【課題】膜状噴射流面の幅方向全体にわたって金属粒子を均一に微粒化することができるアトマイズ装置を提供する。
【解決手段】複数の噴射ノズルから流体を膜状流体にしてＶ字形に噴射し、その交差領域に金属の溶湯を流下してアトマイズを行うアトマイズ装置において、上記噴射ノズル２，２は、上記膜状流体Ｆ７，Ｆ８の幅方向両端部Ｄにおける上記溶湯に対する上記膜状流体Ｆ７，Ｆ８の交差角θａが、上記膜状流体の幅方向中央部Ｅにおける上記溶湯に対する上記膜状流体の交差角よりも小さい角度となるように、噴射角が上記膜状流体の幅方向において変更されていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】従来に比して生産性の高いシリコンの製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】粒子全体の酸素の質量分率が０.００５％以上０.５％以下となるように表面が酸化されたアルミニウム粒子を加熱する工程と、加熱されたアルミニウム粒子と下記式（１）で示されるハロゲン化シランとを接触させることにより、ハロゲン化シランを還元する工程と、を備えるシリコンの製造方法。
ＳｉＨ_ｎＸ_４−ｎ （１）
［式中、ｎは０〜３の整数；Ｘは、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ及びＩからなる群より選択された原子をそれぞれ示す。ｎが０〜２のとき、Ｘは互いに同一でも異なっていてもよい。］ （もっと読む）

【課題】ガスアトマイズ法において、粒子のばらつきの少ない微細な金属粉末を製造することができるアトマイズノズルおよび金属粉末の製造装置を提供する。
【解決手段】 溶湯ノズル部２１と溶湯ノズル部２１を挟んで対向するように配設したガスノズル部２２，２２とを有し、ガスノズル部２２，２２は、縦断面において略Ｖ字状に設けられている。ガスノズル部２２の噴射口２２ａがスリット状であり、噴射口２２ａを備えたノズル底面部２９と、噴射口２２ａから噴射されたアトマイズガスの噴射面同士との間に形成される空間の両端を覆うように、噴射口２２ａの両端間に配置された壁面を有する一対の壁体が設けられている。 （もっと読む）

【課題】導電性に優れた銅粉末およびその製造方法を提供する。
【解決手段】硼素を０．０１〜０．１ｗｔ％含有する銅粉末。また、溶融した銅に、含有量が０．０１〜０．１ｗｔ％となるように硼素を添加後、アトマイズ法により粉末化した銅粉末の製造方法。また、このようにして得られた銅粉末を用いて、電気回路基板上に電気回路をパターンニング形成する。 （もっと読む）

【課題】オリフィスから噴射される流体の流速を確実にほぼ一定に維持することができる金属粉末製造装置を提供すること。
【解決手段】金属粉末製造装置１Ａは、溶融金属Ｑを供給する供給部２と、供給部２の下方に設置され、供給部２から供給された溶融金属Ｑが通過可能であり、内径が下方に向って漸減する内径漸減部３３を有する第１の流路３１と、第１の流路３１の下端部に開口し、第１の流路３１に流体を噴射するオリフィスとが形成されたノズル３とを有している。このノズル３は、オリフィスを画成する、第１の部材４と、第１の部材４の下方に間隙３７を介して設置された第２の部材５とを備え、ノズル３には、オリフィスを通過する流体の圧力によりオリフィスが拡大することを規制するクランプ６Ａが設置されている。 （もっと読む）

【課題】オリフィスから噴射される液体の流速を確実にほぼ一定に維持することができる金属粉末製造装置を提供すること。
【解決手段】金属粉末製造装置１Ａは、溶融金属Ｑを供給する供給部と、供給部の下方に設置され、供給部から供給された溶融金属Ｑが通過可能であり、内径が下方に向って漸減する内径漸減部３３を有する第１の流路３１と、第１の流路３１の下端部に開口し、第１の流路３１に水Ｓを噴射するオリフィス３４とが形成されたノズル３とを有している。このノズル３は、オリフィス３４を画成する、第１の部材４と、第１の部材４の下方に間隙３７を介して設置された第２の部材５とを備え、第１の部材４の内径漸減部３３付近には、温度上昇することにより内径漸減部３３付近を変形させ、これにより、オリフィス３４を通過する水Ｓの圧力によるオリフィス３４の拡大を規制する規制手段としての吸熱体６が設置されている。 （もっと読む）

従来の溶融の実施の汚染特性のないガスアトマイズチタン粉末を製造するための誘導溶解装置。この装置は、銅及び鉄の圧粉の金属基複合材料から構成されるオリフィス付きの分割された水冷底部プレートを備える。底部プレート及び誘導コイルが、協働して前記オリフィス内に均一な磁場を発生する。 （もっと読む）