【課題】レンズ形成の自由度を高めることが可能なマイクロレンズ基板の製造方法、マイクロレンズ基板の製造方法を用いて製造されたマイクロレンズ基板を備えた撮像装置、及びその撮像装置を備えた電子機器を提供する。
【解決手段】マイクロレンズ１４が形成される領域５２２の周囲に反射膜１８を有する下地パターン１７を形成する工程と、下地パターン１７が形成された基板１２上にポジ型の感光性材料で感光層５２を形成する工程と、感光層５２のうちマイクロレンズ１４に対応する領域以外の領域を、感光層５２を挟んで基板１２とは反対側から露光する工程と、露光された感光性材料を現像する工程と、感光性材料の表面を加熱により曲面状に変形させることでマイクロレンズ１４を形成する工程と、を含む。 （もっと読む）

【課題】異なる領域のパターン間に重ね合わせズレを発生させずに、一の領域に微細な狭ピッチパターンを形成すると同時に他の領域に微細パターンを形成する。
【解決手段】第１領域１０１及び第２領域１０２を含む基板１００上に被加工膜１２１を形成した後、各領域間で膜厚が異なる下層レジスト膜１２２及び１２３を形成し、その後、中間層レジスト膜１２４及び上層レジスト膜１２５を形成する。ホールパターン形成用の露光マスクを用いて上層レジスト膜１２５をパターニングした後、それをマスクとして中間層レジスト膜１２４をパターニングし、その後、それをマスクとして下層レジスト膜１２２及び１２３をパターニングした後、それをマスクとして被加工膜１２１をエッチングすることにより、各領域で開口寸法が異なる複数のホール１５１ａ及び１５１ｂを同時に形成する。 （もっと読む）

【課題】ＳｉＣの如き光透過性を有する基板材料上に所望のレジストパターンを精度よく且つ安定に形成することができるマスクパターンの形成方法を提供する。
【解決手段】光透過性を有する半導体基板上に光反射膜を形成する。光反射膜の上にフォトレジストを形成する。半導体基板にフォーカス検出光を照射して光反射膜で反射される反射光に基づいて調整された焦点位置に原盤マスクを介して露光光を照射してフォトレジストを露光する。その後、フォトレジストの露光部分又は露光部分以外の部分を除去することによりフォトレジストにパターニング施す。 （もっと読む）

カラーフィルタ素子のアレイを有する撮像装置を提供するための装置および方法であり、各カラーフィルタ素子は、スペーサーによって互いに分離されている。スペーサーはフィルタ素子を互いに光学的に分離することができる。
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レーザーおよび他の化学放射線のディジタル光源に露光した際の直接硬化による画像生成速度が増加している、改善されたディジタル的に画像を生成させ得る凸版印刷要素。本発明の印刷要素は、感光性樹脂層の下方に反射層を具備し、従って化学放射線の光子は反射層によって吸収されずに反射されて感光層の中に戻り、これによって印刷要素の硬化速度を向上させる。 （もっと読む）