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Fターム[4K029DB22]の内容

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Fターム[4K029DB22]に分類される特許

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【課題】 電子ビームを用いた薄膜形成装置において、昇華性材の蒸着材料に電子ビームを照射時、電子チャージアップ現象が生じ、安定した蒸着が行えないという問題点を解決し、昇華性材上の電子の中和を可能とする薄膜形成装置を提供する。
【解決手段】 真空チャンバ内に設けられた電子ビーム発生装置とおよび柱状をなし中央部の上面から下面に達する貫通孔が設けられた蒸着材料を収納したるつぼを備え、電子ビーム発生装置の出射する電子ビームを蒸着材料に照射する。 (もっと読む)


【目的】本発明は、電子源から放出されて加速された電子ビームを180度以上回転させて物質に照射して加熱し、対向して配置した基板上に当該物質を蒸着させる電子源装置におけるスキャン方法および電子源装置に関し、電子源から放出された電子ビームを180度、あるいは更に回転させてルツボ内の試料に照射する際に、照射する面積が変わった場合に電子ビームによる照射密度を均一に自動調整することを目的とする。
【構成】 電子ビームを前記物質に照射するときに当該照射する電子ビームのX方向およびY方向に走査する面積に対応して当該X方向およびY方向の一方あるいは両方の走査周波数を調整し、当該面積内をほぼ均一に前記電子ビームで照射する電子源装置におけるスキャン方法である。 (もっと読む)


本発明は、第1には、真空中で基板上に高温超伝導体を蒸着する装置であって、高温超伝導材料の貯留器を収容する再充填装置と、エネルギ伝達媒体のビームにより蒸発ゾーンにおいて上記高温超伝導材料を蒸発させる蒸発装置と、上記高温超伝導材料を再充填装置から蒸発ゾーンに、該蒸発ゾーンに供給された高温超伝導材料が実質的に残留無しで蒸発されるように、連続的に供給する供給装置とを有するような装置に関するものである。本発明は、更に、真空中で基板上に高温超伝導材料の被覆を蒸着する方法であって、高温超伝導材料の粒体を蒸発ゾーンに連続的に導入するステップと、エネルギ伝達媒体のビームを上記の導入された粒体が上記蒸発ゾーンにおいて実質的に残留無しで蒸発されるように動作させるステップとを有するような方法にも関するものである。
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