【課題】ナノインプリント方法において、レジスト膜のはがれが生じ難い形状転写層を形成することができるナノインプリントリソグラフィー用硬化性組成物を提供すること。
【解決手段】２５℃、１ａｔｍの条件下において、光又は熱により気体を発生する気体発生剤（Ａ）と、第二の反応性基を有し、光及び熱に対して安定な化合物（Ｂ）と、を含有するナノインプリントリソグラフィー用硬化性組成物である。 （もっと読む）

【課題】光インプリント後の被加工物との離型性に優れ、かつ、被加工物の意図しない部位への露光を確実に抑制できるナノインプリント用モールドと、このようなナノインプリント用モールドを簡便に製造するための製造方法を提供する。
【解決手段】透明な基材（２）の表面（２ａ）側に凹凸パターン（３）を備えたパターン領域（４）と、このパターン領域の周囲に位置する非パターン領域（５）を画定し、基材（２）のパターン領域（４）の表面（２ａ）は非パターン領域（５）の表面（２ａ′）に対して段差（６）を介し凸状とし、基材（２）の非パターン領域（５）の表面（２ａ′）を、遮光膜（８）と機能性膜（９）がこの順序で積層されてなる積層膜（７）で被覆したものとし、機能性膜は光吸収膜あるいは低反射膜とする。 （もっと読む）

【課題】非パターン領域からの光漏れや被加工物への異物の付着が防止され、種々のインプリント装置において安定した使用が可能な光インプリント用モールドを提供する。
【解決手段】光インプリント用モールドを、透明な基材（２）と、この基材（２）の表面（２ａ）側に形成された凹凸パターン（３ａ）と、遮光部（６）とを有するものとし、凹凸パターン（３ａ）が形成されたパターン領域（３）を含む所望の光透過領域（５）を画定するように遮光部（６）を配設し、かつ、遮光部（６）を非パターン領域（４）の基材（２）の内部に位置させる。 （もっと読む）

【課題】スタンパから分離された後の被形状転写層表面に形成された凹凸パターンに残存された残渣を容易に除去することができるスタンパ及びこのスタンパを用いた光インプリントリソグラフィ方法を提供する。
【解決手段】基板上に設けられた被形状転写層に転写するための凹凸パターン１２を有する光インプリントリソグラフィ法に用いられるスタンパ１０ａであって、凹凸パターン１２は、遮光性を有する凸部１２１ｓと透光性を有する凹部１２２ｔとを有する。本光インプリントリソグラフィ法は、ネガ型光硬化性を有する被形状転写層にスタンパ１０ａを圧接する工程と、スタンパ１０ａを被形状転写層に圧接した状態で被形状転写層を露光する工程と、スタンパ１０ａと露光後の被形状転写層とを分離する工程と、分離後の被形状転写層に形成された凹凸パターンを洗浄する工程と、を備える。 （もっと読む）

【課題】インプリント時のパターン歪みをモールド圧着時に測定し、転写精度を転写工程中に自動判定することによりインプリント精度の向上、収率の向上を図る。
【解決手段】被転写基板１にモールド３を圧着させる際に、モールド３上に設けたアラインメントマーク８の位置座標をアラインメントマーク検出器１２により測定し、圧着時のアラインメントマーク８変位量から回帰解析を行いモールド３上の転写パターン領域の歪み量を算出する。この歪み量を判定基準とし、転写精度の判断や転写異常を自動判定する。 （もっと読む）

【課題】基材よりはみ出した被転写材を基材側から取り去る転写型を提供する。
【解決手段】表面に穴を中心に同心円状の複数の凹凸構造１１０を備えた円環領域１０３と円環領域１０３を囲む外部領域１０４及び円領域１０５とを有し、円環領域１０３と、円環領域１０３と同一の大きさであって中心に穴を有する円盤状の基材００１との間に配置された被転写材を挟み押圧することで、被転写材に凹凸構造１１０を転写する転写型１００であって、円環領域１０３、外部領域１０４、及び円領域１０５のそれぞれは、被転写材を円環領域１０３から離型させた時点で外部領域１０４及び円領域１０５に被転写材が接着している離型性を有する。 （もっと読む）

【課題】スタンパの打ち抜き加工の際、スタンパの切断面にバリが全く発生しないこと。
【解決手段】スタンパ原盤１２が、下敷部材１０を介して固定側打ち抜きダイ２０の刃部２０Ｂに載置された後、押出プレート１４により押圧された状態で、スタンパ原盤１２が、可動側打ち抜きダイ１８の刃部１８Ｅで下敷部材１０とともに剪断されるもの。 （もっと読む）

【課題】基板上の薄いレジストに対して良好にパターンを転写できる樹脂インプリントスタンパを提供する。
【解決手段】中心部に貫通孔を持つドーナツ状の樹脂材料からなり、表面の一部にトラックピッチ１００ｎｍ以下で複数のランド／グルーブが円周上に配列したパターン部を有し、前記パターン部の端から内周側へ向かって３ｍｍ未満の領域に、前記パターン部の上面に対して１０μｍを超える高さをもつ突起および段差を持たないことを特徴とする樹脂インプリントスタンパ５０。 （もっと読む）

【課題】微細な凹凸パターンを転写した製品のバリの発生を抑制することのできる熱ナノインプリント方法を提供する。
【解決手段】型１７に形成された微細な凹凸パターン１５を熱可塑性樹脂の被成形材料９に転写する熱ナノインプリント方法であって、雌型３に形成された凹部５内に、体積が前記凹部５の体積にほぼ等しい体積の被成形材料９を配置し、前記雌型３及び被成形材料９を加熱すると共に前記型１７でもって前記被成形材料９を押圧し、押圧した状態でもって前記型１７及び被成形材料９の冷却を行い、その後に離型を行い、前記被成形材料９は、上部周縁部に予め面取り部が形成してある熱ナノインプリント方法である。 （もっと読む）

【課題】高い転写性を有する転写加工装置および転写加工方法を提供する。
【解決手段】本転写加工装置は、表面に凹凸パターン１２が形成されている原型１１と、原型１１を固定するホルダ１３と、被加工樹脂２０を載せるステージ１７と、ホルダ１３およびステージ１７を加熱する加熱装置とを有し、原型１１を被加工樹脂２０に押圧することにより被加工樹脂２０に凹凸パターン１２を転写する転写加工装置１０であって、ホルダ１３の原型１１を固定した面に、押圧方向Ｐに移動可能な樹脂堰き止め機構１５を有することを特徴とする。 （もっと読む）