【課題】基板上にパターンの像を良好に形成することができるマスクを提供する。
【解決手段】所定軸Ｊ周りに回転しつつ基板Ｐ上にパターンＭＰの像を形成するためのマスクＭであって、パターンＭＰが形成され、所定軸Ｊ周りに配置されたパターン形成面ＭＦと、パターン形成面ＭＦの所定領域にパターンＭＰに対して所定位置関係で形成された位置情報を取得するためのマークとを備えている。前記マークは、前記パターン形成面ＭＦの周方向に連続的もしくは断続的に形成されている。 （もっと読む）

【課題】電子線露光システムによる露光描画中に環境変動が生じた場合における生産性の低下を防止する。
【解決手段】回転ステージ３１上に載置されたディスク状記録媒体用の原盤８を回転ステージ３１を回転させることにより回転させつつ、原盤８に電子線を照射してディスク状記録媒体の原盤パターンを描画する際に、環境の異常に関する情報に基づいて描画を一時的に停止させる共に、停止した際の原盤の回転角度を記憶し、その後、記憶されている回転角度に基づいて原盤上の描画停止位置から描画を再開する。 （もっと読む）

【課題】ステージの回転により生じる液体の波（液面の乱れ）や気泡の影響を受けることがない回転傾斜露光装置を提供すること。
【解決手段】モータ２２により回転するステージ２１上に、マスクＭをレジストＲに密着させたワークＷが置かれ、これらが液体容器３０の液体中に浸されている。光出射部１０から出射する露光光は液体容器３０の底面から入射し、この露光光の光軸に対しステージ２１の表面は斜めに配置される。このため、ワークＷのレジストＲは斜め方向からの光により露光され、レジストＲにはマスクＭのパターンに応じた円錐や角錐状の立体形状のパターンが形成される。液体中にワークＷを浸しているので、大気中で露光するよりレジストＲの表面に緩やかな斜面を形成することができ、また、液体容器３０の底面（側面でもよい）から光を入射させているので、液面の乱れや気泡の影響を受けることがない。 （もっと読む）

【課題】帯状の基板に表示素子を効率的に製造できること。
【解決手段】本発明の態様にかかるマスク移動装置は、パターンを有するマスクを保持して該マスクを移動させるマスク移動装置であって、円筒状に形成され、所定の円筒面に沿って前記マスクを保持する保持部と、前記円筒面の円周方向に沿って前記保持部を回転させる駆動部と、を備え、前記保持部は、前記保持部が保持する前記マスクの前記パターンを前記保持部の内側に露出させる第一開口部と、前記第一開口部と対向し、前記パターンから前記第一開口部を介して前記保持部の内側に発した光を前記保持部の外側へ通過させる第二開口部と、が形成されている。 （もっと読む）

【課題】帯状の基板にデバイスを効率的に製造できる露光装置を提供すること。
【解決手段】所定の円筒面に沿ってパターンを有するマスクを円筒面の円周方向に回転させつつパターンを基板に転写する露光装置であって、パターンのうち円筒面の第一領域に位置する第一部分パターンの像を第一投影領域に投影する第一投影光学系と、パターンのうち第一領域から円周方向に沿って間隔を置いた第二領域に位置する第二部分パターンの像を、第一投影領域と異なる第二投影領域に投影する第二投影光学系と、マスクの円周方向への回転に同期して、第一投影領域及び第二投影領域を経由するように基板を搬送する基板搬送装置と、を備え、搬送装置は、第一投影領域と第二投影領域との間における基板の搬送経路の経路長を調整する経路調整装置を含む。 （もっと読む）

本発明の実施形態は、放射線感受性材料をイメージングするために回転式マスクが使用される、大面積の基体のナノパターン形成に有用な方法および装置に関する。典型的には、この回転式マスクは円筒を含む。このナノパターン形成技術は、基体をパターン形成するために使用されるマスクがその基体と動的接触にある、近接場フォトリソグラフィを利用する。この近接場フォトリソグラフィはエラストマーの位相シフトマスクを利用してもよいし、または回転する円筒表面が金属ナノホールまたはナノ粒子を含む表面プラズモン技術を用いてもよい。 （もっと読む）