貴金属を含有するチタノシリケート材料であって、該チタノシリケート材料は、酸化物表示でｘＴｉＯ₂・１００ＳｉＯ₂・ｙＥ０_m・ｚＥと表され、ｘは０．００１〜５０．０の範囲であり；（ｙ＋ｚ）は０．０００１〜２０．０の範囲であり、ｙ／ｚ＜５であり；Ｅは、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｒｅ、Ｏｓ、Ｉｒ、Ｐｔ、ＡｇおよびＡｕからなる群より選ばれる一つ以上の貴金属を表し；ｍは、Ｅの酸化状態を充足させる数である。上記材料の結晶粒は、中空構造または垂下構造を含んでいる。上記材料では、上記貴金属および上記チタノシリケートとの間の相乗効果が増強される。酸化反応、例えば、プロピレンのエポキシ化による酸化プロピレンの製造のための反応における選択性、触媒活性および反応産物の安定性は、従来技術と比較して明らかに向上している。 （もっと読む）

本発明は、少なくとも下記反射（第１表）：［表中、記載１００％はＸ線回折で最高ピークの強度に関連する］を生じるＸ線回折型を有するテクト珪酸塩に関する。
（もっと読む）