Fターム[4G031GA03]の内容
酸化物セラミックスの組成 (18,827) | 製法 (3,951) | 杯土の構成原料 (1,167) | 原料粉末の粒度限定 (424)
Fターム[4G031GA03]に分類される特許
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誘電体粒子集合体、それを用いた低温焼結誘電体磁器組成物及びそれを用いて製造される低温焼結誘電体磁器
Tiを含有する誘電体からなり表層部にTiとZnとを含む酸化物を含有してなる誘電体粒子の集合体100重量部に対してガラス成分を2.5〜20重量部配合することで低温焼結誘電体磁器組成物が提供される。この低温焼結誘電体磁器組成物を880〜1000℃で焼成することで低温焼結誘電体磁器を製造する。これにより、Ag及びCuまたはこれらの少なくとも1つを含む合金からなる内部導体を有する積層構造電子部品を提供することができる。 (もっと読む)
絶縁体セラミック組成物、絶縁性セラミック焼結体および積層型セラミック電子部品
セラミック多層モジュール(1)のような積層型セラミック電子部品に備える多層セラミック基板(2)において積層される絶縁性セラミック層(3)のための絶縁体セラミック組成物であって、
フォルステライトを主成分とする第1のセラミック粉末と、CaTiO3、SrTiO3およびTiO2より選ばれる少なくとも1種を主成分とする第2のセラミック粉末と、ホウケイ酸ガラス粉末とを含み、ホウケイ酸ガラス粉末は、リチウムをLi2O換算で3〜15重量%、マグネシウムをMgO換算で30〜50重量%、ホウ素をB2O3換算で15〜30重量%、ケイ素をSiO2換算で10〜35重量%、亜鉛をZnO換算で6〜20重量%、および、アルミニウムをAl2O3換算で0〜15重量%含む。絶縁体セラミック組成物は、1000℃以下の温度で焼成可能であり、その焼結体は、比誘電率が低く、共振周波数の温度係数が小さく、Q値が高い。
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NOx除去性半透明コーティングに使用される組成物
本発明は、建設材料表面への半透明コーティングとして使用されるNOx除去性組成物であって、該NOx除去性組成物が、少なくとも、a)少なくとも脱NOx活性を持つ光触媒性二酸化チタン粒子、b)脱HNO3活性を持つ粒子、およびc)当該粒子がその中に分散されているところの、ケイ素に基づいた物質を含み、ここで当該光触媒性粒子が1〜50nmの範囲の結晶サイズを持ち、かつa)およびb)の粒子が当該組成物の全重量の20重量%未満の量で存在している、上記のNOx除去性組成物に関する。 (もっと読む)
アルミナ−イットリア粒子およびその製造方法
溶融多結晶質研磨粒子、ならびにその製造および使用方法。たとえば、本発明による溶融多結晶質研磨粒子は、研磨物品における研磨粒子として有用である。
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