【課題】原版の合否判定の精度を維持しつつ、合否判定に要する時間を短縮できる原版評価方法を提供すること。
【解決手段】Ｎ個のパターンからＮ１個（Ｎ１＜Ｎ）のパターンを選択する際に、予め定めた第１の選択基準に基づいて選択する（Ｓ３）。Ｎ１個のパターンの測定結果に基づいて、Ｎ１個のパターンのそれぞれについて測定値を取得する（Ｓ４）。前記取得した測定値が許容できる値か否かを判断する（Ｓ５）。Ｎ個のパターンのうちＮ１個のパターンを除いた、Ｎ２個（Ｎ１＋Ｎ２≦Ｎ）のパターンを選択する際に、第２の選択基準に基づいて選択する（Ｓ６）。Ｎ２個のパターンに係る画像を取得し、その画像に基づいて、被転写基板上に転写されるＮ２個のパターンに対応する転写パターンの形状を予測する（Ｓ７）。予測した転写パターンの形状が許容できる形状であるか否かを判断する（Ｓ８）。Ｓ５およびＳ８の判断結果に基づいて前記原版を評価する。 （もっと読む）

【課題】ガラス基板の内部欠陥による蛍光部画像がモヤ状画像でもそのエッジを検出して内部欠陥の検出精度を高める。
【解決手段】マスクブランク用ガラス基板の製造時に、２つの主表面と４つの端面を有するガラス基板を準備する基板準備工程と、いずれかの面から波長２００ｎｍ以下の検査光をガラス基板内に導入して内部欠陥を検出する欠陥検査工程とを有するマスクブランク用ガラス基板の製造方法であって、欠陥検査工程は、いずれかの面から前記ガラス基板を撮影し、当該撮影画像に対して遠隔差分により光量差を求める処理を含む画像処理を行うことで、検査光によって、ガラス基板の内部欠陥から発生する蛍光の有無を判定し、蛍光が無いと判定されたガラス基板を選定する。 （もっと読む）

【課題】実際の露光条件を適用したときに、多階調フォトマスクが形成する空間像を推測し、多階調フォトマスクを評価することができる多階調フォトマスクの検査方法を提供すること。
【解決手段】本発明の多階調フォトマスクの検査方法は、透明基板上に透光領域、遮光領域、及び半透光領域を含む転写パターンを備えた多階調フォトマスクの検査方法において、前記転写パターンの解像画像を取得し、前記解像画像に処理を施すことによって、前記転写パターンに所定の露光条件を適用したときに形成される空間像を得て、前記空間像により、前記転写パターンの実効透過率分布を得、実効透過率分布に基づいて評価することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】多重露光技術に用いられるフォトマスクのリソグラフィシミュレーション顕微鏡を用いたパターン欠陥転写特性の評価において、複数回露光で生じるエラー成分を除くことができ、より精度の高いフォトマスクの欠陥転写特性の評価方法を提供する。
【解決手段】同じフォトマスクの同じパターンを異なる２つ以上の照明条件で２回以上に分けて露光し、ウェハ上に1つの転写パターンを形成する多重露光技術に用いられるフォトマスクの欠陥転写特性評価方法であって、リソグラフィシミュレーション顕微鏡を用いて前記フォトマスクの欠陥転写特性を評価するに際し、前記フォトマスクのパターンを前記異なる２つ以上の照明条件を足し合わせて1つに合成した照明条件で1回のみ露光し、前記パターンの転写画像を取得し、該転写画像の欠陥部の光強度および／またはＣＤ値で合否判定することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】同一レイヤーへのダブルパターニング技術において、ウエハ等の試料への露光時に欠陥となりうるパターンについてパターン間の位置関係の評価を可能にするレチクル検査技術を提供する。
【解決手段】ダブルパターニング技術で用いられる二枚のレチクルを検査するレチクル検査装置において、測定対象のパターンの座標情報を入力する座標情報入力機能１０２と、得られた座標情報をもとに前記二枚のレチクルパターンの画像データを取得する画像入力機能１０３、１０５と、前記二枚のレチクルの前記画像データを同一座標について重ね合わせる画像重畳機能１０６と、前記二枚のレチクルのパターン間の位置関係を求める位置関係算出機能１０７と、前記位置関係に基づく前記重ね合わせ精度の指標を割り当て、前記二枚のレチクルの修正の要否を評価する評価機能１０８と、評価した結果を出力する評価結果出力機能１０９とを具備する。 （もっと読む）

