【課題】照度計のバラツキを抑えることにより各光源間の照度を一定にすることにより、露光むら無く高精度に露光を行うことができる近接スキャン露光装置及びその制御方法を提供する。
【解決手段】近接スキャン露光装置１の光源制御部１５aは各照度計５０からの照度信号を基準照度計６０により検出された基準照度に応じて補正する微分器１５ｂを有する。基準照度計６０により各照度計５０のバラツキを抑えることにより各照射部１４間の照度を一定にすることにより、露光むらを無くし高精度に露光を行う。 （もっと読む）

【課題】ストッパにより移動が制限された移動体をストッパから離間させる。
【解決手段】 ステージ復帰装置７０は、ステージ装置２０をストッパ５０から離間させる方向に駆動するエアジャッキ７２を有している。エアジャッキ７２に供給されるエアの制御は、メカニカルバルブ７３のスプール７８ｂの操作により行われる。スプール７８ｂは、Ｘ粗動ステージ２３Ｘが有するカムフォロア９０ａ、９０ｂに機械的に係合可能なカム８９ａ、８９ｂを有するレバー８６を含むバルブ操作機構７４により操作される。これにより、例えばＸ粗動ステージ２３Ｘの位置を検出するための電気的なセンサ類、メカニカルバルブ７３を操作するための電動アクチュエータ、上記センサ類、電動アクチュエータなどを制御するための制御系などを必要としない。従って、構成が簡単で低コストである。 （もっと読む）

【課題】遮光部材を上流側に戻す際に、露光量の減少によって発生する露光むらを抑えることができる近接露光装置及び近接露光方法を提供する。
【解決手段】近接露光装置１において、各遮光ユニット１４は、それぞれＸ方向に移動可能に配置される四組の一対の遮光部材６０ａ〜６３ｂを有し、一対の遮光部材６０ａ〜６３ｄは、露光用光ＥＬを通過させる貫通孔９０ａ〜９３ｂをそれぞれ備え、各貫通孔９０ａ〜９３ｂは、一対の遮光部材６０ａ〜６３ｂが重ね合わせられた際に、露光用光ＥＬが各貫通孔９０ａ〜９３ｂと対向する一対の遮光部材６０ａ〜６３ｂのいずれかによって遮光されるように形成される。 （もっと読む）

【課題】
原版の平面度を向上させることが可能な露光装置を提供する。
【解決手段】
投影光学系を有し、原版のパターンおよび投影光学系を介して基板の露光を行う露光装置であって、原版を保持して移動する原版ステージと、原版ステージに保持された原版の計測箇所に関して投影光学系の光軸の方向における位置を計測する計測部と、原版の上面または下面に接する空間の圧力を調整する第１の調整部と、原版ステージに設けられて原版を保持する複数の保持部と、複数の保持部それぞれの光軸の方向における位置を調整する第２の調整部と、原版の複数の計測箇所に関して計測部により計測された複数の位置に基づいて第１の調整部および第２の調整部を制御する制御部とを有する。 （もっと読む）

【課題】基板表面を不活性ガスでパージして生産効率を向上させることができる露光方法及び露光装置を提供する。
【解決手段】フォトマスク４と露光される基板１００をプロキシミティギャップを設けて設置し、互いに相対移動させながらパターン露光を行う近接露光装置及び方法において、露光位置を含むとともに、基板１００全体よりも狭い限定された範囲に向けて不活性ガスを噴出するノズル及びその工程を備え、ガスパージに要する時間を短縮することで精算効率を向上させる。 （もっと読む）

【課題】露光用のフラッシュランプを用いた連続近接露光装置において、このフラッシュランプの点滅のタイミングを正確に取ることができる光学的センサーを提供する。
【解決手段】 複数の受光素子１０ａを関連してライン上に一列に配置し、該受光素子１０ａにおける光電変換した電荷をライン毎に読み出す電荷転送型のラインセンサー１０と、該ラインセンサー１０の受光素子１０ａの配列方向と平行な軸上に少なくとも１つ以上の独立した受光素子１０ａを配置したフォトセンサー１１を有する光学センサー１であって、前記ラインセンサー１０の画像取り込みの周期と、前記フォトセンサー１１の画像取り込みの周期が異なることを特徴とする （もっと読む）

