【課題】１液処理が可能であり、耐刷性能が優れた感光層の形成を可能とする感光性組成物、サーマルネガ版用平版印刷版原版、および画像形成方法を提供すること。
【解決手段】下記式（Ｉ）〜（ＩＩＩ）


で表される繰り返し単位を少なくとも含有し、式（Ｉ）、（ＩＩ）および（ＩＩＩ）で表される繰り返し単位の含有量が、それぞれ３〜２０質量％、１５〜４５質量％、および１５〜３５質量％であるアルカリ可溶性樹脂を少なくとも含有する感光性組成物。 （もっと読む）

【課題】環境負荷の少ない現像剤によりネガ型画像形成性要素を画像形成して現像する方法を提供すること。
【解決手段】ネガ型画像形成性要素を画像形成し、次いで、毒性および腐食性が低く、使用後により容易に廃棄できる低ｐＨ有機系炭素現像液を使用して現像することができる。当該現像液は１２未満のｐＨを有し、ａ）窒素含有複素環を含む両性界面活性剤、ｂ）２又は３個以上の窒素原子を有する両性界面活性剤、またはｃ）ａ）の両性界面活性剤およびｂ）の両性界面活性剤を含む。 （もっと読む）

【課題】多成分溶媒溶液の再平衡方法を提供する。
【解決手段】本発明は、光重合性層を有する感光性印刷要素を処理するために有用である溶媒溶液を再平衡させるための方法に関する。溶媒溶液は、洗い流し処理中に感光性印刷要素から剥離される未重合材料およびその他の材料で汚染された状態となり、汚染物質の分離は、使用済み溶媒溶液中の１つ以上の成分の一部も同様に除去する。この方法は、３つ以上の成分を有する溶媒溶液中の成分の割合を再平衡させる。この方法は、汚染物質から分離された再生物を２つ以上の特性について測定するステップと、測定された各々の特性について生成された方程式に基づいて、再生物に添加すべき成分の質量を計算するステップと、再生物に対してこの質量の１つまたは複数の成分を添加して再生物中の成分割合を目標の割合に調整するステップを含む。 （もっと読む）

【課題】保護層及び非露光部の感光層を同時に除去する工程を含み、かつ、水洗工程を含まない現像処理工程を含む平版印刷版の製版においても、ランニング時に、現像カスの発生が少なく、現像性が良好に維持されるという優れた処理安定性を満足するとともに、耐刷性に優れる平版印刷版を製版することができる平版印刷版の作製方法を提供する
【解決手段】（ｉ）親水性支持体、（ｉｉ）（Ａ）重合開始剤、（Ｂ）重合性化合物、（Ｃ）増感色素、及び、（Ｄ）バインダーポリマーを含有する感光層、並びに、（ｉｉｉ）（Ｅ）特定構造の繰り返し単位を有する重合体を含有する保護層をこの順に有する平版印刷版原版を、レーザー露光した後、界面活性剤を含有する現像液の存在下、保護層及び非露光部の感光層を同時に除去する工程を含み、かつ、水洗工程を含まない平版印刷版の作製方法。 （もっと読む）

【課題】所定の組成を有するレジスト層に対して高解像度をもたらしつつも、必要露光量の大幅な増加を抑える。
【解決手段】基板上に、α−クロロメタクリレートとα−メチルスチレンとの重合体を含むレジスト層を形成する工程と、前記レジスト層にエネルギービームを照射することにより、所定のパターンの描画又は露光を行う工程と、酢酸−ｎ−アミルを含む５℃以下の現像剤によって、前記描画又は露光されたレジスト層を現像する工程と、を含む。 （もっと読む）

【課題】本発明は、高エネルギー線、Ｘ線、電子線あるいはＥＵＶ光を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、高感度、高解像性、良好なラインウィズスラフネス、プロセスマージンを同時に満足するレジストパターン形成方法及びそれに用いる現像液を提供する。
【解決手段】架橋反応によりネガ化する、ネガ型化学増幅レジスト組成物を用いてレジスト膜を形成する工程、該膜を露光する工程、露光後に有機溶剤を含む現像液を用いて現像する工程をこの順で有するレジストパターンの形成方法において、現像液が有機溶剤として、露光前のレジスト膜に対して良溶媒となる溶剤（Ｓ−１）及び露光前のレジスト膜に対して貧溶媒となる溶剤（Ｓ−２）を含有し、沸点について、溶剤（Ｓ−２）＞（Ｓ−１）の関係を満足することを特徴とするレジストパターン形成方法及びそれに用いる現像液を提供する。 （もっと読む）

