【課題】低コストで製造工程が平易であり、しかもコア部とクラッド部の屈折率差が大きく、小型の集積回路に好適な光導波路及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】
下記の（Ａ）工程乃至（Ｅ）工程を含む光導波路の製造方法：（Ａ）工程：ベースの表面上に、互いに或る間隔の空間を形成するパターンを為すクラッド型材を配置する工程、（Ｂ）工程：配置されたクラッド型材の上側及びクラッド型材が配置されていないベース表面上に、チタン原子とケイ素原子を含む酸化物前駆物質を含有する液を用いて塗膜を形成する工程、（Ｃ）工程：前記塗膜に、所定のパターンを有するフォトマスクを通して放射線を照射し、続いて加熱処理し、これにより放射線照射された屈折率のより高いコア部を形成する工程、（Ｄ）工程：放射線未照射又は低放射線照射の領域を現像により溶解・除去する工程、及び（Ｅ）工程：クラッド型材をベース表面より除去し、オールエアクラッド光導波路の構造に作り上げる工程。 （もっと読む）

【課題】 熱光学位相シフタ等の光素子の製造時に光素子自身や製造装置に悪影響を与えずに、高い歩留まりで光素子を製造できるエッチング終点検出パターンを提供する。
【解決手段】 基板４上に少なくとも光素子用膜（第１膜）と犠牲層５が積層形成されていて、基板４と前記光素子用膜の間にある犠牲層５を選択的にエッチングする際に使用されるエッチング終点検出パターンは、前記光素子用膜で形成され、それぞれが異なる幅を持つ細線パターン３ａ、３ｂ、３ｃ、３ｄを含む細線パターン部３と、細線パターン部３を基板４に接続して保持する保持パターン部２とを備える。犠牲層５のエッチングにより細線パターン３ａ、３ｂ、３ｃ、３ｄに生じる構造的・光学的変化を利用してそのエッチング量を判別する。 （もっと読む）

【課題】発光領域が小さい光機能素子を低コストで提供する。
【解決手段】基板２上の透明薄膜４中に所定の間隔で所定の大きさの孔を配列したフォトニック結晶３１が形成され、フォトニック結晶導波路３０はこのフォトニック結晶の一部分に孔を形成しない領域を設けることによって形成されている。この導波路の下部に開口部が形成され、当該開口部が埋まるように窒化物半導体を基板上から透明薄膜の上側まで結晶成長させることによって発光素子１０が形成されている。 （もっと読む）

【課題】電子機器の第１機体とこの第１機体に対して移動する第２機体とを接続する信号伝送用のフレキシブルケーブルの光導波路形成体に充分な可撓性と高い耐折性とを確保する。
【解決手段】第１機体と、この第１機体に対して相対移動可能に設けられた第２機体と、第１機体と第２機体との間の信号伝送用のフレキシブルケーブルとを具備する電子機器であって、フレキシブルケーブルは、可撓性を有し帯状又は線状に形成された樹脂製の光導波路形成体２１を有し、光導波路形成体２１は、この光導波路形成体２１の長手方向に沿って延在するコア部２１ａと、コア部２１ａよりも屈折率が低いクラッド部２１ｂと、コア部２１ａに接しこのコア部２１ａの長手方向に沿って延在する空気層２１ｃを内蔵する空気クラッド内蔵部２１ｄと、を有する。 （もっと読む）

【課題】フォトニック結晶共振器の共振波長を効率的に調整し、偏光モード分裂が解消されたフォトニック結晶デバイスを提供する。
【解決手段】少なくとも一つの点欠陥が形成された２次元フォトニック結晶から構成されるフォトニック結晶共振器２７の一主面に膜１４を形成する膜形成工程と、フォトニック結晶共振器２７における共振波長を測定する波長測定工程と、波長測定工程で測定した共振波長に基づいて、膜１４を局所的に加工することにより、フォトニック結晶共振器２７における特定の共振器モードの波長を調整する波長調整工程と、から構成されるフォトニック結晶共振器の共振波長を調整する方法により、偏光モード分裂が解消されたフォトニック結晶デバイス３１を得る。 （もっと読む）

【課題】シリコン基板上に浮いているブリッジ構造体を形成するために、作成が容易で、かつ、製造時に損傷しにくい基板上構造体と、その製造方法とを提供する。
【解決手段】基板上構造体の設計時において、幅が連続的に変化する形状とし、その上でエッチング処理を行なう。基板上構造体のシリコン基板からの分離は、幅が狭い個所から順番に発生するので、一気に分離される場合とは異なり、製造時に破損しにくい。 （もっと読む）

