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Fターム[2H147FE01]の内容

光集積回路 (45,729) | 製造に用いるビーム、電磁場の種類 (1,446) | 紫外線より短波長 (127)

Fターム[2H147FE01]に分類される特許

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【課題】電気回路と光回路のそれぞれにおいてパターン形状の設計の自由度が広く、寸法
精度の高い光路を簡単な方法で形成することができ、また、耐久性に優れる光導波路を備
えた光導波路構造体を提供すること。
【解決手段】光導波路構造体1は、基板2と、コア層93の両面にクラッド層91、92
を積層してなる光導波路9と、その両面にそれぞれ接合された導体層51、52と、光導
波路9の光路をほぼ直角に屈曲させる光路変換部96と、発光素子10と、電気素子12
とを備えている。基板2に形成された貫通孔22の内周面には、導体部3が形成され、そ
の内側には、コア部24とクラッド部25とからなる垂直光導波路23が形成されている
。コア層93は、コア部94とクラッド部95とを有し、コア部94は、活性放射線の照
射と加熱とにより屈折率が変化する材料で構成されたコア層93に対し活性放射線を選択
的に照射して所望形状に形成したものである。 (もっと読む)


【課題】基板の表面に光導波路を形成する際に、その光導波路のコア側面の粗面化を抑制することができる光導波路装置の製造方法を提供する。
【解決手段】表面が算術平均粗さ(Ra)1〜2nmの範囲内の平滑状になっている基板Aの表面に、アンダークラッド層2の形成を経て、コア3形成用の感光性樹脂層3Aを形成した後、この感光性樹脂層3Aに対して直角に照射線Lを照射し所定パターンに露光し、その露光部分をコア3に形成する。このコア3形成工程において、コア3形成用の感光性樹脂層3Aおよびアンダークラッド層2を透過した照射線Lは、基板Aの平滑状表面により、その基板Aに対して略直角に反射する。これにより、基板Aの表面での乱反射を大幅に減少させ、コア3側面の粗面化を効果的に抑制する。 (もっと読む)


【課題】 伝送損失が低く、また導波路パターンを形状精度が良くかつ低コストで作製可能な光導波路形成用感光性樹脂組成物、光導波路、及び光導波路パターンの形成方法を提供する。
【解決手段】 下記一般式(1)で表されるアミド化合物とエポキシ基を有する重合体と光酸発生剤を少なくとも含有する光導波路形成用感光性樹脂組成物により解決できる。
【化1】


(式中、Rは炭素数1〜20のアルキル基または芳香族炭化水素基を表し、R〜Rはそれぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、または炭素数1〜4のアルキル基を表す。) (もっと読む)


【課題】コアの上下を覆うクラッド部の厚みが薄く、フレキシブル性を有する光導波路を簡便かつ安価に製造する方法を提供する。
【解決手段】光が伝搬するコア層14と、該コア層よりも屈折率が小さいクラッド層12,16とが交互に積層され、少なくとも片面が前記クラッド層である積層フィルム10を用意し、前記片面のクラッド層12をダイシングテープ20に貼り付けて固定する。該積層フィルムを、ダイシングテープに貼り付けた最下部のクラッド層の途中まで厚さ方向に切削して溝18を形成するとともにコア部14Aを形成する。コア層よりも屈折率が小さい液状の高分子樹脂を溝に充填した後、硬化させることにより埋め込みクラッド層24を形成する。積層フィルムを、埋め込みクラッド層の一部24A,24Bが残るように、該埋め込みクラッド層とともに最下部のクラッド層の下まで厚さ方向に切削して光導波路30を形成する。 (もっと読む)


【解決課題】コアとクラッドとの間の屈折率の差の調節が容易な光導波路を提供すること。
【解決手段】光を伝搬するためのコア部と、該コア部に接し、該コア部より屈折率の低いクラッド部とを有する光導波路であって、該コア部が、マレイミド基を有する活性放射線硬化性ポリマーの硬化物により形成されており、該コア部を形成するマレイミド基を有する活性放射線硬化性ポリマーの硬化物中には、該硬化物より屈折率が高い低分子量化合物又は該低分子量化合物の重合物とマレイミド基との光反応残基が存在していることを特徴とする光導波路。 (もっと読む)


【課題】PET製基板の表面に光導波路を形成しても、その光導波路のコア側面の粗面化を抑制することができる光導波路装置の製造方法およびそれによって得られた光導波路装置を提供する。
【解決手段】PET製基板1部分と、このPET製基板1部分の裏面に形成された、照射線Lを吸収する色の着色層5とからなる着色層付きPET製基板Aの表面に、アンダークラッド層2の形成を経て、コア3形成用の感光性樹脂層3Aを形成した後、この感光性樹脂層3Aに対して照射線Lを照射し所定パターンに露光し、その露光部分をコア3に形成する。このコア3形成工程において、照射線LがPET製基板1部分の底面に達した際に、その殆どを上記着色層5に吸収させ、PET製基板1部分の底面で反射する照射線Lを殆どなくす。これにより、PET製基板1部分で乱反射して感光性樹脂層3Aに達する照射線Lを大幅に減少させ、コア3側面の粗面化を効果的に抑制する。 (もっと読む)


