【課題】太陽電池に用いられる薄膜シリコンを成膜するためのプラズマＣＶＤ装置から排出される排ガスを処理する装置を小型化する技術を提供する。
【解決手段】半導体製造装置２０から排出された混合ガスをポンプ１２を用いてフィルタ部３０に送出し、フィルタ部３０で高次シランを除去した後、深冷分離を利用した分離部４０を用いて混合ガスを水素とモノシランとに分離する。分離されたモノシランは、シランガス除害部５０により除害される。また、分離された水素は、水素ガス排気部６０により大気に放出される。 （もっと読む）

本発明は、少なくとも１つのケイ素ハロゲン化物、殊にＨ_nＳｉＣｌ_4-n型（ｎは０、１、２または３である）のクロロシランを含む組成物Ｉにおける、ホウ素含有化合物の含有量の減少方法であって、第一の工程における該組成物Ｉへの少量の湿分の装入、および第二の工程における、加水分解されたホウ素および／またはケイ素含有化合物の分離により、その間に、減少されたホウ素含有量を有する予備精製された組成物ＩＩが得られ、殊に第一および第二の工程が少なくとも１つまたはそれより多くのサイクルで行われ得る方法に関する。さらに、該方法の実施のための設備、並びに、該設備が搭載される全体の設備が特許請求される。 （もっと読む）

本発明は、無機シラン及び少なくとも１種の異種金属及び／又は異種金属を含有する化合物を有する組成物を処理する方法において、前記組成物を、少なくとも１種の吸着剤と接触させ、異種金属及び／又は異種金属を含有する化合物の含有量が低減された組成物を得る方法、並びに低減された異種金属含有量を有する相応する組成物、並びに無機シランの組成物中の異種金属及び／又は異種金属を含有する化合物を低減させるための有機樹脂、活性炭、ケイ酸塩及び／又はゼオライトの使用に関する。 （もっと読む）

本発明は、無機ハロゲン化物及び／又はオキシハロゲン化物を精製するための、方法及び装置に関する。ある実施形態において、本発明の方法は、精製無機ハロゲン化物又はオキシハロゲン化物液を生成させるために、無機ハロゲン化物又はオキシハロゲン化物フィード液をゼオライトと接触させることを含む。ある実施形態において、ゼオライトは、水素型のＹ型ゼオライトである。別の態様において、本発明は、無機ハロゲン化物又はオキシハロゲン化物を精製するための装置を含む。装置は、ａ）液体注入口及び液体排出口を含む液体濾過ハウジングと；ｂ）水素形態におけるＹ型ゼオライトと、を含む。分子性及び／又はイオン性不純物は、ゼオライトを含む濾過媒体を用いて、フィード液から除去することができる。好ましい実施形態において、分子性不純物及びイオン性不純物の両方を、ゼオライトを含む濾過媒体を用いて、フィード液から除去することができる。 （もっと読む）