【課題】シリコン基板上に基板上構造体がブリッジ状に浮いていて、かつ、高い強度を備えた構造を有する、シリコン構造体を提供する。このようなシリコン構造体を製造する上で、エッチングによってシリコン基板の基板上構造体の直下部分が除去される際に、基板上構造体が受ける衝撃が少ない、シリコン構造体製造方法を提供する。
【解決手段】曲線状の基板上構造体の下部のシリコン基板に異方性エッチングを施す。この時、曲線状の基板上構造体の各部位において、結晶方位の各面に対する方向によって、異方性エッチングの進行速度は大きく異なる。エッチング時間を調節してエッチング速度が遅い部分を残し、シリコン基板の上にブリッジ状に浮いた基板上構造体を下から支える支柱とする。また、曲線状の基板上構造体の方向を連続的に変化させて、曲線状の基板上構造体のうち、ブリッジ状に浮く部分を、シリコン基板から徐々に分離させる。 （もっと読む）

【課題】 ２ＤＰＣスラブ構造に代表される薄膜スラブ構造に適した電極配線を有する光デバイスの製造方法を提供することを課題とする。
【解決手段】 光デバイスの第１のコア層となるべき部位を有する第１の基板を用意し、光デバイスの第２のコア層となるべき部位、低屈折率絶縁性クラッド層となるべき部位を有する第２の基板を用意し、第２の基板の第２のコア層となるべき部位に、ｐ型、又はｎ型領域を形成するための不純物ドーピングを行い、第１の基板の第１のコア層となるべき部位と第２の基板の第２のコア層となるべき部位とを接合してコア層を形成させ、第１のコア層を形成する部位を残して第１の基板を除去し、コア層に所望の光デバイス構造を形成させ、第１のコア層を形成する部位の一部を除去し、第２のコア層を形成する部位の一部を露出させ、コア層上に低屈折率絶縁膜を形成させ、低屈折率絶縁膜の一部を除去し、第1のコア層を形成する部位、第２のコア層を形成する部位に接続する電極配線を形成する、光デバイスの製造方法。 （もっと読む）

パスに沿って延びる光透過コアを覆うクラッディングを有する導波路セグメントと、パスの少なくとも一部分に沿って導波路セグメントと熱を伝え合うヒータと、熱伝導基板と、導波路セグメントおよび熱伝導基板に対して一定の位置関係にあり、パスに沿って導波路セグメント上に不連続に存在する熱伝導基部と、導波路セグメントおよび熱伝導基板に対して一定の位置関係にあり、パスに沿った点において導波路セグメントから離れる方向に横に延びるリブとを含む装置。光の位相シフトを引き起こす装置を使用する方法。
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【課題】十分な感度を有し、かつ、電子デバイスとの一体化が容易で、比較的サイズが小さい光導波路デバイスを提供する。
【解決手段】光導波路センサ１００は、基板１０２、及び基板１０２の上面１０４上に配されたデバイス層１１０を含む。デバイス層１１０は、１又は複数の検知用光導波路を含み、その各々は検知領域１２２を有する。基板１０２は、検知領域１２２と位置合わせされた空隙領域１０６を有する。空隙領域は、基板材料の塊が除去されている基板の領域である。空隙領域は、検知用光導波路の検知領域に光学的に結合されており、検知用光導波路の検知領域を透過する光信号のエネルギの一部が、空隙領域と相互作用する。検知用光導波路は、コア１２４及び上位クラッディング１２６を含み、下位側に基板１０２及び空隙領域１０６が配される。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、２ＤＰＣスラブ構造に代表される薄膜スラブ構造に対して、信頼性の高い電極製造方法を提供することを課題とする。
【解決手段】光デバイスのコア層となるべき部位を有する第１の基板と光デバイスを集積させるための第２の基板を用意し、コア層上の一部に第１の電極を形成し、第１及び第２の基板の少なくとも一方の基板上面にＳＯＤを塗布し、第１の基板の第１の電極が形成された側と第２の基板とを接合し、接合した第１の基板と第２の基板とを加熱し、コア層及び第１の電極を残して第１の基板を除去し、コア層上の一部に第２の電極を形成し、コア層にエッチングにより複数の溝又は貫通孔を有する構造を形成し、エッチングにより第１の電極の一部を露出し、第１及び第２の電極に接続する電極配線を形成する、光デバイスの製造方法である。 （もっと読む）

