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Fターム[2H147EA12]の内容

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Si (1,183)

Fターム[2H147EA12]に分類される特許

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第1の光導波路(24;52;80;94;120;140)と、第2の光導波路(26;42;54;82;96;122;142)とを含む可変光減衰器(VOA)デバイス(20;40;50;90)が述べられる。前述の第1及び第2の光導波路の少なくとも一方に対して制御可能な配向を有するマイクロ電気機械式システム(MEMS)ベースの部品のような可動反射素子(28;84;106;124;144)が与えられる。第1及び第2の導波路は、中空コア光導波路として形成される。
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光増幅器の入力ステージ及び出力ステージのための光回路が述べられる。入力ステージの回路(42)は、増幅されるべき信号ビームを搬送する第1の光導波路(46)と、ポンプ・ビームを搬送する第2の光導波路(62)と、該第1及び第2の光導波路(46、62)に光学的に結合されて、合成された信号/ポンプ・ビームを生成するビーム合成手段(58)と、該合成された信号/ポンプ・ビームを増幅光ファイバ(63)に光学的に結合するための手段とを含む。出力ステージの回路(44)は、第1の出力光導波路(64)と、増幅光ファイバ(63)を受け取るように配置された光ファイバ取り付け手段と、出力光ファイバ(76)を受け取るように配置された光ファイバ取り付け手段とを含み、該増幅光ファイバ(63)からの光は、該第1の出力光導波路(64)を介して、出力光ファイバ(76)に光学的に結合される。第1及び第2の光導波路(46、62)並びに第1の出力光導波路(64)は、基板においてチャネルとして形成された中空コア光導波路である。このような光回路を含むファイバ増幅器、特にエルビウム添加ファイバ増幅器もまた述べられている。
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コア領域(12)、クラッド領域(14)及びそれらの間に位置する屈折率差領域(16)を含む導波路を形成する方法は、重合性複合材を基板(18)上に付着させて層(22)を形成し、上記層をパターニングして該層の露出域(26)と非露出域(28)を画成し、上記層の露出域を照射し、未硬化モノマーを揮発させて導波路を形成することを含んでおり、重合性複合材は、ポリマーバインダーと層の露出域に拡散して屈折率差領域を形成するのに充分な量の未硬化モノマーとを含む。得られた導波路は、コア領域及びクラッド領域よりも屈折率の低い屈折率差領域を含む。 (もっと読む)


本発明は、デバイス層の少なくとも一部に形成された第一光伝送媒体、デバイス層の少なくとも一部に形成された第二光伝送媒体、およびデバイス層の少なくとも一部に形成されたスロットを包含し、該スロットが少なくとも一つの湾曲した縁部を有し、該スロットが該第一および第二伝送媒体に隣接して配置される、導波管配置用の電気−光ギャップ−セルを提供する。
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