【課題】露光機の光学系による要因、光源の分光特性、レジストの現像特性などの諸要因を反映したフォトマスクの評価を可能として、パターン形状の決定、及び、半透過部に形成する膜の素材、または、膜厚の決定が的確に行えるようになされたフォトマスク情報を取得するフォトマスク情報の取得方法を提供する。
【解決手段】露光条件を模した露光条件を再現する露光手段を用いてフォトマスクに露光を行い、このフォトマスクの透過光パターンを撮像手段により取得し、取得された透過光パターンに基づいて透過光パターンデータを得る。 （もっと読む）

【課題】露光機の光学系による要因、光源の分光特性、レジストの現像特性などの諸要因を反映したフォトマスクの評価を可能として、パターン形状の決定及び半透過部に形成する膜の素材、または、膜厚の決定が的確に行えるようになされたフォトマスクの製造方法を提供する。
【解決手段】露光条件を模した露光条件を再現する露光手段を用いて所定パターンが形成されたテストマスクにテスト露光を行いこのテストマスクの透過光パターンを撮像手段により取得し取得された透過光パターンに基づいて透過光パターンデータを得る工程と、透過光パターンデータに基づいて露光条件下における実効透過率を得る工程とを有し、該実効透過率に基づいて、該領域の形状、該領域に形成する膜の素材、または、膜厚を決定する。 （もっと読む）

【課題】フォトマスク自体の精度、及び、半導体露光装置の重ね合わせ精度のそれぞれを独立的に観測でき、ハードマスクプロセス環境を用いることなくマスク製造誤差の検証を行うことが可能となる多重露光技術におけるマスク製造誤差検証方法を提供する。
【解決手段】本発明は、複数のフォトマスクを用いて多重パターンニングを行う多重露光技術におけるマスク製造誤差検証方法であって、非描画領域にグローバル用の位置精度検出マークが設けられた複数のフォトマスク（１、２）と、描画領域にローカル用の位置精度検出マークが設けられた複数のフォトマスク（１、２）と、を用いて露光を行った露光像の、グローバル用の位置精度検出マークによる露光像の重なり具合とローカル用の位置精度検出マークによる露光像の重なり具合とを観測して、フォトマスクの精度及び半導体露光装置の重ね合わせ精度の検証を行う。 （もっと読む）

【課題】パターン付きマスクの欠陥検査において、スキャッタリングバーなどのＯＰＣパターンに由来する微小な無視したい欠陥を除去する検査装置及び検査方法とその検査装置及び検査方法を用いたパターン基板の製造方法を提供する。
【解決手段】第１の像と第２の像とを用いて、ＯＰＣパターンに対応するＯＰＣ領域をマスクするＯＰＣフィルタを生成するフィルタ作成部と、前記第１の像と、前記第２の像との比較結果に対して、高感度で欠陥候補を検出する高感度欠陥候補検出部と、前記第１の像と、前記第２の像との比較結果に対して、低感度で欠陥候補を検出する低感度欠陥候補検出部と、前記ＯＰＣフィルタを用いることによって、前記ＯＰＣ領域では、前記低感度欠陥候補検出部で検出された低感度欠陥候補を欠陥として判定する欠陥判定部とを備える検査装置。 （もっと読む）

【課題】被検査体の検査に並行して、被検査体上における特定の検査を必要とする特定領域の画像データを取得すること。
【解決手段】フォトマスク２を撮像して取得した検査画像データと参照データとを比較して欠陥を検出するフォトマスク２の検査に並行して、画像取り込み部１６によりフォトマスク２上における少なくとも１つの特定領域に対応する特定画像データを取り込んで特定領域メモリ１７に保存し、この特定領域メモリ１７に保存された特定画像データに対して計測検査処理部１９によりパターン線幅の分布計測処理、再検査処理又はパターンと同一パターン同士の比較検査処理のうち少なくとも１つの処理を行う。 （もっと読む）

【課題】基板上にパターン露光し半導体装置を製造するための露光装置に用いるマスクパターンの検査装置において、包含関係にある相異なるマスクパターンの対象基板上での包含の検査が出来るマスクパターンの検査装置を提供する。
【解決手段】マスクパターンのデータを入力する入力手段と、得られたマスクパターンについて転写シミュレーションを実施し対象基板上での画像データを得るシミュレーション手段と、入力手段およびシミュレーション手段から、欠陥のあるマスクパターンの対象基板上の画像データと、パターンが包含関係にある他のマスクパターンの対象基板上での画像データを得、両画像データを同一座標について重ね合わせ、欠陥の発生したパターンについて両マスクパターン間の対象基板上での包含距離を求める包含距離算出手段と、パターン間の包含距離が規定値を満足するか否かを判定する包含判定手段と、判定した結果を出力する出力手段とを有する。 （もっと読む）

