説明

Fターム[3C081AA19]の内容

マイクロマシン (28,028) | 目的、効果 (2,695) | 工程改良 (806) | プロセス効率化、安定化 (494) | 工程削減 (43)

Fターム[3C081AA19]に分類される特許

41 - 43 / 43


【課題】ハードマスクの除去を必要としない構造体の製造方法を提供する。
【解決手段】 酸化ケイ素を有する構造体の製造方法である。基板上に、有機SOGからなる第一の層を形成する工程と、この第一の層の上に、無機SOGからなる第二の層を形成する工程を有する。その後、第二の層に形成された前記パターンをマスクとして、第一の層をエッチングし、第一の層と第二の層とを焼成することにより、酸化ケイ素を有する構造体を作製する。 (もっと読む)


【課題】
生産性が高く、安価で、かつ耐薬品性に優れ、種々の条件で使用することのできるマイクロ化学チップおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】
セラミックグリーンシート32の表面に、予め定める形状の型を押圧して溝部36を形成した後、溝部36を覆うように別のセラミックグリーンシート31を積層し、積層したセラミックグリーンシート31,32を所定の温度で焼結させることによって、被処理流体を流通させる流路が形成されたセラミック材料から成る基体を形成し、マイクロ化学チップを得る。このマイクロ化学チップは、生産性が高く、また製造原価も低いので、安価である。また、耐薬品性に優れ、種々の条件で使用することができる。 (もっと読む)


【課題】薄膜トランジスター製造技術を使用して反射表示デバイスを作る方法を提供する。
【解決手段】(光干渉変調器などの)MEMSデバイスは薄膜トランジスター(TFT)製造技術を使用して製造されうる。ある実施形態では、MEMS製造プロセスは、TFT生産ラインを識別することと、TFT生産ラインでMEMSデバイスの製造の準備をすることとを含んでいる。別の実施形態では、光干渉変調器は、あらかじめTFT生産のために構成された生産ラインで少なくとも部分的に製造される。 (もっと読む)


41 - 43 / 43