【課題】低粘度で低揮発性の新規化合物を提供する。
【解決手段】下記一般式（１）、下記一般式（２）、下記一般式（３）、下記一般式（４）、または下記一般式（５）で表される、分子量３１０以上の化合物。
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モノマー（Ａ）、（Ｂ）及び（Ｃ）を重合して、反応性末端ＯＨ基を有する非イオン性ポリマーを得、次いでこの末端ＯＨ基をアニオン性端基に転化することによって得ることができるアニオン性に変性されたコポリマーであって、
（Ａ）は、次式（Ｉ）のモノマーであり、


［式中、
Ａは、Ｃ_２−〜Ｃ_４−アルキレンを表し、そして
Ｂは、Ａとは異なるＣ_２−〜Ｃ_４−アルキレンを表し、
ｋは、０または１の数に相当し、
ｍは、０〜５００、好ましくは０〜５０の数であり；
ｎは、０〜５００、好ましくは０〜５０の数であり、
この際、ｍ＋ｎの合計は１〜１０００に等しい］
（Ｂ）は、芳香族基を含むエチレン性不飽和モノマーであり、
（Ｃ）は、アルキル基を含むエチレン性不飽和モノマーである、
前記コポリマー。
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【課題】不溶解分が充分に低減された高分子量の（メタ）アクリル酸（塩）系水溶性重合体を高生産性で得ることができる（メタ）アクリル酸（塩）系水溶性重合体の製造方法を提供する。
【解決手段】（メタ）アクリル酸（塩）系水溶性重合体含水ゲルを乾燥して（メタ）アクリル酸（塩）系水溶性重合体を製造する方法であって、上記製造方法は、露点７０℃以下であり、かつ、温度１６０〜２３０℃である熱風が含水ゲル間隙を線速０．１ｍ／ｓ以上で通過するようにして乾燥する工程を含む（メタ）アクリル酸（塩）系水溶性重合体の製造方法。 （もっと読む）

コモノマーとして、
（ａ）エチレン、
（ｂ）１つ以上のアルケニルホスホン酸ジエステル、
（ｃ）適切であれば、１つ以上の他のフリーラジカル共重合性コモノマー
を共重合形態で含む１つ又は２つ以上のコポリマー（Ａ）を使用する、表面を処理する方法。 （もっと読む）

真空紫外領域における透明性に優れ、フォトレジスト用として、特にＦ２レジスト用として超微細パターンを形成することができる含フッ素重合体であって、炭素数２または３のエチレン性単量体であって少なくとも１個のフッ素原子を有する含フッ素エチレン性単量体（ｍ１）に由来する繰り返し単位（Ｍ１）および／または重合体主鎖に脂肪族環構造を与え得るフッ素原子を含んでいてもよい単量体（ｍ２）に由来する繰り返し単位（Ｍ２）を有し、かつ重合体中に酸で反応する酸反応性基Ｙ^１または酸反応性基Ｙ^１に変換可能な基Ｙ^２を有する含フッ素重合体を得るに当たり、該含フッ素エチレン性単量体（ｍ１）および／または該重合体主鎖に脂肪族環構造を与え得る単量体（ｍ２）をフッ素原子を有する重合開始剤を用いてラジカル重合することを特徴とする真空紫外光の透明性に優れたレジスト用含フッ素重合体の製造方法。 （もっと読む）