高分子成形体の処理

Fターム［4F073AA00］の内容

Fターム［4F073AA00］の下位に属するFターム

親水性、接着性、印刷性、塗装性 (463)
はっ水性、親油性 (79)
帯電防止 (38)
導電性 (97)
架橋、ブリードアウト防止、ブロッキング防止 (159)
凹凸化、粗面化、多孔化、エッチング、つや消し (98)
表面硬化、耐摩擦性、耐摩耗性 (112)
生体適合性、生理活性、抗血栓性 (36)
防かび性、殺菌 (54)
表面平滑性、滑性 (51)
選択透過性、イオン交換性、透湿性 (65)
耐熱性、防火性、難燃性 (73)
耐薬品性、耐候性、耐水性、耐光性 (79)
光学的性質の改善 (91)
着色 (32)
白化防止、透明性 (8)
気密性、バリヤー性 (54)
圧電性、制電性 (19)
表面層の樹脂を溶解 (33)
表面層の粒子を溶解 (4)
成形体からの不純物の除去、抽出 (35)
膨潤、含浸 (55)
洗浄、脱脂 (23)
染色 (15)
加水分解、アルコール分解 (21)
被覆 (67)
アニーリング、内部歪除去 (38)
ハロゲン化 (11)
酸化 (27)
その他 (296)

Fターム［4F073AA00］に分類される特許

1 - 2 / 2

構造体の製造方法

【課題】基板上の複雑な構造物を必要とせず、効率よく配向された構造体の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明による規則的な構造体は、各セグメントの誘電率及び透磁率が異なるブロックポリマー薄膜に、互いに直交する電場と磁場とを印加させることによって得られることを特徴とする。また、本発明による構造体の製造方法は、複数のセグメントからなり該複数のセグメントのそれぞれのセグメントの誘電率と透磁率とが異なるブロックポリマーに、互いに直交する電場と磁場とを印加する工程を有することを特徴とする。（もっと読む）

キヤノン株式会社 (59,756)