【課題】ポリトリアジンテレフタルアミドとその製造法を提供するものである。
【解決手段】ポリトリアジンテレフタルアミドは、トリアジン構造とベンゼン環構造とをアミド結合で連結した特定の繰返し構造を基本として構成され、末端アミノ基量が１．５ミリ等量／ｇ以下、好ましくは１ミリ等量／ｇ以下、更に好ましくは０．５ミリ等量／ｇ以下である。該ポリトリアジンテレフタルアミドは、メラミンとポリアルキレンテレフタレートを、カルボン酸活性剤の存在下でハロゲン化炭化水素溶媒又は非プロトン性極性溶媒中で反応させることによって得られる。該ポリトリアジンテレフタルアミドは、メラミンとポリアルキレンテレフタレートの割合が、メラミン１モルに対して、ポリアルキレンテレフタレートが、１．３から１．７モルとすることにより得られる。 （もっと読む）

２，５−ジヒドロキシテレフタル酸は、塩基性条件下での銅源および銅に配位する配位子との接触によって２，５−ジハロテレフタル酸から高収率および高純度で製造される。 （もっと読む）

【課題】熱硬化性樹脂組成物作製時の有機溶剤への溶解性が良く、金属箔接着性、耐熱性、耐湿性、難燃性、銅付き耐熱性、低誘電特性、低誘電正接性の全てに優れる熱硬化性樹脂組成物を与える熱硬化性樹脂及び、これを用いた熱硬化性樹脂組成物並びに、これを用いたプリプレグ及び積層板を提供する。
【解決手段】（ａ）６−置換グアナミン化合物、（ｂ）無水マレイン酸を含むカルボン酸無水物基及び（ｃ）１分子中に少なくとも１個のＰ−Ｈ結合を有する芳香族化合物の反応生成物であるリン含有グアナミン樹脂及び、該リン含有グアナミン樹脂とエポキシ樹脂を含有する熱硬化性樹脂組成物並びに、これを用いたプリプレグ及び積層板である。 （もっと読む）

半導体装置の製造に用いられる波長の光に良好な光吸収性を示し、高い反射光防止効果を持ち、フォトレジスト層と比較して大きなドライエッチング速度を有する反射防止膜のための反射防止膜形成組成物を提供する。具体的には、窒素原子上の置換基としてヒドロキシアルキル構造を有するトリアジントリオン化合物、オリゴマー化合物又は高分子化合物、を含むことを特徴とする反射防止膜形成組成物である。 （もっと読む）

【課題】より広範な組成物及び物性変化を有し特定の応用例にも応えうる新規ポリアミドを合成する。
【解決手段】本発明は、分子内相互作用を促進することにより、骨格構造の剛直性、安定性及び／又は共平面性を改善したアミドポリマを合成する。本発明の実施の形態におけるアミドポリマは、芳香族ジカルボン酸と複素環式ジアミン前駆体又は反応性の複素環式アミノ酸前駆体を用いて合成される。本発明において用いる複素環式前駆体は、１以上の反応性アミン基に対するβ位にヘテロ原子を含む複素環式構造を有する。好ましくは、ヘテロ原子は、窒素原子である。また、本発明の別の実施の形態は、分子間相互作用、分子内相互作用を促進する、及び／又は合成されたアミドポリマの溶解性を強化する官能基を含む。 （もっと読む）