【課題】
携帯機器向けのような小さい液晶製品の基板部品であっても、正確なマスクの位置を設定することができる。
【解決手段】
基板の画像情報を取得するために、マスク部に対して複数種の透過光を照射し、マスク部の透光窓を介して取得された透過光を画像情報に変換し、変換された画像情報において、マスク部の遮蔽線の幅は、所定の透過光を透過した、画面表示画面の隣り合う同一色の画素に対応するパターンの間に位置するパターンを覆うように設定されたものである。 （もっと読む）

【課題】露光工程のスループットを高め、基板の複数のパターン形成領域に互いに異なるパターンを露光できるようにする。
【解決手段】シート基板Ｐの露光装置であって、シート基板Ｐを走査方向Ｄ１に移動する基板駆動装置１０と、マスクＭ１〜Ｍ３を保持して上面ＭＢａに沿って移動するマスクステージＭＳ１〜ＭＳ３と、駆動対象のマスクステージＭＳ２の走査方向Ｄ２の位置情報を計測する干渉計３３ＸＡ，３３ＸＢと、この計測結果に基づいて、マスクステージＭＳ２を走査方向Ｄ２に移動する駆動装置と、マスクステージＭＳ１〜ＭＳ３の走査方向Ｄ２の位置を相互に入れ替えるステージ入れ替え装置２４と、を備える。 （もっと読む）

【課題】 例えばロール・ツー・ロールで搬送される帯状の感光性基板への走査露光にかかるスループットの向上を達成する。
【解決手段】 本発明の露光装置は、感光性を有する基板（ＳＨ）を走査方向（Ｙ方向）に沿って移動させる移動機構（ＳＣ）と、マスク（Ｍ）を保持し、基板の走査方向への移動に対応して、走査方向に沿って往復移動するステージ機構（ＭＳ）と、ステージ機構に保持されたマスク上に照明領域（ＩＲ）を形成する照明光学系（ＩＬ）と、照明領域内のパターンの走査方向に倒立した第１投影像を基板上の第１結像領域（ＥＲ１）に形成する第１結像系、及び照明領域内のパターンの走査方向に正立した第２投影像を第１結像領域から走査方向に間隔を隔てた第２結像領域（ＥＲ２）に形成する第２結像系を有する投影光学系（ＰＬ）と、を備える。 （もっと読む）

【課題】 帯状の感光性基板への走査露光にかかるスループットの向上。
【解決手段】 本発明の露光装置は、感光性基板（ＳＨ）を走査方向（Ｙ方向）に沿って移動させる移動機構（ＳＣ）と、第１マスク（Ｍ１）を保持して第１の向き（＋Ｙ方向）に移動する第１ステージ（ＭＳ１）、及び第２マスク（Ｍ２）を保持して第２の向き（−Ｙ方向）に移動する第２ステージ（ＭＳ２）を有するステージ機構と、第１マスク上に第１照明領域（ＩＲ１）を形成する第１照明系（ＩＬ１）、及び第２マスク上に第２照明領域（ＩＲ２）を形成する第２照明系（ＩＬ２）を有する照明光学系と、第１照明領域内のパターンの倒立像を第１結像領域（ＥＲ１）に形成する第１結像系（Ｇ１，Ｇ３）、及び第２照明領域内のパターンの正立像を第２結像領域（ＥＲ２）に形成する第２結像系（Ｇ２，Ｇ３）を有する投影光学系（ＰＬ）と、を備える。 （もっと読む）

【課題】基板の一面を複数の露光領域に分けて露光するプロキシミティ露光装置を小型化する。
【解決手段】基板１を支持するチャック１０と、マスク２を保持するマスクホルダ２０と、チャック１０を移動するステージと、マスクホルダ２０を移動するマスクホルダ移動装置とを設け、ステージによりチャック１０をＸ方向（又はＹ方向）へ移動して、基板１の露光領域のＸ方向（又はＹ方向）への変更を行い、マスクホルダ移動装置によりマスクホルダ２０をＹ方向（又はＸ方向）へ移動して、基板１の露光領域のＹ方向（又はＸ方向）への変更を行う。露光領域をＹ方向（又はＸ方向）へ変更する際は、マスク２より大きな基板１をＹ方向（又はＸ方向）へ移動する必要が無く、マスク２がマスク２より大きな基板１の上方でＹ方向（又はＸ方向）へ移動される。従って、露光装置のＹ方向（又はＸ方向）の寸法を小さくすることができる。 （もっと読む）

【課題】同一の被露光体に対する複数種の露光パターンの形成効率を向上する。
【解決手段】被露光体８を矢印Ａ方向に搬送しながら、各露光パターンに対応する複数種のマスクパターン群を被露光体８の搬送方向に所定間隔で並べて形成したフォトマスク１１の第１のマスクパターン群１２を使用して行う被露光体８の第１の露光領域９に対する露光が終了すると、フォトマスク１１を被露光体の搬送速度に同期して移動して第１のマスクパターン群１２から第２のマスクパターン群１３に切り替え、フォトマスク１１のマスクパターン群の切り替えが終了すると、該フォトマスク１１の移動を停止して第２のマスクパターン群１３により被露光体８の第２の露光領域１０に対する露光を実行し、被露光体８の搬送方向に所定間隔で設定された複数の露光領域毎に異なる露光パターン２４，２５を形成する。 （もっと読む）

