【課題】高精細な薄膜パターンの形成を可能にする。
【解決手段】基板上に一定形状の薄膜パターンを形成するためのマスク１であって、可視光を透過する樹脂製のフィルム２と、前記基板上に予め定められた薄膜パターン形成領域に対応して前記薄膜パターンよりも形状の大きい貫通する開口部５を形成した板体で構成され、前記フィルム２を保持する保持部材３と、備え、前記フィルム２は、前記基板上の前記薄膜パターン形成領域に対応して前記保持部材３の前記開口部５内に前記薄膜パターンと同形状の開口パターン４を備えている。 （もっと読む）

【課題】ワークをワーク面に直交する方向（Ｚ方向）に移動させたとき、Ｚ方向移動機構の真直度が原因で生じるワーク面に平行な平面内でのワークの移動を修正すること。
【解決手段】マスクＭのマスクマークＭＡＭ像をアライメント顕微鏡８０で検出し、その位置を記憶する。次に、ワークＷを吸着テーブル３３に載せワークマークＷＡＭの位置を検出し、ワークＷとマスクＭの位置合わせを行い、レーザ測長器３４により、スライダ３２から反射ミラー３５までの距離ａを記憶する。ついで、露光処理を行うために、Ｚ方向移動機構５０により、ワークステージ３０をワークＷの厚み分下降させ、レーザ測長器３４によりスライダ３２から反射ミラー３５までの距離ｂを測定する。そして上記距離ａとｂによりワークステージ３０の下降による移動量を検出し、ワークＷをマスクＭと位置合せした位置に戻す。この状態で、光出射部１０から露光光を出射しワークＷを露光する。 （もっと読む）

【課題】 テンプレートを用いることなく基板に凹凸状のパターンを形成することができるパターン形成装置を提供することを目的とする。
【解決装置】 基板（ＦＢ）の表面に凹凸状のパターンを形成するパターン形成装置（１０）において、パターンに対応するパターン情報に基づいて、基板（ＦＢ）の表面に供給された硬化性材料（Ｒ）を押圧する押圧部（１１）と、押圧部（１１）によって押圧された硬化性材料（Ｒ）に所定のエネルギーを付与し、該硬化性材料（Ｒ）を硬化させる硬化部（１６）とを備える。 （もっと読む）

【課題】帯状の基板に設けられた区画領域に対して、精度よくパターンを転写することのできる転写装置を提供することを目的とする。
【解決手段】 転写装置（ＥＸ）は、基板（ＦＢ）を保持して長手方向に移送する移送装置（ＦＲ、ＷＲ）と移送装置（ＦＲ、ＷＲ）に保持された基板（ＦＢ）の一部を保持し、基板（ＦＢ）の表面に沿って移動するステージ装置（ＦＢＳ）とを含む搬送機構と、搬送機構によって移動される基板（ＦＢ）に計測光を照射し、搬送機構による基板の移動方向に沿って基板（ＦＢ）に設けられた複数のマーク（ＡＭ）からの回折光を検出する検出装置（ＬＳＡ）と、検出装置（ＬＳＡ）の検出結果に基づいて区画領域（ＥＡ）の変形に関する情報を算出する演算装置と、演算装置の算出情報に基づいてパターンを補正する補正装置と、を備える。 （もっと読む）

【課題】高価な合成石英フォトマスクを用いることなく高精細な感光性樹脂凸版を製造することができ、かつ、有機電子デバイスの製造コストを低減することを可能とすること。
【解決手段】本発明は、基材１０１と基材１０１の上に形成されている感光性樹脂層１０２とを具備するパターン転移媒体１００を用意する工程と、光照射手段及４０１及び光変調手段４０２を具備する露光ユニットとパターン転移媒体１００とを相対的に移動させて予め入力された情報に基づいて光照射手段４０１から放たれる光を光変調手段４０２により変調することで露光光のパターンを形成して感光性樹脂層１０２に対し照射を行う露光工程と、感光性樹脂層１０２のうち前記露光工程において露光光が照射されない領域を除去して感光性樹脂凸版を形成する現像工程と、を具備する。 （もっと読む）

【課題】露光用基板の露光領域の面積より、小さな面積の露光マスクを、露光用基板に複数対向させて、露光用基板を露光する近接露光装置に供給する多面取り露光用基板を提供する。
【解決手段】露光用基板の露光領域の面積より、小さな面積の露光マスクを、露光用基板に複数対向させて、露光用基板を露光する近接露光装置に供給する多面取り露光用基板であって、該多面取り露光基板が、複数のアクティブ領域と複数の非アクティブ領域を有し、夫々の非アクティブ領域の寸法が該アクティブ領域の画素ピッチの整数倍の寸法であることを特徴とする （もっと読む）

【課題】装置を大型化することなく、マスクのプリアライメントが可能な露光装置を提供する。
【解決手段】基板Ｗに対してマスクＭを介して露光用光ＥＬを照射し、基板ＷにマスクＭのパターンＰを露光する近接スキャン露光装置１は、マスクＭを保持するマスク保持部７１と、マスクＭを交換すべく、マスクＭを搬入又は搬出するための受け渡し位置ＷＰと、マスク保持部７１の下面と対向する交換位置ＣＰとの間を移動可能なマスクトレー部１２１を有するマスクチェンジャー１２０と、受け渡し位置ＷＰの上方に設けられ、マスクトレー部１２１に載置されたマスクＭのプリアライメントを行うマスクプリアライメント駆動部１４２と、を備える。 （もっと読む）

