【課題】末端オレフィンのクロスメタセシスのための方法を提供する。
【解決手段】第１の末端オレフィンに対し、他の第１の末端オレフィンを接触させて二量体を形成した後、この二量体を、式Ｉを有する触媒の存在下において、第２の末端オレフィンに接触させて、二置換内部オレフィン生成物を製造する。式Ｉ


ＭはＯｓ又はＲｕであり、Ｒ、Ｒ¹は、水素又はＣ₁〜Ｃ₂₀アルキル、Ｃ₂〜Ｃ₂₀アルケニル、Ｃ₂〜Ｃ₂₀アルキニル、アリール、Ｃ₁〜Ｃ₂₀カルボキシレート、Ｃ₁〜Ｃ₂₀アルコキシ、Ｃ₂〜Ｃ₂₀アルケニルオキシ、Ｃ₂〜Ｃ₂₀アルキニルオキシ、アリールオキシ、Ｃ₂〜Ｃ₂₀アルコキシカルボニル、Ｃ₁〜Ｃ₂₀アルキルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₂₀アルキルスルホニル、及びＣ₁〜Ｃ₂₀アルキルスルフィニルからなるグループから選択された置換基である。Ｘ、Ｘ¹は、任意のアニオン性配位子である。Ｌ、Ｌ¹は、任意の中性電子供与基である。 （もっと読む）

式Ｐ−Ｙ−Ｓｐ−Ｓｉ（Ｒ²）_n（ＯＳｉＲ¹₃）_(3-n) （Ｉ）の高純度の重合性シリコーンの製造方法であって、（ａ）式（Ｒ¹）₃ＳｉＯＳｉ（Ｒ¹）₃ （ＩＩ）のジシロキサン（１）を、酢酸（２）、硫酸（３）、および場合により酸性触媒（４）の存在下に装入し、（ｂ）−２０℃〜０℃の温度で、式Ｐ−Ｙ−Ｓｐ−Ｓｉ（Ｒ²）_n（ＯＲ³）_(3-n) （ＩＩＩ）の置換されたアルコキシシラン（５）を計量供給し、（ｃ）相分離の後で、酸性相（下相）を分離し、（ｄ）アルコキシシラン（５）１モルに対して、０．０２〜１．０モルのヘキサメチルジシラザン（６）を添加し、（ｅ）生じた塩を濾別した後で、易揮発性成分を除去し、かつ生成物を蒸留し、かつ場合により（ｆ）引き続き生成物を濾過する［上記の式中で、Ｓｐは、単結合を表すか、または１〜８個の炭素原子を有する二価の炭化水素基を表し、Ｙは、単結合または−Ｏ−を表し、Ｐは、アクリルオキシ基、メタクリルオキシ基、ビニル基またはアリル基を表し、ｎは、０、１または２であり、Ｒ¹およびＲ²は、それぞれ１〜１８個の炭素原子を有し、置換されていてもよい一価の炭化水素基を表し、かつＲ³は、１〜８個の炭素原子を有し、アルコキシ基により置換されていてもよいアルキル基を表す］高純度の重合性シリコーンの製造方法。 （もっと読む）

フッ化（フルオロスルホニル）ジフルオロアセチルをシロキサンと接触させることによる（フルオロスルホニル）ジフルオロ酢酸トリアルキルシリルの製造方法。（フルオロスルホニル）ジフルオロ酢酸トリアルキルシリル中の（フルオロスルホニル）ジフルオロ酢酸副生物の量は、前記混合物をトリアルキルシリルハライドと接触させることによって低減される。 （もっと読む）

化３７で示されるで示されるテトラハロシランと化３８で示されるテトラアルコキシシランとを該テトラアルコキシシランと同じアルコキシ基からなるアルコール存在下で反応させて化３９で示されるトリアルコキシハロシランを得るトリアルコキシハロシランの製造方法であって、前記テトラハロシラン及び前記テトラアルコキシシランのＳｉ総量に対して前記アルコールが５〜５０ｍｏｌ％であることを特徴とする。
【化３７】


（但し、Ｘはハロゲンである。）
【化３８】


（但し、Ｒ^１は炭素数１〜６の炭化水素基である。）
【化３９】


（但し、Ｘはハロゲン、Ｒ^１は炭素数１〜６の炭化水素基である。）
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