【課題】ナノインプリント装置におけるインプリント時のレジスト層の残渣を無くして、微細なパターンの形成、高密度なビットパターンド媒体を製作する。
【解決手段】レジストの表面に微小な凹凸パターンを有するモールド４１を押し当てることによって、モールド４１上の突起部４７で凹凸をレジストの表面に転写するナノインプリント装置において、モールド４１の突起部４７の頂面に連続する溝部４８を設けておき、モールド４１をレジストに押し当てる時に、レジストの一部がこの溝部４８内に収容されるようにして、レジスタの残渣が少なくなるようにしたナノインプリント装置である。 （もっと読む）

【課題】微細構造の破損または基板に傷を付けにくく、容易に離型が可能であり、高品質の情報記録媒体基板を作製できる、情報記録媒体基板の製造方法を提供する。
【解決手段】情報記録媒体基板の製造方法は、基板基材２上に形成される成形材料３に、凹凸構造１ａを有するモールド１を押し付けて凹凸構造を成形材料３に転写する工程と、モールド１を押し付けた状態で、成形材料３を固化させる工程と、固化した成形材料３から、モールド１を離型する工程とを備え、モールド１を離型する工程は、成形材料３が固化した状態において液体である浸漬用物質４に、成形材料３およびモールド１を浸漬させた状態で行う。 （もっと読む）

【課題】スタンパの打ち抜き加工の際、スタンパの切断面にバリが全く発生しないこと。
【解決手段】スタンパ原盤１２が、下敷部材１０を介して固定側打ち抜きダイ２０の刃部２０Ｂに載置された後、押出プレート１４により押圧された状態で、スタンパ原盤１２が、可動側打ち抜きダイ１８の刃部１８Ｅで下敷部材１０とともに剪断されるもの。 （もっと読む）

【課題】ドライエッチング速度の選択性が高く、かつレジスト等に用いる微細パターンを熱またはＵＶナノインプリント法によって形成することのできる転写材料用硬化性組成物およびその形成方法を提供する。
【解決手段】アクリロイル基を有するポリシロキサンからなり、分子の末端が−Ｏ−Ｓｉ（ＯＲ）_３（ここでＲは炭素数１〜４のアルキル基である）または−Ｏ−Ｓｉ（ＯＸ）_３（ここでＸはアクリロイル基を含有する基である）であって、すべてのＲに対するＸの存在割合が０．１以上である硬化性ケイ素化合物を含有する、微細パターンを形成するための転写材料用硬化性組成物およびこれを用いた微細パターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】剥離性が高いインプリント用モールド構造体、転写工程後にレジストからモールドを剥離する際、レジストに転写されたパターンの破損を低減するインプリント方法、並びに信号品位を向上させた磁気記録媒体及びその製造方法の提供。
【解決手段】転写工程と、硬化工程とを少なくとも含むインプリント方法に用いられるインプリント用モールド構造体１であって、前記インプリント用モールド構造体１の前記転写面の硬度をＨＭＳとし、前記転写工程における前記インプリントレジスト層の硬度をＨＢＲとし、前記硬化工程後における前記インプリントレジスト層の硬度をＨＡＲとしたとき、ＨＢＲ＜ＨＭＳ＜ＨＡＲ（ただし、ＨＭＳ≦１ＧＰａ）を満たすインプリント用モールド構造体等である。 （もっと読む）

【課題】溶液処理による配向下地層表面の汚染が無く、エッチングに起因する基板の凹部底面の面状低下の影響が無く、高記録密度の磁気記録層を高品質に維持できる磁気記録媒体、及び簡便にパターン形成した磁気記録層を基板上に形成することができる磁気記録媒体の製造方法の提供。
【解決手段】樹脂層形成工程と、凹凸部を表面に有するモールド構造体を樹脂層表面に押し当てて凹凸部を樹脂層へ転写するインプリント工程と、樹脂層に形成された凹凸部における凹部底面に残存する樹脂膜をドライエッチングにより除去し、該凹部に対応する基板表面を露出させ凸部樹脂層のみを基板上に残す残膜除去工程と、凹部に対応する基板表面に凸部樹脂層の凸部高さの半分以下の厚みとなるように磁気記録層を形成する磁気記録層形成工程と、磁気記録層が付着した凸部樹脂層を除去する凸部樹脂層除去工程と含む磁気記録媒体の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】所望とおりに突起の配列を形成することができる成型品の製造方法を提供する。
【解決手段】基板の表面に球状微粒子３６は配列される。基板の表面で球状微粒子３６を覆い隠す被覆膜３７は成膜される。被覆膜３７の裏面から被覆膜３７および球状微粒子３６にエッチング処理が施される。被覆膜３７の裏面は徐々に削られていく。このとき、被覆膜３７の裏面には球状微粒子３６の働きで窪みが形成される。窪みは球状微粒子３６の外形で象られる。こういった窪みが半球体よりも縮小すると、エッチング処理は終了される。エッチング処理の終了まで窪み内に球状微粒子３６は残存する。窪みの内壁面は浸食から保護される。半球面よりも縮小された部分球面で窪みが区画されれば、成型品の成膜時に確実に窪み内に成型品の材料は入り込む。被覆膜３７の裏面から成型品が剥離される際に成型品の突起は確実に被覆膜３７の窪みから抜け出る。 （もっと読む）

【課題】耐久性、及び基板に対する転写性が高く、ディスクリートトラックメディアや、パターンドメディアに高品質なパターンを転写形成するモールド構造体の提供。
【解決手段】厚みが０．３ｍｍ〜２．０ｍｍであり、表面にインプリントレジスト層が形成された基板に対し、表面に凹凸パターンが形成され、該凹凸パターンを前記インプリントレジスト層に対向させて該インプリントレジストに前記凹凸パターンを転写するモールド構造体であって、該モールド構造体の厚み（Ｄｍ）と、前記基板の厚み（Ｄｓ）と、該モールド構造体のカール量（Ｃ）とが、数式：０．０１≦１０，０００×（Ｄｍ^３／Ｄｓ^３）^１／２×Ｃ^２≦２５０を満たすことを特徴とするモールド構造体等である。 （もっと読む）