【課題】焼成によって正極活物質を製造する間に原料から拡散するリチウム成分に対する耐食性が高い窯道具を提供すること。
【解決手段】本発明のリチウム二次電池の正極活物質製造用の窯道具は、βスポジュメンを含むセラミック素材からなる。窯道具におけるＬｉ₂Ｏの含有割合は１〜１２質量％であり、Ａｌ₂Ｏ₃の含有割合は１５〜４０質量％であり、ＳｉＯ₂の含有割合は５５〜７５質量％であることが好適である。窯道具におけるＮａ₂Ｏの含有割合が１質量％以下であり、Ｋ₂Ｏの含有割合が２質量％以下であり、かつ両者の総和が３質量％以下であることも好適である。 （もっと読む）

【課題】Ａｇ、Ａｕ、Ｃｕ等の低抵抗金属と同時焼成が可能であり、しかも高い機械的強度と低熱膨張性を実現する、高強度低熱膨張性磁器及びその製造方法の提供。
【解決手段】式（１）


（式中、ａは質量比で０．０４〜０．２５であり、α、β、γ及びδは質量％比でα：β：γ：δ＝７．６〜１３．２：４．０〜１０．３：１３．０〜３０．４：５３．７〜７２．８である。）で示される組成を有する複合酸化物を含む高強度低熱膨張性磁器及びその製造方法。 （もっと読む）

【課題】Ａｇ、Ａｕ、Ｃｕ等の低抵抗金属と同時焼成が可能であり、しかも高い機械的強度と低熱膨張性を実現する、低温焼成高強度低熱膨張性磁器及びその製造方法の提供。
【解決手段】以下の式
(1−ｘ)(αＬｉ₂Ｏ−βＭｇＯ−γＡｌ₂Ｏ₃−δＳｉＯ₂）・ｘＢｉ₂Ｏ₃
（式中、ｘは質量比で０．０１〜０．１であり、α、β、γ及びδはモル比でα：β：γ：δ＝２〜５：１〜２：１〜２：７〜１７である。）で示される組成を有する複合酸化物を含む高強度低熱膨張性磁器及びその製造方法。 （もっと読む）

【課題】ガラス基板の熱処理温度域で繰返し使用しても反り変形が発生しにくいガラス基板熱処理用セッターを提供することを目的とする。
【解決手段】本発明のガラス基板熱処理用セッターは、結晶化ガラス又はセラミックス焼結体からなり、載置面において深さ３μｍ以上の凹部が、平均して５００μｍあたり１つ以上の割合で存在することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】表面性状が良好なフラットパネルディスプレイ基板を製造することができるフラットパネルディスプレイ基板製造用棚板を提供する。
【解決手段】フラットパネルディスプレイ基板を載せて熱処理するための棚板であって、光沢度が５度以上であるか、又は写像性が５％以上である。好ましくは熱膨張係数が２．０×１０^−６／℃以下であり、曲げ強さが４０ＭＰａ以上であり、ヤング率が３０ＧＰａ以上である。 （もっと読む）

【課題】ガラス基板の熱処理温度域で繰返し使用しても反り変形が発生しにくいガラス基板熱処理用セッターを提供することを目的とする。
【解決手段】ガラス基板熱処理用セッターは、板状のセラミック焼結体からなり、一方の面にガラス基板を載置して熱処理するためのガラス基板熱処理用セッターにおいて、セラミック焼結体は、Ｋ₂Ｏを０．５〜４質量％含有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】低コストで、実用に耐えうる十分な接合強度を有し、接合の信頼性が高く、低熱膨張かつ剛性及び比剛性の高い低熱膨張セラミックス接合体およびその製造方法を提供する。
【解決手段】室温における熱膨張係数の絶対値が０．６×１０^−６／Ｋ以下、弾性率が１００ＧＰａ以上、比剛性が４０ＧＰａ・ｃｍ^３／ｇ以上のコーディエライト結晶質焼結体からなる複数の部材の接合面同士を接触させ、熱処理により接合一体化した接合体およびその製造方法である。焼結体は当該焼結体の構成元素（Ｍｇ，Ａｌ，Ｓｉ）中におけるＳｉの割合が酸化物（ＭｇＯ，Ａｌ_２Ｏ_３，ＳｉＯ_２）換算で５１．５〜７０．０質量％となる条件でＳｉを含有する。焼結体中の余剰ＳｉＯ_２が加熱時に液相を形成して物質移動を活性化し、これにより接合部の材料が実質的に母材と同じになり、熱膨張係数差に起因する残留応力を解消して、極めて高い接合強度の接合体が得られる。 （もっと読む）

