【課題】酸化および／または電磁放射による分解に敏感な化合物の、酸化および／または任意の電磁放射、特にＵＶ放射による分解に対する敏感性を克服する。
【解決手段】本発明では、酸化および／または電磁放射に敏感な化合物の、酸化および／または電磁放射からの保護のための、以下の式ＩおよびＩＩ
式Ｉ ：Ｒ_４Ｓｉ_４Ａｌ_２Ｏ_８（ＯＨ）_ｘ
式ＩＩ：Ｒ_８Ｓｉ_８Ｍ_６Ｏ_１６（ＯＨ）_ｙ
のうちの１つを有する、粒子形態での少なくとも１種の金属有機シリケートポリマーが使用される。
本発明は、特に、様々な材料の酸化および光老化からの保護の分野で用途がある。 （もっと読む）

本発明は、与えられた式を持つ二つのアミノベンゾアート又はアミノベンズアミド基で置換された少なくとも一のケイ素含有ｓ-トリアジンを使用する、少なくとも一のジベンゾイルメタン誘導体を紫外線に対して光安定化させるための方法に関する。また本発明は、(ａ)ジベンゾイルメタン型の少なくとも一の紫外線遮蔽剤と；(ｂ)与えられた式の二つのアミノベンゾアート又はアミノベンズアミド基で置換された少なくとも一のケイ素含有ｓ-トリアジン化合物を含むことを特徴とする、生理学的に許容可能な担体中に少なくとも一の紫外線遮蔽系を含有する組成物に関する。さらに本発明は、紫外線に対するジベンゾイルメタン誘導体の安定性を改善するための、少なくとも一のジベンゾイルメタン誘導体を生理学的に許容可能な担体中に含有してなる組成物における、与えられた式の二つのアミノベンゾアート又はアミノベンズアミド基で置換された少なくとも一のケイ素含有ｓ-トリアジンの使用に関する。 （もっと読む）

【課題】 電子写真感光体を初めとする各種成形体に適用でき、機械的強度及び酸化防止性の双方を高水準で達成することが可能な硬化体を提供すること。
【解決手段】 下記一般式（１）で表わされる化合物及び下記一般式（２）で表わされる化合物からなる群より選択される少なくとも一種の化合物を含む重合性単量体、並びに／又は、該重合性単量体からなる架橋構造を有するケイ素樹脂と、フェノール樹脂及び／又はフェノキシ樹脂と、を含有する組成物を硬化させてなることを特徴とする硬化体。
Ｆ−［Ｄ−Ｓｉ（Ｒ^１）_{（３−ａ）}Ｑ_ａ］_ｂ （１）
Ｆ−［（Ｘ）_ｎＲ^２−ＺＨ］_ｍ （２） （もっと読む）

本発明は、明細書に定義される基を有する式Iの化合物の酸化防止剤としての使用、相当する新規化合物及び製剤、並びに該化合物及び製剤の製造方法に関する。

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式Ｉ′のアミノフェニルトリアジンの新規な製造方法であって、式Ｉ″の対応するハロゲノフェニルトリアジンを、式ＩＸのアミン、Ｈ−ＮＲ′₂Ｒ′₃（式中、Ｘはクロロ又は好ましくはフルオロであり、記号Ａ、Ａ′、Ｒ′₂、Ｒ′₃、及びＲ₄₄は請求項１で定義された有機残基である）と反応させることを含む。この方法の生成物及びそれらの誘導体は、光、酸素及び／又は熱による損傷に対して、有機材料を保護するための安定剤及びＵＶ吸収剤として、あるいは光学記録媒体、特に波長が４５０nm未満のレーザー放射を用いる記録層にデジタル情報を書き込み又は読み出すためのものにおける記録色素として有用である。
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