【課題】大きな面積に波長と同程度の微細な凹凸パターンを精度良く容易に形成する凹凸パターン形成方法を提供する。
【解決手段】２つの光束を用いた干渉露光方式により感光性基板の表面に干渉縞パターンを露光し、前記感光性基板に凹凸パターンを形成する方法において、光軸に垂直な方向の光束幅が互いに異なる２つの帯状光束を、それぞれの前記帯状光束の短い方を一致するように重ね合わせて、前記帯状光束の幅の長い方向に周期を有する干渉縞パターンを形成する工程と、前記感光性基板の表面に前記干渉縞パターンを露光する際に、前記干渉縞パターンが周期を有する方向に対して垂直の方向に、前記感光性基板と前記干渉縞パターンとを相対的に移動させながら露光する工程と、を有する。 （もっと読む）

【課題】凸部が感光性樹脂層で構成されている印刷用凸版からの溶出物を低減するための後露光工程を、適切かつ簡便におこなうための感光性樹脂版用露光装置、及び該装置により製版された印刷用凸版、該印刷用凸版を用いて製造された有機ＥＬ素子を提供する。
【解決手段】耐圧性の密閉容器の内部に、波長が２００〜３００ｎｍに光強度のピークを持つ光源及び３００〜４００ｎｍに光強度のピークを持つ光源を有し、かつ、前記密閉容器内部を減圧にするための真空ポンプと、不活性ガス供給手段と、前記密閉容器内部を不活性ガスに置換する手段と、を少なくとも有することを特徴とする感光性樹脂版用露光装置である。 （もっと読む）

【課題】形成プロセスが簡便で、かつ、形成プロセスにおける現像残渣及びその後のプロセスにおける装置汚染が生ずることの無い、微細、且つ高解像性のオーバーハング形状または逆テーパー形状の断面形状を有するレジストパターンを形成する。
【解決手段】基板１上に酸失活層２を形成し、さらにレジスト膜層３を積層形成する。その後、フォトマスク４を介して露光光線５によりレジスト膜層３の露光を行い、露光後ベーク処理を施した後、任意の現像液と現像時間で現像することによりオーバーハング形状または逆テーパー形状の断面形状を有するレジストパターンを形成することができる。 （もっと読む）

【課題】レーザー熱転写法による有機膜層形成時の転写効率を極大化し、転写層パターンの品質を向上させることができるレーザー照射装置及びこれを利用した有機電界発光素子の製造方法を提供する。
【解決手段】レーザー照射装置は、レーザービームを発生させるレーザーソース３１０；前記レーザーソースの下部に位置しており、前記レーザービームをパターニングするマスク３２０；及び、前記マスク下部に位置して、前記マスクを通過したレーザービームの倍率を決定する投影レンズ３３０を含み、前記マスクを透過したレーザービームは少なくとも２領域以上で異なるドーズを有することを特徴とする。これによって、前記レーザー照射装置を利用した有機電界発光素子の有機膜層形成時、転写効率を極大化して転写層パターンの品質を向上させることができる。 （もっと読む）

【課題】 熱に弱い基板や下層に熱ダメージを与えることなく、感光性樹脂が十分に分解・除去される導電性組成物、パターン形成方法及び該パターン形成方法によって製造される電気光学装置を提供する。
【解決手段】 ガラスで構成された基板２上に形成された低耐熱性であるアクリル樹脂で構成されたバンク上に、銀２０Ａ、感光性樹脂２０Ｂ、鉄２０Ｃ、及び溶剤２０Ｄからなる感光性導電ペースト２０を印刷した。そして、インダクションヒータを使用して高周波電磁波を印加して同感光性導電ペースト２０を加熱することで、バンク上に補助配線層を形成するようにした。 （もっと読む）

【課題】感光性レジスト組成物を用いて、ハーフトーンパターン部を有するレジストパターンを形成する方法であって、ハーフトーンパターン部の残膜厚露光マージンと耐ドライエッチング性に優れたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（ａ）（Ａ）アルカリ可溶性樹脂、（Ｂ）キノンジアジド基含有化合物及び（Ｃ）溶剤を含む感光性レジスト組成物を基材に塗布してレジスト膜を形成する工程、（ｂ）前記レジスト膜をハーフトーン部が存在するマスクを通して露光する工程、（ｃ）露光後のレジスト膜に現像液を接触させて現像する工程を含むレジストパターン形成方法において、前記（ａ）工程で用いる感光性レジスト組成物の（Ａ）成分であるアルカリ可溶性樹脂を、ナフトールを用いて得られるノボラック型樹脂とする。 （もっと読む）

【課題】ホト工程を使用しないでパターニング工程を遂行し製造工程を単純化すると共にアラインメントの正確性を向上させて薄膜パターンを定位置に形成させる。
【解決手段】基板上に形成された薄膜上に第１光照射により極性が変わるエッチレジストを塗布し、エッチレジストとの対向面に表面処理によりエッチレジストと同一極性の突出面と溝を有するソフトモールドを設け、所定の間隔を置いて位置するソフトモールドと基板を１次アラインメントし、ソフトモールドをエッチレジスト上に配置させた後、ソフトモールドと基板を２次アラインメントし、エッチレジストは第１光照射により極性が変化すると共に、ソフトモールドの溝内に移動し、ソフトモールドの溝内に移動したエッチレジストに第２光を照射し、薄膜上にエッチレジストパターンを形成し、エッチレジストパターンからソフトモールドを分離し、薄膜をエッチングして薄膜パターンを形成する。 （もっと読む）