【課題】マスクを保持する吸着力が低下した場合でも、マスクの落下を防止することができる近接スキャン露光装置及びその制御方法を提供する。
【解決手段】近接スキャン露光装置１は、基板ＷをＸ方向に搬送する基板搬送機構１０と、パターンを形成した複数のマスクＭをそれぞれ保持し、Ｙ方向に沿って千鳥状に配置される複数のマスク保持部１１と、複数のマスク保持部１１の上部にそれぞれ配置され、露光用光を照射する複数の照射部１４と、を備える。マスク保持部１１は、マスクＭの外周縁部Ｍａと当接可能なマスク支承体４４と、マスク支承体４４がマスクＭの外周縁部Ｍａと接離するように、マスク支承体４４を駆動する駆動機構４５と、を備えて、マスクＭの落下を防止するマスク落下防止手段４３を有する。 （もっと読む）

【課題】生産性の高い露光動作を実現できるマスク及び露光装置を提供する。
【解決手段】透過部ＭｂはマスクＭを貫通しているので、ワークＷの上面に塗布されたレジストＲから放出された発生物（例えば昇華物）が、貫通した透過部Ｍｂには付着しないので、光透過量を減少させることがなく、マスクＭを定期的に洗浄する必要がなくなって、生産効率を高めることができる。 （もっと読む）

【課題】マスクの製造コストを低減することができ、高品質で、効率的な露光を実現する近接スキャン露光装置及びエアパッドを提供する。
【解決手段】近接スキャン露光装置１は、複数のマスクMに近接しながらX方向に搬送される基板Wに対して複数のマスクMを介して露光用光ELを照射し、基板Wに複数のマスクMのパターンPを露光する。近接スキャン露光装置１は、基板Wを浮上させて支持する複数のエアパッド２３，２４，２５ａ，２５ｂを備え、複数のエアパッド２３，２４，２５ａ，２５ｂのうち、マスクＭと対向配置されるエアパッド２５ａは、マスクＭの露光領域より大きい。 （もっと読む）

【課題】長時間の連続露光により寸法精度が損なわれることが無く、更に、画質が劣化することなく均一な露光を行うことができる連続露光装置を提供する。
【解決手段】少なくとも透明円筒体と、該透明円筒体の内部に配置されたＬＥＤ光源と、該透明円筒体と該ＬＥＤ光源の間に配置された拡散板を有する連続露光装置。 （もっと読む）

【課題】 転写されるべきパターンが形成されている領域とパターンが形成されていない領域との間の温度差を正確に測定することができる温度測定装置を提供する。
【解決手段】 転写されるべきパターンが形成されたパターン形成領域Ｍ１〜Ｍ５を有する原版Ｍの温度を測定する温度測定装置１３であって、前記パターン形成領域Ｍ１〜Ｍ５内の少なくとも一点の温度を測定する第１温度測定器Ｔ１〜Ｔ５と、転写されるべきパターンが形成されない非パターン形成領域ｍ１〜ｍ６内の少なくとも一点の温度を測定する第２温度測定器ｔ１〜ｔ６とを備える。 （もっと読む）

【課題】周波数選択透過型の電磁波シールド材において、所定の周波数の電磁波のみを選択的に透過し、他の周波数の電磁波を遮蔽する、透視性および生産性を向上する電磁波シールド材およびその製法を提供する。
【解決手段】透明基材２の少なくとも一方の面に、所定周波数の電磁波が透過するためのスリット５を有する金属メッシュパターン３が配設された周波数選択透過型の電磁波シールド材１であって、透明基材２の上に写真製法により現像銀層を生成することにより前記金属メッシュパターン３の金属層を構成する。 （もっと読む）

【課題】マスクと基板との相対距離を精度良く測定できる露光装置を提供する。
【解決手段】レーザ測長器２０が、露光動作中にマスクＭが位置する範囲に対向するようにして基板ステージ１１ａの中央に配置され、マスクＭとの相対距離を測定することにより、マスクＭの平坦度を求めることができるので、求めたマスクＭの平坦度と、別個に測定したマスクＭと基板との隙間から、マスクＭと基板との最小相対距離を精度良く測定することができ、両者の接触を回避して高精度な露光を実現できる。 （もっと読む）

