【課題】 塗布均一性に優れ、熱的に安定な酸化物被膜を形成することができる酸化物被膜形成用塗布液、均一で熱的に安定な酸化物被膜の製造法及び均一で熱的に安定な酸化物被膜を有する半導体装置の製造法を提供する。
【解決手段】 （Ａ）一般式（Ｉ）
【化１】


（式中Ｒは、炭素数１〜４のアルキル基、Ｒ′は炭素数１〜３のアルキル基、ｍは０、１または２を意味する）で表されるアルコキシシラン化合物を溶媒の存在下に加水分解及び縮重合させ、加水分解によって生成する１価アルコールを除去してなる酸化物被膜形成用塗布液、この塗布液を、基体表面上に塗布後、５０〜２００℃で乾燥し、ついで３００〜１０００℃で焼成することを特徴とする酸化物被膜の製造法及びこの塗布液を、半導体素子表面上に塗布後、５０〜２００℃で乾燥し、ついで３００〜１０００℃で焼成して酸化物被膜を形成することを特徴とする半導体装置の製造法。 （もっと読む）

【解決手段】 シラノール部位を有するかご状オリゴシロキサンと下記一般式（１）で表されるオルガノアシロキシシランとを反応させることを特徴とするかご状オリゴシロキサンの修飾方法。
【化１】


（式中、Ｒ¹は置換又は非置換の炭素数１〜４０の１価炭化水素基あるいは水素原子であり、同一分子における複数のＲ¹は互いに異なっていてもよい。Ｒ²は置換又は非置換の炭素数１〜２０の１価炭化水素基を表す。ｎは０〜３の整数を表す。）
【効果】 本発明の方法により、かご状オリゴシロキサンの修飾を温和な条件下で行うことができるため副反応が抑制され、高収率である。また、様々な官能基を導入することができるため汎用性が高く、副生成物が少なく、反応の後処理が簡便である。 （もっと読む）

【課題】エポキシシリカハイブリッド体を用いた反応性シリコーン組成物であって、従来のシリコーン化合物よりも安定性に優れる反応性シリコーン組成物の提供。
【解決手段】エポキシ基および／または酸無水物基を有するアルコキシシランを６０モル％以上含む加水分解性ケイ素含有基含有化合物に、加水分解縮合をさせ、生成したアルコールをエポキシ基含有化合物の存在下で留去させて得られる、エポキシ基および／または酸無水物基を有する反応性シリコーン組成物。 （もっと読む）

R 及び X が明細書中に記載された意味を有する、式（I）又は（II）の反応性環状カーボネート及び尿素を開示する。前記のカーボネート及び尿素は、特に、穏やかな条件で、官能基を生体分子、ポリマー及び基材表面に導入し得る。

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