【課題】適用対象範囲や回路構成等の設計の自由度が広く、製造が容易な光導波路形成基板を提供する。
【解決手段】光導波路形成基板１７は、面方向に見て、硬質の基板２および１２を有する硬質部１７１、１７３と、それらの間に位置する湾曲変形可能な可撓性部１７５とを有している。硬質部１７１の内部には、発光素子または受光素子で構成される素子１が設置されている。可撓性部１７５は、基板２および基板１２からそれらの一部である不要部２３および１２３が除去されて得られたものである。光導波路９は、硬質部１７１と可撓性部１７５と硬質部１７３とにまたがって形成されている。光導波路９は、クラッド層９１、コア層９３およびクラッド層９７をこの順に積層してなるものであり、コア層９３には、屈折率が異なるコア部９４およびクラッド部９５が形成されている。 （もっと読む）

厚み方向に鏡映対称な屈折率分布と構造を有する原子誘電体柱６を有し、原子誘電体柱は２次元格子状に配列されて誘電体柱格子を成し、誘電体柱格子が一様、または、ほぼ一様な屈折率分布を有する周囲誘電体８の中に配置され、周囲誘電体の一部として有機樹脂がフォトニック結晶の厚み方向に非対称な位置に配置されている。
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【課題】光ファイバを搭載するためのＶ溝を有する基板上にポリマーからなるコア及びクラッドを有する光導波路デバイスを製造する際に、コア及びクラッド層用ポリマー塗布液が隣接するＶ溝の開口部方向へ垂れ込みを起こし、得られた光導波路のコア中心が設計値よりも低い位置となることを防止する。
【解決手段】基板上にＶ溝２を設ける工程、前記基板上にＮＶが３５％以上である埋め込みポリマー４用塗布液を塗布し、乾燥した後、前記Ｖ溝２内にのみ埋め込みポリマー４が残存するように、他の不要部分を除去する工程、前記基板上にポリマーからなる光導波路６を形成する工程、前記光導波路６の端面位置に切り込みを入れる工程、及び前記Ｖ溝２内及びＶ溝２上のポリマー４を全て除去する工程、を有する光導波路デバイスの製造方法。 （もっと読む）

分子中に酸無水基及び／又は酸基がブロック化されてなる酸性基とラジカル重合性不飽和基を有するラジカル重合性化合物（ａ）と、それ以外のラジカル重合性化合物（ｂ）との共重合体（Ａ）、重合性不飽和化合物（Ｂ）、及び重合開始剤（Ｃ）を必須成分として含有することを特徴とする光導波路用硬化性樹脂組成物；この組成物からなる光導波路用硬化性ドライフィルム；及び、これらを用いて、下部クラッド層１３、コア部分１５及び上部クラッド層１７の少なくとも一つが形成されて成る光導波路が開示される。 （もっと読む）

より簡単な光学系でフォトニック結晶の周期を有さない方向に対して光を閉じ込めることが要望されていた。 入射される光の光軸２０の方向に垂直な第一の方向に関して，光軸２０から両方向に向かって減少する屈折率分布１２を有する第一の部材と，第一の部材の中に，第一の方向とは異なる第二の方向に関して，実質的に周期的に配置された第二の部材とを有するＧＩ型フォトニック結晶スラブ４を備え，第一の部材が有する第一の方向に関する屈折率分布１２と，ＧＩ型フォトニック結晶スラブ４が有する第一の方向に関する厚さと，入射される光の波長と，入射される光の，光が入射されるＧＩ型フォトニック結晶スラブ４の入射端９の内側における，第一の方向に関する入射端ビームスポット半径ω_１とは，入射される光が第一の方向に関してＧＩ型フォトニック結晶スラブ４の内部に実質上閉じ込められるように決定されている光デバイスである。 （もっと読む）

本発明は、光透過要素の少なくとも一側または一端がエアクラッドであるように定義されるパターニングされたクラッドを有する集積光導波路に関する。パターニングされたクラッドを有する光導波路の製造方法は、所定の波長を透過する基板の一部に所定の波長を透過しないパターニングされたブロッキング層を形成し、パターニングされたブロッキング層及び／または基板の覆われていない部分上にコア層を堆積し、コア層を上方からパターニングして光透過要素を設け、光透過要素上及び／またはパターンニングされたブロッキング層上及び／または基板の覆われていない部分上に、所定の波長の光に晒すことによって硬化可能な材料を含む上部クラッド層を設け、上部クラッド層に下方から所定の波長の光を照射し、パターニングされたブロッキング層上に位置しない上部クラッド層の部分を硬化し、上部クラッド層の非硬化部分を除去することを含む。
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第１の光導波路（２４；５２；８０；９４；１２０；１４０）と、第２の光導波路（２６；４２；５４；８２；９６；１２２；１４２）とを含む可変光減衰器（ＶＯＡ）デバイス（２０；４０；５０；９０）が述べられる。前述の第１及び第２の光導波路の少なくとも一方に対して制御可能な配向を有するマイクロ電気機械式システム（ＭＥＭＳ）ベースの部品のような可動反射素子（２８；８４；１０６；１２４；１４４）が与えられる。第１及び第２の導波路は、中空コア光導波路として形成される。
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