【課題】露光パターンにおける深さ方向の傾斜角を変化させる。
【解決手段】露光に用いられる光源１３０と、光源１３０からの光を透過する基板の同一の面に、光を透過しない光遮断層と、光の照射角度により透過率が変化し、光を基板に略垂直に照射した際、光を最も透過する光干渉層とを形成した露光マスク１０５と、露光マスク１０５の光干渉層及び前記光遮断層の形成されている面に、感光性材料を塗布等し、露光マスクの感光性材料の形成面の反対より光が照射するように固定する露光マスクステージ１３８と、露光マスク１０５に対し垂直方向を軸として、露光マスクステージ１３８を回転させる露光マスク回転機構と、光源１３０からの光を露光マスク１０５に対し垂直及び、斜めに照射するために、露光マスク１０５を傾斜させることが可能な露光マスク傾斜機構２４９を有することを特徴とする露光装置を提供することにより上記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】円筒状の継ぎ目のないマスクにおいて、網点やベタ図柄など大小画像が混在した連続図柄のデザインが可能であると共に、高耐久性を可能とするシームレスマスク構成体の提供。
【解決手段】円筒状基材とマスク材とからなる円筒状マスク構成体であって、該基材が活性光線に実質的に透明であること、かつ該マスク材が該基材上に継ぎ目なく配されていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】マスクの取り付け時におけるマスクの取付精度及びマスクの平坦度の再現性を大幅に向上することができる露光装置のマスク搬送、取付方法を提供する。
【解決手段】露光装置のマスク搬送、取付方法は、マスクＭをマスクステージ１のチャック部１６と平行に載置する保持治具７０を備え、マスクＭを載置した保持治具７０を、チャック部１６の下方位置に搬送する工程と、マスクＭを載置した保持治具７０を、チャック部１６の下面に接近させる工程と、マスクＭを保持治具７０から離間させてチャック部１６に取り付ける工程と、を有する。保持治具７０は、マスクＭがチャック部１６に取り付けられたときチャック部１６と接触する部分に相当する裏面部分でのみマスクＭを保持する。 （もっと読む）

【課題】 小さなマスクを使用して広い露光領域を有する基板を、露光光を安定した状態で照射して効率的に露光でき、移動する基板の所定の露光領域に正確に露光する。
【解決手段】 基板搬送手段５によって一定方向に搬送されている状態の基板４に対して、露光ステーション（露光部）２でランプ（連続光源）９からの露光光を露光光学系３の光軸（光路）Ｓ上に設けたマスク１１の開口部１１ａを通して照射し、基板４上に開口部１１ａの像を転写する露光を行う際、基板４に予め形成されたピクセル（基準パターン）１８の側方エッジ（パターンエッジ）を、マスク１１に連動してその移動方向へ移動する撮像手段５で撮像して、基板４上の搬送方向イに直角な方向における基準位置を検出し、撮像手段５で撮像されたピクセル１８が撮像位置Ｆから露光位置Ｅに移動した時に、基板４上の基準位置にマスク１１の位置が一致するようにマスク１１を位置制御する。 （もっと読む）

【課題】フォトマスクを通して基板に照射される光を高精度な平行光とする。
【解決手段】露光用光源Ｕは、半導体レーザ１と、光学系７とを備える。光学系７は、第一レンズ群３と、光学多角柱４と、第二レンズ群５とを含む。半導体レーザ１から発する光２は第一レンズ群３によって光学多角柱４の入射面に集光される。光学多角柱４によって照度を均一化されて出射した光は、第二レンズ群５によって平行光６に変換され、フォトマスク８を通して基板１１に照射される。 （もっと読む）

【課題】印刷版原版の感光層の表面の酸素を確実に遮断した状態で感光層を露光することが出来る印刷版原版露光装置を提供する。
【解決手段】印刷版原版を保持する透明基板と、この透明基板に保持された印刷版原版の支持体の側の表面全体を覆って透明基板の全周縁部と密着する前記被覆部材とで形成される閉空間の真空排気に同期させて、スクイズ手段を被覆部材の一方の側から他方の側に相対的に移動しながら、印刷版原版の感光層と透明基板との間の空気を、一方の側から他方の側に向かって徐々に押し出して、透明基板の表面に印刷版原版の感光層の全面を略完全に密着させる。 （もっと読む）