工程と、マスク２２の開口部２２ａを介して配線パターンの一部を除去して抵抗素子を形成する工程とを備える。マスク２２は、基板Ｐに貼着される第１フィルム材２２Ａと、第１フィルム材２２Ａに剥離可能に貼り合わされる第２フィルム材２２Ｂとを有する。マスク２２の所定領域に開口部２２ａを形成し、開口部２２ａが形成されたマスク２２を負圧環境下で基板Ｐに貼着する。 （もっと読む）

【課題】密封部材の結合力を向上させるためのアレイ基板及びその製造方法、並びにこれを有する液晶表示パネルを提供する。
【解決手段】複数の画素部が形成された表示領域と、前記表示領域を取り囲む周辺領域とで構成されたアレイ基板において、各々の前記画素部に形成され、ゲート配線とソース配線に電気的に連結されるスイッチング素子と、前記スイッチング素子に電気的に連結される画素電極と、前記周辺領域に形成される金属パターン部と、前記金属パターン部上に形成される画素電極パターン部と、前記画素電極及び画素電極パターン部上に形成される配向膜とを有する。 （もっと読む）

【課題】隣接するファンアウト部間での配線の傾きの非対称性に起因する配線間の抵抗差を低減させることにより高画質化を実現する表示パネルを提供する。
【解決手段】表示パネルの周辺領域の中央付近では第１ファンアウト部と第２ファンアウト部とが隣接している。各ファンアウト部は、ソースパッド部とソース配線との間を接続する扇状の配線群を含む。第１ファンアウト部と第２ファンアウト部とでは各配線の傾きが非対称である。一方、いずれかのファンアウト部では各配線が等抵抗部を含む。等抵抗部では、配線がジグザグパターンを描くことにより配線の実際の長さが長手方向の直線距離より大きく、または配線の幅が他の部分の幅とは異なる。等抵抗部と他の配線部分との間での抵抗差が上記の非対称性に起因する配線間の抵抗差を相殺するので、第１ファンアウト部と第２ファンアウト部とでは各配線の抵抗が実質的に同一である。 （もっと読む）

【課題】 トリミングの実施が容易で、抵抗値の更なる微調整の実施可能な終端抵抗体を有する電気光学装置等を提供する。
【解決手段】 素子基板は、絶縁性を有する下側基板と、その下側基板上の張り出し領域に実装及び形成されたドライバＩＣ及び少なくとも一対の外部接続用配線とを有する。即ち一対の外部接続用配線は、下側基板上に形成された金属単体又は金属化合物よりなる第１導電層と、その第１導電層上に積層された透明導電材料よりなる第２導電層とを有し２層構造をなす。特に、この液晶装置では、下側基板上の一対の外部接続用配線の間にはその一部を用いて作製された配線幅の異なる２つ以上の抵抗体を有する配線パターンが形成されている。よって、少なくとも１つ以上の抵抗体をトリミングすることにより、容易に、当該不具合を解消することが可能な高精度の終端抵抗体を作製することができる。 （もっと読む）

【課題】液晶ディスプレイ、特にリンク部の抵抗バラツキを補償することができる構造の液晶ディスプレイを提供する。
【解決手段】液晶ディスプレイにおいて、ゲートライン、データライン、共通ライン別抵抗バラツキを減少させて信号歪曲を減らすことによって、装置の画質特性を向上させることができるという長所がある。そして、本発明は、簡単にリンク部でのコンタクト孔の個数又はコンタクト孔の大きさを調節することによって、抵抗バラツキを調節して設計自由度を増加させ、工程が簡単かつライン間の距離を確保することができるので、ラビング不良及びパターン不良を低減し、製造歩留まりを増加させるという長所もある。 （もっと読む）

【課題】 電圧が印加された電気回路により発生する電界によって直流電圧が液晶に印加されることを防止し、液晶の劣化を抑える。
【解決手段】 液晶表示装置１において、基板１１と、その基板１１上に設けられ複数の画素電極２を有する画素回路１２と、基板１１上の画素回路１２が設けられた領域外に設けられ画素回路１２に接続された電気回路１３と、画素回路１２及び電気回路１３に対向させて設けられた対向電極４と、基板１１と対向電極４との間に設けられた液晶層７と、電気回路１３と液晶層７との間に位置付けられ電気回路１３上に絶縁層１５を介して設けられた導電層１６とを備える。 （もっと読む）

【課題】 導電膜と配向膜との間に配設される保護膜について、イオン吸着機能を有しつつ、製造プロセスの簡素化に有利となるように膜硬度が制御された液晶装置を提供する。
【解決手段】 液晶装置は、互いに対向する一対の基板１０，２０間に液晶５０を挟持してなる。一対の基板１０，２０のうちの少なくとも一方の基板の内面側には、導電膜９，２１と、イオン吸着性微粒子を含む保護膜４１，６１と、配向膜４０，６０とが順次形成されており、保護膜４１，６１が、メソポーラス構造からなる。 （もっと読む）

