【課題】マスクデータに対して精度良く容易にマスク検査を行うことができるマスク検査方法を提供すること。
【解決手段】実施形態のマスク検査方法では、基板上に形成する半導体集積回路パターンに対応する原版データを作成する。その後、原版製造プロセスを模擬した原版製造シミュレーションを実施して、前記原版データに対応する原版パターンを原版上に形成した場合の原版パターン形状に関する原版製造パターン情報を導出し、前記原版製造パターン情報が、前記原版製造プロセスに基づいて決められた所定値を満足するか否かを判定する。その後、前記原版の検査に用いる原版検査装置の光学系を模擬した原版検査シミュレーションを実施して、前記原版検査装置が前記原版を検査する際に検出する原版パターン形状に関する原版測定パターン情報を導出し、原版の検査結果が、許容範囲内であるか否かを判定する。 （もっと読む）

【課題】周期性のあるパターン、特に、ＬＣＤ製造用フォトマスクのような基板において、回折光量差によるコントラストからパターン変動発生箇所を精度良く識別し、かつ、その変動発生周期を簡便に導出することによって、むら検査を実施することができるむら検査装置、むら検査方法およびむら判定方法を提供することを課題とする。
【解決手段】回折光量差によるコントラストからパターン変動発生箇所を精度良く識別し、かつ、その変動発生周期を簡便に導出することによってむら検査を実施することができる検査装置およびむら検査方法。 （もっと読む）

【課題】ガラス基板の内部欠陥による蛍光部画像がモヤ状画像でもそのエッジを検出して内部欠陥の検出精度を高める。
【解決手段】マスクブランク用ガラス基板の製造時に、２つの主表面と４つの端面を有するガラス基板を準備する基板準備工程と、いずれかの面から波長２００ｎｍ以下の検査光をガラス基板内に導入して内部欠陥を検出する欠陥検査工程とを有するマスクブランク用ガラス基板の製造方法であって、欠陥検査工程は、いずれかの面から前記ガラス基板を撮影し、当該撮影画像に対して遠隔差分により光量差を求める処理を含む画像処理を行うことで、検査光によって、ガラス基板の内部欠陥から発生する蛍光の有無を判定し、蛍光が無いと判定されたガラス基板を選定する。 （もっと読む）

【課題】欠陥検査と位置精度測定を同時に行い、位置精度測定は、マスク上に位置精度測定用のモニターマークを必要とすることなく、任意のパターンで任意の測定点密度で測定する手法を提供する。
【解決手段】参照画像上の任意の場所に位置精度測定用のモニターパターンを生成し、マスク検査時に取り込まれるマスク画像と参照画像を比較することで、モニターパターンを欠陥として検出し、モニターパターンと対象のマスクパターンの相対位置ずれ量を算出することでパターンの位置精度測定を行う。 （もっと読む）

【課題】大型のフォトマスクの性能評価及び欠陥検査を良好に行うことができるフォトマスクの検査装置及びフォトマスクの検査方法を提供し、これらフォトマスクの検査装置及びフォトマスクの検査方法を用いた液晶装置製造用フォトマスクの製造方法及びパターン転写方法を提供する。
【解決手段】フォトマスク３を保持し、光源１からの所定波長の光束を照明光学系２を介して照射し、対物レンズ系４を介して、撮像手段５によりフォトマスク３の像を撮像する。光源１より発せられた光束は、少なくとも、ｇ線、ｈ線、または、ｉ線のいずれかを含み、あるいは、これらのうち任意の二以上を混合した光束を含み、波長選択フィルタ６を介して、フォトマスク３に照射される。 （もっと読む）

【課題】表面スペックル形成に対するフィルタを提供する一方、コヒーレント光を保持すること。
【解決手段】物体からの放射を検出デバイスに結像する方法。方法は、コヒーレント放射ビームを物体に誘導することと、物体に対する入射面の内側または外側の角度に渡って放射ビームをスキャンすることと、物体からの散乱線を検出デバイスに結像することとを含む。 （もっと読む）

【課題】位相シフタの位相シフト量を一層正確に測定できる位相シフト量測定装置を実現することにある。
【解決手段】シャリング干渉計（６，４４）により、位相シフトマスク（３）の横ずらし干渉画像を形成し、当該干渉画像を2次元撮像装置（１７，４８）により撮像する。2次元撮像装置の各受光素子から出力される出力信号は信号処理装置（１９）に供給され、各受光素子毎に位相シフト量を算出する。受光素子の受光面積は微小であるため、回折光や多重反射光が入射することにより特異的な位相量を出力する受光素子の位相シフト量を除外し、残りの受光素子の出力信号から求めた位相シフト量に基づいて位相シフト量を決定する。 （もっと読む）

【課題】被検査試料のパターン検査の精度を高めること。
【解決手段】被検査試料のパターンの光学画像を取得する光学画像取得部と、光学画像を参照画像により補正処理を含むアライメント処理するアライメント処理部と、アライメント処理部で処理された異なった光学画像同士を比較処理する比較処理部と、を備える、パターン検査装置。 （もっと読む）

【課題】修正が必要なフォトマスクの欠陥を、正確かつ容易に検出することを可能にする。
【解決手段】画像センサ７から、マスクパターンの光透過領域および遮光領域を含む所定領域の光学画像データを取得するデータ取得部１１と、取得した光学画像データから、マスクパターンの形状および欠陥の情報とともに、上記所定領域内での欠陥の数である欠陥の密度を検出する情報検出部１２と、検出したマスクパターンの形状および欠陥の情報と欠陥の密度の情報とに基づいて、情報検出部１２で検出したマスクパターンの欠陥に対する修正の要否の判定を行う演算部１３とを備えている。 （もっと読む）

【課題】極端紫外線リソグラフィ用マスクブランクの欠陥を検査する装置を提供すること。
【解決手段】 マスクブランクの欠陥を検査する装置において、第一の虹彩絞りが光源に位置されて光源から放出される光の照射角を制限し、散乱制限ユニットがマスクブランクから反射したのちの散乱光の散乱角を制限するために暗視野光学ユニットの出射口に位置される。欠陥検出器が光学的に暗視野光学ユニットに結合されており、散乱光の角度分布を生成する。その角度分布を用いてマスクブランク上にみつかった欠陥の重大性の特性評価が行われる。 （もっと読む）

【目的】 参照画像と光学画像との高精度な位置合わせを行う方法および装置を提供することを目的とする。
【構成】 本発明の試料検査装置１００は、フォトマスク１０１の光学画像と参照画像との仮の合わせ位置から、残差２乗和が最小となる位置への位置ずれ量を演算するサブ画素単位ＳＳＤ演算回路３２０と、仮の合わせ位置からの最小二乗法による位置ずれ量を演算する最小二乗法位置ずれ演算回路３２２と、最小二乗法位置ずれ演算回路３２２により演算された位置ずれ量分ずらした位置における残差２乗和を演算する残差２乗和演算回路３２４と、サブ画素単位ＳＳＤ演算回路３２０により得られた最小の残差２乗和と残差２乗和演算回路３２４により得られた残差２乗和とのうち、いずれが小さいかを判定する判定回路３４０と、小さい方の残差２乗和が得られる位置に合わせ位置を補正する位置補正回路３５０とを備えたことを特徴とする。 （もっと読む）