【課題】高集積かつ高精度な電子デバイスを製造するための高精度な微細パターンを安定的に形成するために、レジストパターンの面内均一性（ＣＤＵ）及び欠陥性能に優れ、また処理液の使用量を低減できるレジストパターンを形成し得る化学増幅型レジスト組成物によるパターン形成用の処理液及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】有機溶剤に可溶な樹脂と有機溶剤とを含有する化学増幅型レジスト組成物によるパターン形成用の処理液、及びそれを用いたレジストパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】露光処理、現像処理を行って形成したレジストパターンをスリミング処理する際に、スリミング処理後のレジストパターンの線幅のばらつきを低減させることができるレジストパターンのスリミング処理方法を提供する。
【解決手段】基板上に形成したレジストパターンをスリミング処理するレジストパターンのスリミング処理方法において、レジストパターン上にレジストパターンを可溶化する反応物質を塗布し、次に予め決定された熱処理条件で熱処理し、次に現像処理することによって、レジストパターンにスリミング処理を行うスリミング処理工程と、スリミング処理工程前にレジストパターンの線幅を測定する第１の線幅測定工程とを含む。第１の線幅測定工程で測定した線幅の測定値に基づいて熱処理条件を決定する。 （もっと読む）

【課題】現像性に優れ、高感度であり、しかも高耐刷かつ耐汚れ性（経時後の耐汚れ性も含む）が良好な平版印刷版を提供できる平版印刷版原版を提供する。
【解決手段】支持体上に一層以上の層を有する平版印刷版原版であって、
前記一層以上の層の一つは、（Ａ）開始剤化合物、（Ｂ）重合性化合物及び（Ｃ）バインダーポリマーを含有する感光層であり、
前記一層以上の層のうちの前記支持体と接する層が、（Ｄ）（ａ１）双性イオン構造を有する繰り返し単位と、（ａ２）前記支持体の表面と相互作用する構造を有する繰り返し単位、とを有する共重合体を含有することを特徴とする平版印刷版原版。 （もっと読む）

【課題】高品質の平版印刷版を作製することが可能な平版印刷版を作製できる自動現像装置とその方法を提供する。
【解決手段】支持体上の画像記録層が画像露光された平版印刷版原板４を炭酸イオン、炭酸水素イオン及び水溶性高分子化合物を含有する水溶液の満たされた現像槽２０に浸漬した状態で非画像部の除去が行われる浸漬型平版印刷版用自動現像装置２において、処理パスラインを形成する浸漬型の現像槽２０と処理パスライン外に設けた外部タンク５５との間で上記水溶液からなる現像液を浸漬型の現像槽２０の液面を一定に保つように循環させるようにした。
【代表図】図１ （もっと読む）

【課題】ラインエッジラフネスが低減され、更に寸法均一性も高いパターンが形成する方法、該方法に用いられる樹脂組成物及び該方法に用いられる現像液を提供する。
【解決手段】脂環式炭化水素構造を有し、分散度が１．７以下であり、かつ酸の作用により極性が増大する樹脂を含有する、活性光線又は放射線の照射により、ネガ型現像液に対する溶解度が減少する、レジスト組成物を塗布する工程、露光工程、および、ネガ型現像液を用いて現像する工程、を含むことを特徴とするパターン形成方法、該方法に用いられるレジスト組成物及び該方法に用いられる現像液及びリンス液。 （もっと読む）

【課題】密なパターン領域を持つフォトマスクであっても、電子線露光時のｆｏｇｇｉｎｇの影響を排し、現像条件の最適化を行うことが出来る現像ローディング測定方法を提供することを目的とする。
【解決手段】あらかじめ、ｆｏｇｇｉｎｇが発生しない露光方法によりレジスト膜を露光し、前記レジスト膜の未露光部を電子線で露光することにより、電子線露光時のｆｏｇｇｉｎｇの影響を抑えながら、密なパターン領域を形成することが出来る。このため、電子線露光時のｆｏｇｇｉｎｇの影響を受けず、現像することが出来、現像ローディングを正確に評価することが可能となる。 （もっと読む）