【課題】電極配線を低抵抗化して、クロストークの発生を抑制する。
【解決手段】 第１の基板と、前記第１の基板とシール材によって貼り合わされ、前記第１の基板との間に液晶が封入される第２の基板と、前記第１の基板上に第１の方向に延在して複数形成される第１の電極配線と、前記第２の基板上に前記第１の方向に交差する第２の方向に延在して形成される複数の第２の電極配線とを具備し、前記第１及び第２の電極配線の少なくとも一方は、前記第１の電極配線と前記第２の電極配線との交差に対応して構成される画素による表示領域外において、透明導電膜とモリブデン単体金属又はモリブデン合金との多層構造膜で構成されることを特徴とする。 （もっと読む）

本発明は、銅配線または銅電極の表層に銀薄膜を形成して保護する銅配線または銅電極に関する。また、本発明は、上記銅配線または銅電極を用いる液晶表示装置に関する。基板に銅配線または銅電極を形成した後、上記銅配線または銅電極の表層に銀薄膜を形成する場合、上記銀薄膜が銅配線または銅電極を保護することで酸化またはその他、不要な反応に対する銅の抵抗性を強めることによって、銅電極及び配線の性能を良好に保持することができる。
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【課題】 画素面積が減少しても容量比を確保することが可能であると同時に、配線抵抗の低減をも図ることができる電気光学装置の構造を提供する。
【解決手段】 本発明の電気光学装置１００は、一対の基板１１０，１２０と、一対の基板に狭持される電気光学物質１３０と、電気光学物質の一側に配置された画素電極１１４と、画素電極に接続されたスイッチング素子１１７と、電気光学物質を介して画素電極に対向する対向電極１２２と、電気光学物質を駆動する駆動回路１３４，１３５と、基板の駆動領域外に配置され駆動回路と対向電極とを接続する配線１１８とを有し、画素電極に対して電気光学物質とは反対側に対向配置され、画素電極との間に補助容量を構成する容量電極１１２を設け、配線の少なくとも一部は容量電極と同材料で形成された導電層１１８Ｙと他の導電層１１８Ｘとの積層構造を有する。 （もっと読む）

【課題】 液状材料を塗布することにより機能膜を形成する際に、該液状材料の過度の濡れ広がりによるリーク不良を抑制することができる素子配置基板及びその製造方法、該素子配置基板により構成されたカラーフィルタ基板及び配線基板、並びに、該素子配置基板を備えた液晶表示装置を提供する。
【解決手段】 基板上に末広がりの断面形状を有するガイド材（バンク）がパターン形成され、更に基板及びガイド材が光触媒含有膜により被覆された構造を有する素子配置基板であって、上記光触媒含有膜は、ガイド材のパターン間に位置する部分の膜厚の平均値よりもパターンの縁部に位置する部分の膜厚が厚い素子配置基板。 （もっと読む）

【課題】ゲート配線または第一の電極配線間の短絡による歩留りの低下を防止すると共に、比抵抗が小さい材料を用いてゲート配線または第一の電極配線を構成することによりそのパターンを細線化し、高開口率化による低消費電力の液晶表示装置と、それを高歩留りで製造する製造方法、およびそれに用いられるＴＦＴアレイ基板を提供することを目的とする。
【解決手段】ゲート電極とゲート配線、または第一の電極、第一の電極配線、第二の電極が、ＡｌまたはＡｌ合金と、その表面側のＡｌより硬度の高い金属層との二層膜、または多層膜で構成され、それらは、Ａｌより硬度の高い金属膜をブラシ洗浄し、パターニングすることができ、それらの配線間短絡を防止できる。 （もっと読む）

【課題】パッド部が狭小化した場合においても、下層の配線との電気的接続を確保しつつ、検査用触手を用いた検査を行うことができるパッド部を備えた液晶表示装置を提供する。
【解決手段】パッド部３は、配線３１と、配線３１に達するコンタクトホールＣ１が形成された絶縁膜３２と、コンタクトホールＣ１内および絶縁膜３２上に形成された導電膜３３とを有する。コンタクトホールＣ１は、パッド部３の領域内で複数に分割して形成されており、コンタクトホールＣ１の非形成領域における導電膜３３により、検査用触手が接触する接触部Ａｒを確保している。 （もっと読む）

【課題】視認性を安定的に確保し、且つ、開口率を高めて画素不良防止することができる薄膜トランジスタ表示板及びこれを含む液晶表示装置を提供する。
【解決手段】本発明のよる薄膜トランジスタ表示板は基板と、基板上に形成されて第１方向に伸びるゲート線と、データ線と分離されて第２方向に伸びる容量電極と、ゲート線と交差するデータ線と、ゲート線及びデータ線と連結されて、ドレイン電極を有する薄膜トランジスタと、容量電極と重なってドレイン電極と連結される結合電極と、ドレイン電極と連結される少なくとも一つの第１副画素電極と、容量電極と連結されて第１副画素電極と間隙を置いて離れている第２副画素電極を有する画素電極とを含んで成る。間隙は容量電極或いは結合電極と重なる。 （もっと読む）