【課題】水溶液にした場合に適度な流動性を有し、レゾルシン単量体含有量およびレゾルシン５核体以上のレゾルシンホルマリン樹脂含有量の双方が低減された、レゾルシン−メチルエチルケトン−ホルマリン樹脂を提供すること。
【解決手段】レゾルシンとメチルエチルケトンとの反応によるケトン変性体合成後、ホルマリン縮合による一連の工程が同一反応器内で行われる製造方法によって製造された、レゾルシンホルマリン樹脂のゲルパーミエーションクロマトグラフィー分析で得られる全体のピーク面積に対して、レゾルシン単量体に相当するピーク面積が３％〜９％であり、レゾルシン５核体以上に相当するピーク面積が３０％〜５５％である、レゾルシン−メチルエチルケトン−ホルマリン樹脂。 （もっと読む）

【課題】
２層あるいは３層レジストプロセス用下層膜として、エッチング耐性、反射防止効果、耐ポイゾニング効果の高い下層膜を形成する。
【解決手段】 式（１）の複数のビスフェノール基を有する化合物を含有するフォトレジスト下層膜形成材料。


（Ｒ¹は同一又は異種の水素原子、炭素数１〜１０の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基、炭素数６〜１０のアリール基、又は炭素数２〜１０のアルケニル基である。Ｒ²は同一又は異種の水素原子又は炭素数１〜６の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキル基、炭素数２〜６の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルケニル基、炭素数６〜１０のアリール基、炭素数２〜６のアセタール基、炭素数２〜６のアシル基、又はグリシジル基であり、ｎは２〜４の整数である。） （もっと読む）

【解決手段】式（１）のビスフェノール基を有する化合物を含有するフォトレジスト下層膜形成材料。


（Ｒ¹、Ｒ²は水素原子、Ｃ１〜１０のアルキル基、Ｃ６〜１０のアリール基、又はＣ２〜１０のアルケニル基、Ｒ³、Ｒ⁴は水素原子又はＣ１〜６のアルキル基、Ｃ２〜６のアルケニル基、Ｃ６〜１０のアリール基、Ｃ２〜６のアセタール基、Ｃ２〜６のアシル基、又はグリシジル基、ＹはＣ４〜３０の２価の脂肪族又は脂環式炭化水素基。）
【効果】反射防止効果のある中間層と組み合わせることで、２００ｎｍ以上の膜厚で十分な反射防止効果を発揮し得る吸光係数を有し、基板加工に用いられるＣＦ₄／ＣＨＦ₃系ガス及びＣｌ₂／ＢＣｌ₃系ガスエッチングの速度も強固で、高いエッチング耐性を有し、パターニング後のレジスト形状も良好である。 （もっと読む）

【課題】耐熱性と共に柔軟性にも優れ、耐熱性の高いアラミド系繊維との密着性に優れた熱硬化性樹脂を提供し、長期に亘り摩擦特性が安定し、耐磨耗性に優れ耐久性の優れた湿式摩擦材を提供する。
【解決手段】フェノールモノマー類（ａ）とトリアジン類（ｂ）とアルデヒド類（ｃ）とノボラック型フェノール樹脂（ｄ）とを反応して得られるトリアジン変性レゾール型フェノール樹脂を含有することを特徴とする熱硬化型樹脂組成物、これを繊維状基材に含浸、硬化した摩擦材。 （もっと読む）

【課題】 シェルモールド用ＲＣＳの結合剤として用いた場合に、鋳型特性を落とすことなく、鋳造時に発生する結合剤由来の熱分解生成物の発生量が少なく、かつ該熱分解生成物のべたつきを改善するノボラック型フェノール樹脂を提供する。
【解決手段】 ゲル濾過クロマトグラフの面積法による測定でフェノール類モノマーとフェノール類ダイマーの合計含有量が１０％以下であり、ゲル濾過クロマトグラフ測定による重量平均分子量（Ｍｗ）と数平均分子量（Ｍｎ）との分散比（Ｍｗ／Ｍｎ）が３．０以下であり、メチレン基のオルソ／パラ結合比が０．９５以下であるノボラック型フェノール樹脂。 （もっと読む）

【課題】 フォトレジスト樹脂中の昇華物による生産ラインの汚染を低減し、それにより生産性を向上することができるフォトレジスト用樹脂の製造方法及びフォトレジスト用組成物を提供する。
【解決手段】 本発明は、下記Ａ〜Ｂ工程によって製造されることを特長とするフォトレジスト用フェノール樹脂の製造方法である。
Ａ工程：有機溶媒に溶解させたフェノール樹脂を吸着剤の充填したカラムに通す工程、及び
Ｂ工程：Ａ工程後のフェノール樹脂を反応及び／又は濃縮する工程
また、本発明は、上記フォトレジスト用樹脂、感光剤、および溶剤を含むことを特徴とするフォトレジスト用樹脂組成物である。 （もっと読む）

本発明は、下記成分：カルボキシル基を有していないフェノール性成分、芳香族ヒドロキシカルボン酸及びイミダゾール、を含むフェノール−アルデヒド樹脂、上記樹脂の製造方法、前記樹脂を裸金属表面又は化成層を有する金属表面の腐食防止処理に用いること、裸金属表面又は化成層を有する金属表面を処理するための前記本発明のフェノール−アルデヒド樹脂の１種以上を含む処理水溶液、及び金属板、金属部材又は金属部分を有する物品であってその少なくとも１表面が前記方法を用いて処理されているものに係る。 （もっと読む）

【課題】遊離アルキルフェノールのレベルが低いアルキルフェノール−ノボラック樹脂と、その製造方法と、そのゴム用粘着付与および／または補強用樹脂としての使用。タイヤ製造で好ましく使用される。
【解決手段】残留アルキルフェノールの比率が２重量％以下、好ましくは1.5重量％以下、さらに好ましくは１重量％以下で、且つ、環球軟化点温度が85〜105℃、好ましくは95〜105℃であるアルキルフェノール−ノボラック樹脂において、アルキルフェノールの量に対して飽和または不飽和の脂肪酸を少なくとも2〜20重量％、好ましくは5〜10重量％含むアルキルフェノール−ノボラック樹脂。 （もっと読む）