【目的】本発明は、電子線ビームを試料に照射して走査し、反射された反射電子を検出・増幅して当該試料の反射電子像を生成する検査装置および検査方法に関し、従来の２次電子像のような端面強調型の画像ではなく、質量強調型の反射電子像によりパターンの形状や異物などの検査を容易かつ高精度に行うことを目的とする。
【構成】 試料上あるいは試料を固定した試料移動台上の較正パターンの反射電子像をもとに反射電子像のゲインとレベルを調整する手段と、調整した後のゲインとレベルをもとに、試料の検査対象の領域の反射電子像を生成する手段とを備える。 （もっと読む）

【課題】 マスクの欠陥の有無を確実に検出し、マスクの欠陥により、一連のワークに不具合が発生するのを防止すること。
【解決手段】 レジストが塗布されたワークにマスクを介して露光光を照射して複数ショット露光し現像処理し、エッチング処理を行った後、形成されたパターンの検査を行うパターン形成方法において、露光・現像処理後であって、エッチング処理の前にマスクを検査する工程を設ける。ここでは、レジストパターンを少なくとも２ショット分取り出し、この内の少なくとも１ショット分のレジストパターンと、検査の基準となるマスタパターンとを比較して上記レジストパターンの欠陥の有無を検査し欠陥個所を抽出する。そして他のレジストパターンについて、上記欠陥個所と同一個所に欠陥が存在するかを検査し、同一個所に欠陥が存在する場合、露光に用いたマスクに欠陥があると判定する。 （もっと読む）

【課題】 露光マスクなどのパターン欠陥の検査において、光学系の変動による影響を抑え、高感度の欠陥検査方法を実現する。
【解決手段】 検査対象画素における光学画像と参照画像の間の変動を基準として、その他の画素における光学画像と参照画像間の変動の類似性を算出する変動類似性算出ステップと、変動類似性に基づいて比較相手としての優先順位を算出する優先順位決定ステップと、光学画像中に存在する設計上同一のパターン同士を相互比較することにより欠陥を検出する相互比較ステップとを備えることを特徴とする欠陥検出方法である。 （もっと読む）

【課題】ステンシルマスクの支持部または梁の側壁に付着する異物を簡単な方法で効果的に検査する方法および装置を提供する。
【解決手段】ステンシルマスク（１０）の表面に対して実質的に垂直に形成された支持枠（１９）または梁（１８）の側壁（２１）を検査する方法であって、撮像手段（４１）をその光軸（３８）がステンシルマスクの表面に対する垂直の方向に対し、所定の角度（θ）で傾斜するように配置し、支持枠または梁の側壁に対し撮像手段の焦点位置を変えた複数の画像を撮影し、複数の画像から支持枠（１９）または梁（１８）の側壁に対する全焦点画像を合成し、全焦点画像を表示手段（５１）により表示する工程を含む、支持枠（１９）または梁（１８）の側壁を検査する方法。 （もっと読む）

【課題】透明基板上に、光透過パターンと、光半透過位相シフトパターンと、遮光パターンを形成したハーフトーン型位相シフトマスク、および疑似欠陥が生じなく、欠陥を検出可能なハーフトーン型位相シフトマスク及びその外観検査方法を提供すること。
【解決手段】透明基板の片面に光透過パターンを形成し、その周りに所定幅で形成の光半透過位相シフト膜の光半透過位相シフトパターンを区画形成し、前記透明基板の他方に光半透過位相シフトパターンの外周部を包囲する遮光膜の遮光パターンを区画形成したハーフトーン型位相シフトマスクで、その検査では、光半透過位相シフト膜は、光半透過位相シフト膜の面側から検査光が反射してなる反射光により、遮光パターンは、遮光膜の面側から検査光が反射してなる反射光により、光透過部は、検査光が透過してなる透過光によりライトキャリブレーションを行った後、検査する外観検査方法。 （もっと読む）

【課題】 数種類の透過率を有し、かつ各々の種類の透過率において寸法の異なるパターンを有するテストマスクにより半透明欠陥に対する欠陥検査装置の検出感度調整することを目的とする。前記テストマスクの製造方法とテストマスクを用いた欠陥検査装置の検出感度調整方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 テストマスクは、数種類の透過率を有し、かつ各々の種類の透過率において寸法の異なるパターンを有するようにしたものであり、テストマスクの製造方法は、ガラス基板上の遮光膜のパターン形成を行う工程と、パターンの遮光膜の膜厚を変える工程と、を備え、前記遮光膜の膜厚を変える工程を繰り返し、テストマスクを作製する。テストマスクをウェハーへ転写し、各種欠陥の保証欠陥寸法と決定し、欠陥検査装置にて、テストマスクにより半透明欠陥に対する欠陥検査装置の検出感度調整する。 （もっと読む）