【課題】簡単な構造、プロセスで、効率の高いガス濾過システムを提供する。
【解決手段】ガス濾過システムは、液体濾過システムおよびガス移送システムを含む。液体濾過システムは、ガス洗浄液を含有する互いに接続された複数のタンク３０を有し、ガスは泡となってこの液体を通される。ガス移送システムは、ガスを移送するためにタンクに結合されたパイプを含む。タンクは、ガスポンプ１４ａ,ｂ、流体ポンプ１６、フィルタおよびガス流バッファのうち１つまたはそれ以上を格納するために用いられる乾燥タンクを含む。 （もっと読む）

【課題】温暖化効果ガスを含む排ガスを、効率的に熱処理する。
【解決手段】排ガスを、排ガス導入部１２から加熱処理部１４へと導入する。排ガスは、加熱処理部１４の円筒管２０にて、その基端部から末端部へ向けて一方向に通過する過程において、電磁誘導加熱手段２２により加熱される円筒管２０からの輻射熱を主に受けて、熱分解処理される。この際、整流手段２４により排ガスが旋回流となって円筒管２０を通過することから、排ガスの加熱時間が十分に確保される。その結果として、排ガス導入部１２から導入される排ガス量が急激に増加するような場合であっても、必要な分解能力が確保される。更に、排ガスが加熱処理されて生成される粉体及びガスは、水処理部１６において冷却され、かつ、加水分解され、更に、最終処理部１８においてガス中に残存するミストが除去される。 （もっと読む）

【課題】大量の焼却物を連続して焼却可能であり、短時間でも十分に焼却物を焼却できる焼却炉を提供すること。
【解決手段】本発明は、焼却物を投入するための投入部１３と、焼却物を焼却するための第１焼却室１１と、第１焼却室１１に連設された第２焼却室１２と、を備える焼却炉１０であって、第１焼却室１１が、投入された焼却物が載置される床部１５と、焼却物を燃焼させるためのバーナーと、バーナーに空気を供給するための送風孔１８と、を備え、床部１５上で焼却物又は焼却物を移動させる焼却炉１０である。 （もっと読む）

【課題】塩ビ系廃棄物の燃焼温度を現在実用化温度での燃焼炉温度として塩分回収可能かつ使用する水はクローズ的に循環使用可能な乾式塩分回収方法及びプラントの提供。
【解決手段】塩ビ系廃棄物投入機構１を直結し、内部に一次燃焼室２ｄ、二次燃焼室２ｅを設けた燃焼炉２と、二次燃焼室２ｅからの燃焼ガスを定温冷却する温水ボイラ３と、温水ボイラ３を通した燃焼ガス中に、別置した苛性ソーダ溶液供給装置４からの苛性ソーダ溶液混入循環水を噴射する噴霧ノズル４ｂを内設した高温排気ダクト４ａと、高温排気ダクト４ａからの燃焼ガス中の塩素ガスの一部を残して殆んどと苛性ソーダとを化学反応してパウダー化塩を回収するサイクロン装置４とを順次ライン連結した特徴的構成の採用。 （もっと読む）

【課題】廃棄物処理設備において省エネルギー化を図る。
【解決手段】流動床式焼却炉２から排出される排ガスＸ４０によって、第１の予熱器３にて前記流動床式焼却炉２に供給するための燃焼用圧縮空気Ｘ３の予熱を行い、前記第１の予熱器３で加熱されて流動床式焼却炉２に向かう燃焼用圧縮空気Ｘ３’で、第１の過給機４のタービン４ｂを回転させるとともに、当該ターボ過給機４のコンプレッサ４ａにて前記第１の予熱器３に供給する圧縮空気Ｘ３の生成および送風を行う。 （もっと読む）

【課題】例えば半導体の製造設備や液晶パネルの製造設備から排気された有害排ガスを処理する処理装置に於いて、燃焼室から排気された燃焼排ガスを冷却し、且つ燃焼排ガスに含まれた粉塵の回収と有害ガスの吸収を効率的に行えるようにする。
【解決手段】処理装置は、主燃焼室１に於いて供給された排ガスを高温にして燃焼或いは分解し排気筒４から排気する燃焼室Ａと、排気された燃焼排ガスを冷却すると共に該燃焼排ガスに含まれた粉塵を排除する水スクラバーＣと、燃焼室Ａと水スクラバーＣを納める筐体Ｄと、燃焼室Ａの排気筒４と水スクラバーＣとを接続して配置された閉鎖容器状の排ガス通路Ｂと、排ガス通路Ｂに配置された冷却媒体の噴射ノズル２３と、を有する。 （もっと読む）

廃棄物処理装置（５）は、容器（２０）およびこの容器に設置された、可変性の炎を備えるＡＣプラズマトーチ（３５Ａ、３５Ｂ）を備える。トーチにより生成される炎は、処理される廃棄物の特徴に依存して、調節され得る。廃棄物は、容器内に導入され得、そして、炎からのエネルギーにより加熱され得る。このエネルギーは、廃棄物の無機部分を溶融またはガラス化し得、そして、廃棄物の有機部分をガス化および分離し得る。この分離は、廃棄物の有害もしくは毒性の構成成分を破壊し得る。
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