本発明は、ガラスセラミック材料、その製造プロセスおよびそれを含む物品に関する。本発明のガラスセラミック材料は、全組成の質量で表して、５５〜６８％のＳｉＯ₂、１８〜２４％のＡｌ₂Ｏ₃、３．３〜４．１％のＬｉ₂Ｏ、１．５〜４．０％のＺｎＯ、１．５〜５．０％のＭｇＯ、２〜５％のＴｉＯ₂、０〜２％のＺｒＯ₂、０〜５％のＢ₂Ｏ₃、０〜８％のＰ₂Ｏ₅、０〜２％のＮａ₂Ｏ、０〜２％のＫ₂Ｏ、および効果的な量の少なくとも１種類の清澄剤から生じる少なくとも１種類の成分を含む組成であって、Ｂ₂Ｏ₃およびＰ₂Ｏ₅の合計が少なくとも１．５質量％であり、ＭｇＯおよびＺｎＯの合計が少なくとも約３．５質量％であり、Ｎａ₂ＯおよびＫ₂Ｏの合計が約３．０質量％未満であり、Ｐ₂Ｏ₅、Ｂ₂Ｏ₃、Ｎａ₂ＯおよびＫ₂Ｏの合計が約１１質量％未満であり、Ｎａ₂Ｏ＋Ｋ₂Ｏの総計のＰ₂Ｏ₅＋Ｂ₂Ｏ₃の総計に対する質量比（（Ｎａ₂Ｏ＋Ｋ₂Ｏ）／（Ｐ₂Ｏ₅＋Ｂ₂Ｏ₃））が約０．５未満であり、Ｐ₂Ｏ₅、Ｂ₂Ｏ₃、Ｎａ₂ＯおよびＫ₂Ｏの合計が約９質量％未満でありかつＮａ₂ＯおよびＫ₂Ｏの合計が約２質量％未満であることが好ましく、Ｐ₂Ｏ₅、Ｂ₂Ｏ₃、Ｎａ₂ＯおよびＫ₂Ｏの合計が約７質量％未満でありかつＮａ₂ＯおよびＫ₂Ｏの合計が約１質量％未満であることがより好ましい組成を有する。このガラスセラミック材料は、主結晶相としてβスポジュメン固溶体を含む。ある実施の形態において、本発明のガラスセラミック材料は、Ａｓ₂Ｏ₃およびＳｂ₂Ｏ₃を実質的に含まず、約０．３〜１．２質量％のＳｎＯ₂および０〜１質量％のＣｅＯ₂を含む。本発明のガラスセラミック材料のための前駆体ガラスは、約１６００℃未満で溶融し、比較的低温で比較的短期間に亘りβスポジュメンガラスセラミックにセラミック化できる。このガラスセラミック材料は、レンジ台上面プレートおよび調理器具の製造に使用するのに特に有利である。 （もっと読む）

【課題】可視光に対して不透明でありながら、容易に、しかも効率よく内部構
造の測定や検査が行える管状又は棒状のセラミックス物品の製造方法を提供する。
【解決手段】可視光に対して不透明な管状又は棒状のセラミックス物品の製造方法において、空気中から入射する波長１５５０ｎｍの赤外線の厚さ１ｍｍにおける透過率が４５％以上で、１５５０ｎｍにおける反射率をＲ、散乱係数と吸収係数の和をμとしたとき、（１−Ｒ）² ≧０．８４、かつ、μ≦０．７／ｍｍの条件を満たす材料を用いてセラミックス物品を作製する工程と、赤外線を用いて該セラミックス物品の内部構造を検査又は測定する工程を含むことを特徴とする。 （もっと読む）