本発明のプラズマ発生電極１は、複数の単位電極２が所定間隔を隔てて階層的に積層され、単位電極２が、導電膜４を欠落した部分を有する欠落単位電極２ｂと、欠落した部分を有しない通常単位電極２ａとから構成されてなり、各単位電極２間に形成される空間Ｖが、導電膜４間の距離が単位電極２相互間の距離となるように形成された通常空間Ｖａと、通常単位電極２ａ相互間に、導電膜４間の距離が通常空間Ｖａにおける導電膜４間の距離よりも長くなるように形成された欠落空間Ｖｂとから構成されている。本発明のプラズマ発生電極１は、被処理流体を一度流すだけで、含有される複数の所定成分を、それぞれの反応に適した複数の異なるプラズマにより、効率的に処理することができる。 （もっと読む）

本発明は、高さ、幅、および長さ（高さは約１０ｍｍ以下）を有し、プロセスマイクロチャネルの幅に沿う一方向とプロセスマイクロチャネルの長さに沿う他の方向に展延する基底壁を有する、少なくとも１個のプロセスマイクロチャネルと、基底壁からプロセスマイクロチャネル中に突出し、プロセスマイクロチャネルの長さの少なくとも一部に沿って展延する、少なくとも１個のフィンと、フィンに担持された触媒または吸着媒体とを含む装置に関する。
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【課題】処理対象ガスに窒素が含まれていてもＰＦＣの分解率が高く、ＮＯ_Ｘの生成量が少なく、大気圧下で使用可能な排ガス処理装置を提供する。
【解決手段】ＰＦＣガスと窒素ガスとからなる排ガスを処理し、排ガス中のＰＦＣを分解する排ガス処理装置であって、処理対象の排ガスに炭化水素や水素、アンモニアなど水素原子を有する添加ガスを供給する添加ガス供給装置、および添加ガスを含んだ排ガスをプラズマ処理するプラズマチャンバーを有する。添加ガス供給装置をプラズマチャンバーの下流に設け、プラズマ処理後の排ガスに添加ガスを供給するように構成してもよい。 （もっと読む）

エチレンをエチレンオキシドに酸化するための反応器系。前記反応器系は触媒成分を含有し得る成形支持体材料の充填層を収容している反応管を含む。前記成形支持体材料は中空円筒形幾何学的構造を有する。前記反応器系は反応管と触媒系形状寸法の特定組合せを有する。
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【課題】吸脱着処理した比較的低濃度（１０００ｐｐｍ以下）の塩化メチレンを主溶剤とする排気ガスを多量に、かつ、安価にしかも手軽に有害物質を生成することなく分解する方法を提供すること。
【解決手段】少なくとも一種類のハロゲンを有する化合物を含有する排気ガスを放電により分解処理することを特徴とする排気ガスの処理方法。 （もっと読む）

【課題】酸素富化膜を利用し、目の細かなフィルターを使用しなくとも、酸素濃縮能の低下を防止し、もって実用化し得るようにした酸素濃縮器を提供する。
【解決手段】酸素富化膜の大気側にエアーの流れを生じさせ、該酸素富化膜の他面を減圧にして酸素富化空気を得る酸素濃縮装置において、前記酸素富化膜を通過した大気側のエアーの流れを、マイナスイオン発生器を通してマイナスイオン化エアーとした。 （もっと読む）

【課題】 真空ポンプを損傷させず整備、点検の容易で且つ燃焼処理を必要としないＰＦＣの処理方法および処理装置を提供する。
【解決手段】 真空室１２の後段には配管１４を介して真空ポンプ１６と反応ガス導入部１７とプラズマ処理部１８と重合体回収部２０とが連続して設置され、処理装置１０を構成する。このように処理装置１０を構成すれば、プラズマ処理後の反応物が真空ポンプを通過することがなく、反応物によって真空ポンプが損傷するのを防止することができる。またプラズマ処理を行う部分については大気圧の環境に設置されるため、プラズマ処理部の整備や点検を容易に行うことができる。また混合ガスをプラズマ処理することによって重合体を生成するので、当該重合体を回収するだけでＰＦＣの処理を済ませることができる。 （もっと読む）