【課題】必要な時期まで可視光下で操作し、保存することができ、その使用時期が到来したとき光照射することにより重合を開始する光硬化性組成物を提供する。
【解決手段】ａ）重合性単量体と、ｂ）酸性成分と、ｃ）１以上のカルボニル基を有し、可視光域に吸収を有する化合物のアセタール誘導体からなる光重合開始剤前駆体と、を含有する光硬化性組成物であって、ｂ）の酸性成分とｃ）の光重合開始剤前駆体とが分包されてなることを特徴とする光硬化性組成物。 （もっと読む）

【課題】感度、解像度及びドライエッチング耐性といったレジスト性能、有機溶媒に対する溶解性に優れ、ラインエッジラフネスが少ないレジスト組成物用樹脂を提供する。
【解決手段】下記式（７）等で表される構成単位を１種以上含む（共）重合体。
（もっと読む）

【課題】露光中に光酸発生剤から発生された酸によって、露光後の加熱過程中に２次酸を生成して、フォトレジストパターンのラインエッジ粗さを改善し、フォトレジストのエネルギー感度を向上することができるアセタール基を有する酸増幅剤およびこれを含むフォトレジスト組成物が開示される。前記酸増幅剤は下記化学式の構造を有する。
【解決手段】
前記化学式において、Ｒは炭素数４から２０の単環式または多環式飽和炭化水素基であり、Ｒ_１は炭素数１から１０の線状炭化水素基、炭素数１から１０のペルフルオロ化合物の残基、または炭素数５から２０の芳香族化合物の残基であり、Ｒａ及びＲｂはそれぞれ独立して水素原子または炭素数１から４の飽和炭化水素基であり、Ａはそれぞれ独立して酸素原子（Ｏ)または硫黄原子（Ｓ）である。 （もっと読む）

式(I)の化合物（ここで、置換基は請求項1で定義したものである）、および式Ｉの化合物の農学的に許容される塩およびすべての立体異性体と互変異性体型は、除草剤として使用するのに適している。
【化１】

（もっと読む）

【課題】本発明は、スピロ環状ケタール基を有するフォトレジスト用ポリマーおよびこれを含むフォトレジスト組成物を提供する。
【解決手段】前記ポリマーおよびフォトレジスト組成物は、スピロ環状ケタール基が脱保護される反応の活性化エネルギーが低いため解像度および工程余裕度を改善でき、露光後べーク温度敏感度が低いため精密なパターンを具現できる。 （もっと読む）

本発明は、ｍＧｌｕＲアゴニストとして有用なビシクロ［３．１．０］ヘキサン誘導体の新規な製造方法、およびこの製造方法で得られる新規な中間体に関する。 （もっと読む）