Fターム[4F073]の内容
高分子成形体の処理 (12,894)
Fターム[4F073]の下位に属するFターム
処理目的 (2,235)
被処理物の材料 (4,193)
被処理物の形状、処理部位 (1,591)
波動エネルギーによる処理 (1,693)
気体と接触させる処理 (195)
液体による処理 (1,475)
重合性物質を用いる処理 (487)
他の分類に含まれない処理 (399)
調整、計量、制御 (626)
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高分子成形体の処理 (12,894)
処理目的 (2,235)
被処理物の材料 (4,193)
被処理物の形状、処理部位 (1,591)
波動エネルギーによる処理 (1,693)
気体と接触させる処理 (195)
液体による処理 (1,475)
重合性物質を用いる処理 (487)
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