【課題】所望の光学機能をもち、設計所自由度が大きい光学素子を高い歩留まりで製造できる光学素子製造方法を提供する。
【解決手段】基板１１上にＳｉＯ₂を骨格とする重縮合材料を液状で塗布する塗布工程と、塗布形成された塗布層１２０に対してプリベークを行って塗布層をゲル化してゲル層１２１とするプリベーク工程と、得られたゲル層１２１に対して、微細な凹凸構造に反転的に対応する表面形状を有する押型２００を押圧した状態で、熱および／または光によりゲル層１２１を硬化して、表面形状の反転形状をゲル層に転写する転写工程と、転写工程後に、硬化したゲル層である硬化層１２２から押型２００を型抜きする型抜き工程とを有し、プリベーク工程におけるゲル化の程度を押型２００の表面形状の転写に適したゲル化状態に調整する。 （もっと読む）

【課題】高いコントラストを有する模様を転写し得る離型紙を高い生産効率で製造することができる製造方法を提供する。
【解決手段】製造方法は、原反２０に凹凸模様１２を形成して離型紙１０を製造する方法である。製造方法は、ブラスト加工によって、前記凹凸模様の凹凸よりも微小な凹凸１６を前記原反の表面２０ａに形成する工程と、エンボス加工によって、微小な凹凸を形成された前記原反の前記表面に前記凹凸模様を形成する工程と、を備える。 （もっと読む）

【課題】チッピングによるクラックの寸法を低減し、基板表面への異物の付着を抑制することが可能な加工方法を提供する。
【解決手段】基板１０上に保護膜１４を形成する工程と、保護膜１４を選択的に除去し、加工領域１６として基板１０の表面の一部を露出する工程と、加工領域１６の基板１０の上部を４００ｎｍ以上、かつ１０００ｎｍ以下の深さで除去して、算術平均粗さＲａが３０ｎｍ以上、かつ５００ｎｍ以下の範囲となるように粗化加工する工程と、加工領域１６においてブレード２０を用いて基板１０に溝２２を形成する工程とを含む加工方法である。 （もっと読む）

【課題】ハニカム状に整列した微細な孔からなる周期構造を任意のパターンで有する薄膜を製造する方法を提供する。
【解決手段】非水溶性ポリマーからなるハニカム状多孔質体にレリーフ及び／又はスリットからなるパターンを有する鋳型を接触させて該パターンをハニカム状多孔質体に転写することを含む、パターン化されたハニカム状多孔質体の製造方法。本発明の製造法は、ハニカム状に整列した微細な孔からなる周期構造を任意の部分で破壊することができ、製造されるパターン化ハニカム状多孔質体は、フォトニック結晶や細胞培養用の基板として利用可能である。 （もっと読む）

本発明は、箔が１μｍ〜１０００μｍの厚さＤを有しており、箔の中に少なくとも１つの中空構造があり、中空構造の外径ｄは箔の厚さＤの少なくとも２倍の値を有しており、中空構造の高さｈは外径ｄの高々２倍の値をとり、中空構造の壁強度ｂは箔の厚さＤの０．０２倍から箔の厚さＤまでの間にあり、中空構造の局所的曲率ｒは壁強度ｂの０．２倍から５倍までの間にあり、前記箔と前記少なくとも１つの中空構造が多数の有利には統計的に分布した細孔を有しており、細孔の直径が好ましくは１０ｎｍ〜１０μｍであるような、箔から成る成形体に関するものである。
本発明はさらに、上記成形体を形成する方法と、上記成形体の、マイクロ構造化された部材のハウジングとしての使用、無機分子または有機分子、生体分子、原核細胞または真核細胞の固定化のための使用、原核細胞または真核細胞の培養のための使用、バイオセンサまたはバイオリアクタとしての使用にも関するものである。
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