【課題】誘電体単結晶からなるスラブと、貫通孔によって形成されている格子列とを備えているスラブ型２次元フォトニック結晶構造を製造するのに際して、多数の貫通孔を精度良く高効率で形成できる方法を提供することである。
【解決手段】誘電体単結晶からなる誘電体単結晶基板１の一方の主面１ａをエッチングすることによって、誘電体単結晶基板１に凹部４を形成する凹部形成工程、および
誘電体単結晶基板１の他方の主面１ｂを機械加工することによって、スラブ１０を形成し、かつ凹部４を貫通させて貫通孔１１を形成する貫通孔形成工程を有する。 （もっと読む）

【課題】スラブ型２次元フォトニック結晶に設けられている光導波路構造において、優れたフォトニック結晶特性を発現すると共に、その波長依存性を小さくして広帯域な波長域で使用可能な光機能デバイスを提供する。
【解決手段】少なくとも光導波路１から見てn番目（ｎは１、２、３、４または５）の格子列Ｔｎに含まれる誘電体柱Ｈｎの平面形状が等辺多角形または真円形である。光導波路１から見てn番目の格子列Ｔｎに含まれる誘電体柱Ｈｎの径ｒn（ｎ＝２、３、４または５）のうち少なくとも一つが基本径ｒ０と異なっている。 （もっと読む）

【課題】フォトニック結晶を用いた光素子の小型化を図ることが可能な光素子及びその製造方法を提供する。
【解決手段】Ｓｉ基板１上には、ＳｉＯ_２からなるクラッド１２が設けられており、このクラッド１２上に線状のコア１１が設けられて、細線導波路１４が構成されている。クラッド１２の両側には一対の台座２が常温接合によりＳｉ基板１上に立設されている。２次元フォトニック結晶３は、孔９５が三角格子状に形成された周期構造を有し、その中間部に欠陥導波路部９６が形成されている。２次元フォトニック結晶３は、コア１１の上面との間に空間が形成され、かつ欠陥導波路部９６とコア１１が上下に平行に重なるように配置され、台座２の上面に常温接合されている。 （もっと読む）

すべて光学的な論理ゲートは、その少なくとも１つのものがデータを包含するように振幅変調されている光学入力信号を受信するべく構成された光学共振器などの非線形素子を有している。この非線形素子は、キャリア周波数との関係における非線形素子の共振周波数に基づいて論理演算を実行するべく、光学入力信号のキャリア周波数との関係において構成されている。非線形素子は、光学入力信号に基づいてバイナリ論理レベルを具備した光学出力信号を生成している。合成媒体を使用することにより、光学出力信号を生成するための非線形素子による弁別のために光学入力信号を合成可能である。様々な実施例は、すべて光学的なＡＮＤ、ＮＯＴ、ＮＡＮＤ、ＮＯＲ、ＯＲ、ＸＯＲ、及びＸＮＯＲゲート及びメモリラッチを含んでいる。
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【課題】 フォトニック結晶配列で構成された光導波路の機械的な強度を保ちつつ、光を高効率に閉じ込めることのできる光制御素子を提供する。
【解決手段】 導波部反射構造１７ａと導波部反射構造１７ｂとは、光導波路部分１４を層法線方向の両側から挟んでいる。配列部分反射構造１８ａと配列部分反射構造１８ｂとは、フォトニック結晶配列部分１３を層法線方向の両側から挟んでいる。導波部反射構造１７ａの屈折率は配列部分反射構造１８ａの屈折率より小さい。光反射層１１ｂのX1-X2方向に沿った屈折率分布も光反射層１１ａと同じである。導波部反射構造１７ａ及び導波部反射構造１７ｂは、光伝搬層１２において光の電磁界強度が集中している部分をカバーするように設けられている。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、媒質の屈折率を大きく変化させることができる光回路を提供することを目的とする。
【解決手段】 光共振または光導波を行う光回路であって、前記光回路を複数の部分に分割し、分割した一部を残りの部分に対し空間的に変位させる変位手段を有する。前記光回路は、光共振器または光導波路である。 （もっと読む）

１方向に屈折率周期性を有するフォトニック結晶を用いた導波路素子であって、前記フォトニック結晶中にブリルアンゾーン境界上のバンドによる伝搬光を生じさせる入力部を備えている。
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