【課題】超微細領域での、高感度、高解像性、良好なパターン形状、良好なラインエッジラフネスを同時に満足する電子線、Ｘ線又はＥＵＶ光用ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】特定のオキシムスルホネート構造を有する繰り返し単位及び酸の作用により分解してアルカリ可溶性基を生じる基を有する繰り返し単位を有する樹脂を含有することを特徴とする電子線、Ｘ線又はＥＵＶ光用ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

ポリマー前駆体と、リチウムカルボラン触媒、及び開始剤とを、重合条件下で接触させるステップを含む、ポリマー前駆体を重合するための方法が提供される。反応溶媒を使用してもよいが、必ずしも必要ではない。末端アルケニル又はアルキニル基を有するリチウムカルボランポリマー前駆体と、開始剤、及び任意選択の反応溶媒とを、重合条件下で接触させるステップを含む、リチウムカルボランポリマーを調製する方法も提供される。官能化カルボラン陰イオンも提供される。 （もっと読む）

【課題】イオン伝導性の高いイオン伝導性高分子電解質を製造することができる重合性ホウ素化合物及びその高分子を提供すること。
【解決手段】式（１）で示される重合性ホウ素化合物と電解質塩とを含む電気化学デバイス用高分子電解質。
【化６】


式（１）で示される電気化学デバイス用重合性ホウ素化合物。
式中、Ｂはホウ素原子、Ｚは重合性官能基、Ｘは２価の炭素数１〜１２の炭化水素基であり、Ｘが存在しない場合にはＺはＢに直接結合する。ＡＯは炭素数２〜４のオキシアルキレン基、ｍおよびｎはオキシアルキレン基の付加モル数で各々独立に２以上６未満であり、Ｒ^１およびＲ^２は炭素数１〜１２の炭化水素基である。 （もっと読む）