レーザを主体とする穿設技術により直径と個所とが分かっている極めて小さい孔（３０、３０´）を有する微孔性フィルタ（１０）を提供する。この技術の一例では、一種以上の均一なスポット寸法を有するレーザビーム（６２）を使用して各孔を形成する。レーザビームは、深さ方向で基板（１２）中の該当する既知の距離に対して材料を除去し、各孔内に所望数の段（３２、３８、４４）を形成する。前記技術の他の例では、インプリント式のパターン化用ツールフォイル（８０）を使用することによって、孔の段に対応した特定の直径及び距離の凹部（３２、３８）を基板中にスタンピング形成する。これらの双方の例では、ガウス形状のレーザビームにより材料の最後の部分を取り除き、極めて小さい直径の最終段（４４）を形成する。
（もっと読む）

【課題】長い耐用年数にわたって、高い処理量を有し、圧力変動を含む圧力負荷に耐えるとともに、機械的に安定しているメンブランフィルタを提供する。
【解決手段】フィルタエレメントは、複数の穿孔を有するメンブレン層とキャリア層とを有する。 キャリア層において、膜チャンバが露出し、メンブレン層は膜チャンバ上に広がる。メンブレン層は、開始材料の強度よりも高められた強度を有する、圧縮され、且つ／又は少なくとも部分的に結晶性の構造を有する。

（もっと読む）

本発明は、複合ガス分離モジュールの製造における欠陥を矯正する方法、および該方法を含むプロセスによって形成される複合ガス分離モジュールに関する。本発明はまた、水素ガス含有ガス流から水素ガスを選択的に分離する方法に関する。複合ガス分離モジュールの製造における欠陥を矯正する方法は、パラジウムを含有する第一の材料を多孔質基材上に堆積させ、それにより、被覆された基材を形成することを含み、ここで、被覆された基材は少なくとも1つの欠陥を含む。次いで、被覆された基材は欠陥に最も近くで選択的に表面活性化でき、それにより、被覆された基材の少なくとも1つの選択的に表面活性化された領域を形成する。次いで、第二の材料を、被覆基材の選択的に表面活性化された領域に優先的に堆積させることができ、それにより欠陥は矯正される。

（もっと読む）