【課題】レーザ照射により発生する組成分布が光学特性の変化を発生させうる、特定の成分を含有するガラス部材を提供する。
【解決手段】ガラス部材は、元素分布を有しない均一ガラス材料にパルスレーザを集光照射することにより、ガラス内部のレーザ照射領域及びその周辺領域に、他の領域とは異なる、ガラス組成の空間的な分布が存在する異質領域を有する。異質領域は、前記ガラス組成の空間的な分布により、他の領域とは異なる屈折率分布を有することが好ましい。 (もっと読む)


【解決課題】簡便な光導波路の製造方法を提供すること。更には、鮮明なコアパターンが得られる光導波路の製造方法を提供すること。
【解決手段】活性放射線を照射することによりマレイミド基と反応する低分子量化合物を含有するマレイミド基を有する活性放射線硬化性ポリマー層を作製する活性放射線硬化性ポリマー層作製工程と、該活性放射線硬化性ポリマー層に、パターン形状のマスクをし、活性放射線を照射する第一の照射工程と、加熱下又は減圧下で、該活性放射線硬化性ポリマー層のうちの活性放射線が照射されなかった未露光部から、該低分子量化合物を揮発させる低分子量化合物揮発工程と、該活性放射線硬化性ポリマー層全体に、活性放射線を照射する第二の照射工程と、を有することを特徴とする光導波路の製造方法。 (もっと読む)


【課題】クラッド部を伝搬する光をコア部から遠い位置に誘導する手段を有することにより、信号光のS/N比を向上させ、高品質の光通信が可能な光導波路を提供すること。
【解決手段】本発明の光導波路は、コア部14と、該コア部14を介して両側に設けられた側面クラッド部15とを含むコア層13(第2の層)を介して、クラッド層11(第1の層)とクラッド層12(第3の層)とを積層してなる光導波路10であって、側面クラッド部15中に、コア部14よりも屈折率が低く、コア部14に接した低屈折率領域152と、低屈折率領域152よりも屈折率が高く、低屈折率領域152を介してコア部14から離間した高屈折率領域151とを有している。そして、高屈折率領域151は、コア部14を通過する光の進行方向の前方に向かうにつれて、コア部14との距離が徐々に大きくなる形状をなしていることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】光導波路とレンズ体との位置合わせが不要であるタッチパネル用光導波路およびそれを用いたタッチパネルを提供する。
【解決手段】光を出射するコア3Aおよびその出射光を入射するコア3Bの端部が、オーバークラッド層4の端部から突出して外気に露呈した状態で、第1および第3レンズ部31,33に形成され、その第1および第3レンズ部31,33におけるレンズ面31a,33aが外側に向かって反る平面視円弧状に形成され、第1および第3レンズ部31,33のレンズ面31a,33aと隙間をあけて、オーバークラッド層4の延長部からなり第1および第3レンズ部31,33に対応する第2および第4レンズ部42,44が形成され、その第2および第4レンズ部42,44におけるレンズ面42a,44aが外側に向かって反る側断面視円弧状に形成されている。 (もっと読む)


【課題】光導波路とレンズ体との位置合わせが不要であるタッチパネル用光導波路およびそれを用いたタッチパネルを提供する。
【解決手段】光を出射するコア3Aの端面がディスプレイの画面の一側部に位置決めされ、その光を入射させるコア3Bの端面がディスプレイの画面の他側部に位置決めされるタッチパネル用光導波路であって、光を出射するコア3Aの端面および光を入射するコア3Bの端面を被覆するオーバークラッド層4の端部が、球面状レンズ面41A,41Bを有するレンズ部40A,40Bに形成されている。 (もっと読む)


【課題】優れた難燃性を有するフィルム状光導波路、及び、該フィルム状光導波路を形成しうる感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】フィルム状光導波路は、下部クラッド層12、コア部分20、及び上部クラッド層22からなる。クラッド層12,22は、(A)分子中に、少なくとも1個のフッ素原子と、少なくとも1個の重合性炭素−炭素二重結合とを有する化合物(ただし、リン原子を含むものは除く。)、(B)分子中に、少なくとも1個のリン原子と、少なくとも1個の重合性炭素−炭素二重結合とを有する化合物(ただし、フッ素原子を含むものは除く。)、及び(C)光ラジカル重合開始剤を含む感光性樹脂組成物の硬化物からなる。 (もっと読む)


【課題】光導波路本体(コア部分やクラッド層)に用いて、優れた難燃性を有するフィルム状光導波路を形成することのできる感光性樹脂組成物、及び該フィルム状光導波路を提供する。
【解決手段】フィルム状光導波路は、コア部分及びクラッド層を有する光導波路であって、前記コア部分及び前記クラッド層のうち一以上が、(B)特定の式で表されるホスファゼン化合物、及び(C)光ラジカル重合開始剤を含む光導波路用感光性樹脂組成物の硬化物からなる。 (もっと読む)


