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Fターム[4M109EA18]の内容

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Fターム[4M109EA18]に分類される特許

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【課題】搭載基板とLEDチップとの間に形成された中空部内の封止雰囲気に含まれる不純物により構成部材が侵されて劣化するのを防止可能な発光装置を提供する。
【解決手段】発光装置10は、搭載基板11と、搭載基板11にフリップチップボンディングされたLEDチップ20と、搭載基板11上に形成され、LEDチップ20を封止するガラス材料から成るガラス封止部30と、搭載基板11とLEDチップ20との間にガラス封止部30のガラス材料が進入していない空隙である中空部31と、中空部31と連通するように搭載基板11の板厚方向に貫通形成された注入孔32と、中空部31の内部に充填されたガラス層から成るガラス充填部33とを備える。 (もっと読む)


【課題】 低温で半導体素子を封入することが可能であり、しかも耐酸性に優れ、またガラス管成形時に結晶が析出し難い半導体封入用無鉛ガラス及び半導体封入用外套管を提供する。
【解決手段】 ガラス組成として、モル%で、SiO 45〜58%、Al 0〜6%、B 14.5〜30%、MgO 0〜3%、CaO 0〜3%、ZnO 4.2〜14.2%、LiO 5〜12%、NaO 0〜15%、KO 0〜7%、LiO+NaO+KO 15〜30%、TiO 0.1〜8%含有し、ZnO/LiOが0.84〜2の範囲内にあることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】高耐熱性を有し、且つPbO等の有害成分を含まなくても、低温封止性を有する半導体封止用ガラスを提供する。
【解決手段】歪点が650℃以上であり、且つ10dPa・sにおける温度が1200℃未満であることを特徴とし、具体的には、ガラス組成として、質量%で、SiO30〜50%、Al0〜10%、CaO+SrO(CaO、SrOの合量)0〜20%、BaO15〜35%、ZrO+TiO(ZrO、TiOの合量)0〜25%、La+Nb(La、Nbの合量)0〜20%を含有する。 (もっと読む)


【課題】無機材料であるガラスで構成されたコーティング材のクラック及び気泡の発生を防止できるLEDを実現する。
【解決手段】LEDチップ搭載用の第1のリードフレーム12に、その底面から上方に向かって孔径が徐々に拡大する略漏斗形状の凹部を設けると共に該凹部内面を反射面と成してリフレクタ14を形成し、該リフレクタ14の底面上に、短波長光を発光するLEDチップ16をダイボンドにより接続固定すると共に、該LEDチップ16を、透光性を有する短繊維25が添加された水ガラスで構成したコーティング材22によって被覆・封止し、また、該コーティング材22中に、上記LEDチップ16から発光された短波長光を所定波長の可視光に変換する波長変換用の蛍光体24を分散状態で混入した。 (もっと読む)


【課題】ビスマス系ガラス粉末と耐火性フィラー粉末を含有する封着材料において、ビスマス系ガラス粉末の熱的安定性を維持した上で、ビスマス系ガラス粉末中のBiの含有量を多くするとともに、耐火性フィラー粉末の形状を改良することにより、封着材料の流動性を向上させて、セラミックパッケージ等の特性を向上させること。
【解決手段】封着材料は、ビスマス系ガラス粉末と耐火性フィラー粉末を含有する封着材料において、(1)ビスマス系ガラス粉末が、ガラス組成として、下記酸化物換算の質量%表示で、Bi76〜90%、B2〜12%、ZnO1〜20%、CuO0.01〜10%含有し、(2)ビスマス系ガラス粉末の含有量が35〜95体積%、耐火性フィラー粉末の含有量が5〜65体積%であり、(3)耐火性フィラー粉末が略球状であることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】ビスマス系ガラス粉末と耐火性フィラー粉末を含有する封着材料において、耐火性フィラー粉末を改良し、封着材料の流動性を向上させることにより、セラミックパッケージまたは平面表示装置等の特性を向上させること。
【解決手段】本発明の封着材料は、ビスマス系ガラス粉末と耐火性フィラー粉末を含有する封着材料において、耐火性フィラー粉末の含有量が5〜50体積%であり、且つ耐火性フィラー粉末が略球状であることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】半導体発光素子との熱膨張率の差が小さく、ガラス転移点が低く抑えられたガラスによって被覆されたガラス被覆発光素子及びガラス被覆発光装置を提供する。
【解決手段】ガラス被覆発光素子は、酸化物基準のモル%表示で、P 27〜35%、ZnO 25〜45%、SnO 25〜40%、B及びCaOから選ばれる少なくとも1種0.1〜10%から本質的になり、結晶化ピーク温度とガラス転移温度との差が150℃以上である。 (もっと読む)


