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Fターム[4G062FA04]の内容

ガラス組成物 (224,797) | Cd (4,174) | 10−30 (5)

Fターム[4G062FA04]に分類される特許

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【課題】表面が耐久性に優れ且つアナターゼ型、ルチル型及びブルッカイト型からなる群の1種以上の酸化チタン又は無機チタンリン酸化合物の結晶相を有しているガラスセラミックス、その製造方法、及び前記ガラスセラミックスを含む光触媒機能性部材及び親水性部材を提供する。
【解決手段】ガラスセラミックスは、結晶相としてRnTi(PO、RTi(PO、及びこれらの固溶体のうちいずれか、並びにTiO、好ましくはアナターゼ型、ルチル型及びブルッカイト型からなる群の1種以上のTiO結晶を含有し、これらの結晶によって光触媒特性を有するものである。本ガラスセラミックスは、原料を混合・溶融してガラス融液またはガラスを得る工程と、前記融液又はガラスを結晶核が生成し成長する温度に保持する結晶化工程と、を有する製法によって作られる。 (もっと読む)


【課題】耐結晶化特性に優れ、化学的耐久性に優れた特性を有するガラス材料や、このガラス材料を使った光ファイバー及びそれを束ねた光ファイバーアレイまたは光導波路を提供する。
【解決手段】下記一般式(1)で表される組成であることを特徴とするガラス。
aRO・bP2O5・cB2O3・・・(1)
ここで、RはMg,Ca,Sr,Ba,Mn,Ni,Cu,Zn,Cd,Sn,Pbから選ばれる少なくとも1種類の金属元素であり、a、b、cはそれぞれ0.38≦a≦0.55、0.38≦b≦0.55、0.001≦c≦0.20の範囲の数値を示し、かつa+b+c=1を満たす。 (もっと読む)


高純度および均質性を有する低アルカリ材料を製造可能にするために、本発明は、ホウ酸塩含有低アルカリ材料を製造する方法であって、ホウ素含有溶融材料は、交流電磁場を用いた装置で直接誘導加熱され、溶融材料は、構成成分として、少なくとも25モル%の量的比率で、少なくとも1つの金属酸化物を含み、金属酸化物の金属イオンは、少なくとも2の原子価を有し、溶融材料中のホウ酸塩に対する二酸化ケイ素のモル物質量の比は、0.5以下である方法を提供する。 (もっと読む)


高い歪み点温度、耐失透性、良好な化学的耐久性、優れた誘電特性、シリコンのものに一致するように調整できる熱膨張係数、および従来の方法による成形を可能にする液相線粘度を有する安定なガラスを生成するP25−SiO2−Al23三成分系のガラスからなるフラット・パネル・ディスプレイ用ガラス基板が開示されている。このガラスは、酸化物基準の質量パーセントで計算して以下の組成:33〜75%のP25、2〜52%のSiO2、8〜35%のAl23を有する。
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高い歪み点、透明度、および低い熱膨張係数を示す、SiO2−Al23−P25三成分系からのガラスの一群が開示されている。これらのガラスは、酸化物基準のガラスバッチから計算して、モルパーセントで表して、以下の組成:55〜80%のSiO2、12〜30%のAl23、および2〜15%のP25を有する。
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