【課題】レーザ光源から出力されるレーザ光のビーム断面形状の変換を低損失で行うことができ且つビーム断面における強度分布の均一性が高いレーザ光を出力することができる光導波体を提供する。
【解決手段】光照射装置1では、各レーザ光源10から出力されたレーザ光は、レンズ20により光ファイバ30の入射端30aに入力され、光ファイバ30により入射端30aから出射端30bへ導波され、さらに、光導波体40の入射端40aから出射端40bへ導波され、該出射端40bから出力される。光導波体40は、コア41の幅方向(x方向)の或る所定直線に沿って、コア41からなるスラブ導波路における導波光に対する実効屈折率が不均一な分布を有している。 (もっと読む)


【課題】光損失を大きくすることなしに、ヒケや気泡の発生を抑制し、はみ出した樹脂層をできるだけ薄くすることができる光導波路及び成形型を提供する。
【解決手段】この光導波路1は、クラッド基板2と、一方に入射側反射面30、他方に出射側反射面31を有してクラッド基板2の下面2b上に硬化性樹脂から形成され、外部から入射した光信号を入射側反射面30で反射して他方に伝搬させ、光信号を出射側反射面31A〜31Dで反射して外部に出射する導波路コア3と、導波路コア3の光信号の伝搬に寄与しない非伝搬領域に接続され、導波路コア3の硬化性樹脂の未硬化時に流路として機能した流路樹脂部4とを備える。 (もっと読む)


【課題】導波路コア間に溝を形成しなくても導波路コア間のクロストークを抑制することができる光導波路、成形型及び光伝送装置を提供する。
【解決手段】この光導波路1は、クラッド基板2と、クラッド基板2の下面2bに設けられた複数の導波路コア3と、導波路コア3間に設けられた複数の構造体4とを備え、導波路コア3は、入射した光信号を傾斜面により長手方向に反射する入射側反射面30と、長手方向に所定の間隔を有して設けられた複数の段差部にそれぞれ形成され、傾斜面により光信号を外部に反射する複数の出射側反射面31A〜31Dとを備える。 (もっと読む)


【課題】ボイドの発生が抑制され、生産効率の向上を実現してなるタッチパネル用光導波路の製造方法を提供する。
【解決手段】オーバークラッド層の形成が、コア部3が形成されたアンダークラッド層2面上に、オーバークラッド層形成材料用の未硬化あるいは半硬化の光重合性樹脂組成物の塗工層4aを形成する。ついで、上記塗工層4aに、光透過性材料にて形成されてなる成形型6の所定の型面を合わせて加圧した後、上記成形型6を介して上記塗工層4aを露光する。露光後,成形型を離型することにより上記コア部3を埋設した状態でオーバークラッド層を形成する。 (もっと読む)


【課題】光電気混載基板を製造する際の工程を減らすことができ、さらに、製造される光電気混載基板の薄型化を図ることができる光電気混載基板の製造方法およびそれによって得られた光電気混載基板を提供する。
【解決手段】複数のコア(光配線)3を所定のパターンに突出形成した後、その隣接するコア3とコア3との間の溝部に、金属薄膜4を形成する。そして、その金属薄膜4に対して電解めっきを施し、上記溝部を電解めっき層6aで埋め、そのめっき層6aを電気配線6とする。 (もっと読む)


【課題】光電気混載基板を製造する際の工程を減らすことができ、さらに、製造される光電気混載基板の薄型化を図ることができる光電気混載基板の製造方法およびそれによって得られた光電気混載基板を提供する。
【解決手段】複数のコア(光配線)3を所定のパターンに突出形成した後、その隣接するコア3とコア3との間の溝部に、金属薄膜4を形成する。そして、その金属薄膜4に対してビアフィルめっきを施し、上記溝部をビアフィルめっき層6aで埋め、そのめっき層6aを電気配線6とする。 (もっと読む)


【課題】光電気混載基板を製造する際の工程を減らすことができ、さらに、製造される光電気混載基板の薄型化を図ることができる光電気混載基板の製造方法およびそれによって得られた光電気混載基板を提供する。
【解決手段】コア用樹脂層上にレジスト層を形成した後、それを所定のパターンに形成し、そのコア用樹脂層部分をコア(光配線)3とする。ついで、アンダークラッド層2上に金属薄膜5を、レジスト層およびコア3を被覆した状態で形成し、その後、レジスト層を、その表面の金属薄膜5と共に除去する。つぎに、残存した金属薄膜5に対して電解めっきを施すことにより、隣接するコア3とコア3との間の溝部6を、電解めっきによるめっき層7aで埋め、そのめっき層7aを電気配線7とする。 (もっと読む)


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