【課題】耐プラズマ性に優れ、安定した酸化物膜を提供する。
【解決手段】大気開放型ＣＶＤ法により、加熱した基材１０の表面に金属酸化物原料５を吹き付けて酸化物膜を成膜する。その際、ＸＲＲ法によって測定した膜密度が理論密度（ＴＤ）の７５．０〜９８．０％未満の範囲となるように成膜条件を設定する。 （もっと読む）

【課題】金属酸化物膜を良好にパターニングすることが可能な金属酸化物膜の形成方法を提供する。
【解決手段】酸化チタン膜３の形成方法は、基材１上に、基材１の一部表面を選択的に露出させるために銅を主成分とするメタルマスク２を形成するステップと、メタルマスク２上と露出された基材１の一部表面上とにＣＶＤ法によって酸化チタン膜３を形成するステップと、メタルマスク２上に形成された酸化チタン膜３を剥離によって除去するステップと、酸化チタン膜３を剥離した後、メタルマスク２を除去するステップとを備える。 （もっと読む）

【課題】結晶性の高い柱状セラミックスを短時間で効率よく作製することが可能な製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】基板表面に複数のセラミックスの結晶核を形成する初期核形成工程と該基板表面にめっき法を用いて柱状セラミックス結晶を成長させる工程とを有することを特徴とするセラミックス膜の製造方法である。また前記初期核形成工程を大気開放型ＣＶＤ法で行うことが好ましい。さらに前記セラミックス膜が、多孔質膜であることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】形成しようとする酸化物系ナノ構造物と同じ組成を持つナノ核を利用してナノ構造物を成長させる酸化物系ナノ構造物の製造方法を提供する。
【解決手段】Ｍ（Ｍは、遷移金属元素または半金属元素）を含む有機物前駆体が有機溶媒に溶解されている混合溶液を基板の表面にコーティングするステップと、混合溶液がコーティングされた基板を熱処理して、基板上にＭｘＯｙ（ｘは１〜３の整数、ｙは１〜６の整数）組成を持つナノ核を形成するステップと、Ｍを含む反応前駆体をナノ核に供給しつつナノ核を成長させて、ＭｘＯｙ（ｘは１〜３の整数、ｙは１〜６の整数）組成を持つナノ構造物を形成するステップと、ナノ構造物を熱処理するステップと、を含む酸化物系ナノ構造物の製造方法。 （もっと読む）

本発明は、金属酸化物で被覆される金属コアを含む少なくとも１つのナノワイヤを含む一次元複合構造体、又はこのようなナノワイヤから構築される少なくとも１つの複合構造体に関する。本発明はさらに、これらの構造体との金属−有機結合体を分解することができる、触媒を用いないＭＯＣＶＤ法に関する。複合構造体はナノ電子、光学又は磁気部品又は材料に好適である。 （もっと読む）

加熱された基材上にナノ粒子薄膜もしくはナノコンポジット薄膜を製造するためのエアロゾル輸送操作の使用。 （もっと読む）

【課題】 大気圧または大気圧近傍の圧力で酸化物膜を形成する際に発生するクラックの問題を解決し、また生産性や絶縁特性に優れた酸化物膜の形成方法を提供する。
【解決手段】 大気圧プラズマＣＶＤによる酸化物膜の形成方法であって、前記酸化物膜の金属成分を含む有機金属系化合物ガスと、プラズマを発生させ膜成分となる酸素を主成分とする動作ガスを供給するＡ工程と、前記有機金属系化合物ガスの供給を止め、前記動作ガスのみを供給するＢ工程を繰り返し行うことにより基板上に酸化物膜を形成する酸化物膜の形成方法であり、前術のＡ工程とＢ工程を繰り返し行うことにより、基板上に形成された酸化物膜中のＣ量を原子量で２％以下にすることができる。 （もっと読む）

【課題】 均一で良質な金属酸化物の薄膜を低温で作製することができる薄膜作製方法を提供する。
【解決手段】 本発明の薄膜作製方法は、基板上に、ＣＶＤ法により金属元素を含有する前駆体膜を作製する前駆体膜作製ステップと、前駆体膜を、容器内において、アルカリ性水溶液に浸漬する浸漬ステップと、容器を密閉する密閉ステップと、密閉された容器内において、水熱処理により前駆体膜を結晶化して、基板上に金属酸化物の薄膜を作製する水熱処理ステップとを含む。 （もっと読む）