【課題】マスクのパターンを小型化できる露光方法を提供する。
【解決手段】本発明の露光方法は、Ｘ方向に周期性を有するパターンが形成されたマスクＭＡのパターン領域Ａ１〜Ａ４に対して照明光を周期的にパルス照射し、そのパターンを介した照明光によってプレートを露光する照明工程と、その照明光のパルス照射の各周期に、Ｘ方向におけるそのパターンのパターン周期に応じて、プレートをＸ方向に対応する移動方向へ移動させる移動工程と、を含む。 （もっと読む）

【目的】本発明は、電子ビーム露光装置および電子ビーム露光方法に関し、マスクのパターン間のピッチを整数倍にしマスクの貫通孔と貫通孔との間の強度低下による変形や亀裂の発生を無くすと共にウェハへの露光のスループットを向上させることを目的とする。
【構成】パターン群中で繰り返し配列したパターンについて、ピッチを整数倍にしたパターンを形成したマスクと、マスクをウェハに近接して配置した状態で、マスク上のパターンのピッチの整数分の１づつずらしてマスクを順次移動させる第１の移動機構と、第１の移動機構でマスクを移動させた各位置で、電子ビームでマスク上のパターンをウェハに露光する露光手段と、第１の移動機構および露光手段でウェハへの露光が完了した後、次のショット位置にウェハを移動させる第２の移動機構とを備え、第２の移動機構でウェハを次のショット位置に移動させた状態で、第１の移動機構および露光手段で処理を繰り返す。 （もっと読む）

【課題】膜厚の異なる透過部と反射部を含む着色画素を形成するための露光を、フォトマスクに透過率低減処理を施すことなく、低コストで行うことを可能とする露光方法、露光装置、及び半透過型液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法を提供すること。
【解決手段】光透過部用開口パターンと、この光透過部用開口パターンよりも大きい光反射部用開口パターンとを有するフォトマスクを用いて、光源からの光を、最初に前記光透過部用開口パターン又は光反射部用開口パターンのいずれか一方を通して前記基板上に形成された感光性着色樹脂層の前記光透過部形成領域又は光反射部形成領域のいずれか一方に照射し、次いで前記基板を前記光透過部用開口パターン又は光反射部用開口パターンの他方に対応する位置に移動させて、前記光透過部用開口パターン又は光反射部用開口パターンの他方に部分的に重ねて照射。 （もっと読む）

【課題】部分ごとに加工量が異なる形状を一度の露光で容易に加工できる加工装置および加工方法を提供する。
【解決手段】ＳＲ光のＸ線を放射するＳＲ光源と、ＳＲ光源から放射されたＸ線を透過する所定の形状の透過部を有するＸ線マスク３２と、Ｘ線マスクと材料とを相対的に移動させ、透過口を透過したＸ線が材料に照射される領域を振動させるために、Ｘ線マスクと材料とを相対的に振動させる露光用ステージとを備える。Ｘ線マスク３２には、７つの透過口１０３Ａ〜１０３Ｇが形成されている。これらはすべて、同心円でそれぞれの境界が区切られている。Ｘ線マスク３２を振幅ｄで方向Ｘおよび方向Ｙに移動させると、単位時間当りに材料に照射されるＸ線に粗密差が生じ、一度の露光で部分的に加工量が異なる３次元の形状に加工する。 （もっと読む）

【課題】基板の露光時間を短縮することができる基板露光方法を提供する。
【解決手段】基板露光はまず、ステージに露光しようとする基板を配置し、基板を複数の露光領域に分け、露光領域のうち基板の一辺に隣接したいずれか１つの第１領域にマスクを配置し、マスクの上部で基板の一辺に対応して露光器を配置し、基板の第１領域を基板の一辺に対して垂直である第１方向に沿ってマスクとステージを移動させながら第１方向に対して反対である第２方向に沿ってスキャン露光し、マスクを第２方向に沿って移動させ、ステージを第１方向に沿って移動させながら基板の第１領域と第２方向に沿って隣接した基板の第２領域を第２方向に沿ってスキャン露光する。 （もっと読む）

【課題】被露光基板をプロキシミティ露光する露光装置の露光運転時間を短縮することのできる露光方法を提供する。
【解決手段】被露光基板よりサイズの小さいマスクを用いると共に被露光基板の露光領域を複数に分割し、かつ被露光基板に対するマスクの位置を露光ステップ毎に変更して被露光基板をプロキシミティ露光する方法であって、被露光基板をプロキシミティ露光する前に被露光基板とマスクとのギャップ量を被露光基板の全露光領域にわたって計測し、被露光基板をプロキシミティ露光するときに予め計測したギャップ量が所定値以下のところは被露光基板に対するマスクのギャップ量が所定値以上になるようにする。 （もっと読む）

【課題】 反射防止効果が大きい無反射構造を、Ｘ線リソグラフィを用いて高精度に製造するための製造方法、特にレンズ面などの曲面上にも高精度に無反射構造を形成する方法を提供する。
【解決手段】 Ｘ線マスクを介して、光学素子となるべき基板にＸ線を露光する第１の露光工程と、Ｘ線マスクと基板との少なくとも一方を移動させて、両者の相対的な位置関係を変更した後、Ｘ線マスクを介して露光された基板にさらにＸ線を露光する、少なくとも１回以上の第２の露光工程と、露光された基板を現像する現像工程とを備え、Ｘ線マスクは、Ｘ線透過領域の一つを基本パターンと、基板上に形成すべき無反射構造に対応する仮想的なＸ線透過領域の配置を全体パターンとしたとき、基本パターン同士が隣接しないように配列されたマスクパターンを有し、第１の露光工程および第２の露光工程を含む複数回のＸ線露光により、基板上に全体パターンに対応するパターンを露光する。 （もっと読む）