【課題】加熱により樹脂封止部が熱膨張しても、基体からの剥離を防止することで、高い信頼性を図ることができる半導体装置を提供する。
【解決手段】発光素子2と、発光素子2に電源電圧を供給する接続電極41が設けられセラミック基板4と、発光素子2を封止する樹脂封止部3とを備えた発光装置1において、セラミック基板4には、常温硬化ガラス材で形成することで、樹脂封止部3と密着するガラスパターン44が形成されている。このガラスパターン44は、発光素子2の周囲を囲うように形成されている。 (もっと読む)


【課題】透明性、耐光性、耐熱性に優れ、長期間使用してもクラックや剥離を生じることなく半導体発光デバイスを封止し、蛍光体を保持することのできる、新規な半導体発光デバイス用部材を提供する。
【解決手段】(1)固体Si−核磁気共鳴スペクトルにおいて、
(i)ピークトップの位置がケミカルシフト−40ppm以上0ppm以下の領域にあり、ピークの半値幅が0.5ppm以上、3.0ppm以下であるピーク、及び、
(ii)ピークトップの位置がケミカルシフト−80ppm以上−40ppm未満の領域にあり、ピークの半値幅が1.0ppm以上5.0ppm以下であるピーク
からなる群より選ばれるピークを、少なくとも1つ有するとともに、
(2)ケイ素含有率が20重量%以上であり、
(3)シラノール含有率が0.1重量%以上、10重量%以下である。 (もっと読む)


【課題】低温で封止することができ、高い透過率と優れた耐候性を有し、しかも、半導体と反応し難い非鉛系ガラスからなる半導体封止材料及びそれを用いて封止してなる半導体素子を提供することである。
【解決手段】本発明の半導体封止材料は、半導体を封止するための封止材料であって、厚さ1mm、波長588nmにおける内部透過率が80%以上であり、且つ、400℃以下の軟化点を有するSnO−P−B系ガラスからなることを特徴とする。また、本発明の半導体素子は、上記封止材料を用いて半導体を封止してなることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】 シリコン基板および該シリコン基板上に設けられた低誘電率膜と配線との積層構造からなる低誘電率膜配線積層構造部を備えた半導体装置において、低誘電率膜が剥離しにくいようにする。
【解決手段】 シリコン基板1の上面の周辺部を除く領域には低誘電率膜4と配線5との積層構造からなる低誘電率膜配線積層構造部3が設けられている。低誘電率膜配線積層構造部3の上面にはパッシベーション膜7および保護膜9が設けられている。保護膜9の上面およびシリコン基板1の周辺部上面には封止膜14が設けられている。これにより、特に、低誘電率膜配線積層構造部3の側面は封止膜14によって覆われ、低誘電率膜4が剥離しにくい構造となっている。 (もっと読む)


【課題】発光ダイオードとの膨張係数不整合が小さい発光ダイオード被覆用ガラスの提供。
【解決手段】波長405nmの光に対する厚み1mmでの内部透過率が80%以上であって、下記酸化物基準のモル%表示で、TeO 40〜53%、GeO 0〜10%、B 5〜30%、Ga 0〜10%、Bi 0〜10%、ZnO 3〜20%、Y 0〜3%、La 0〜3%、Gd 0〜7%、Ta 0〜5%、から本質的になり、TeO+Bが75モル%以下である発光ダイオード素子被覆用ガラス。 (もっと読む)


【課題】鉛酸化物を含まないが、PbO的な所望の技術的ガラス特性を経済的に再現するガラスを含む電子素子を提供する。
【解決手段】ガラス被覆電子素子の製造方法であって、1.以下の組成を(重量%で)含む無鉛ガラスを液体で処理して懸濁液を生成する工程とSiO3〜12%、B 24〜35%、Al 0〜6%、 CsO 0〜5%、 MgO 0〜5%、BaO 0〜5%、Bi 0〜5%、CeO 0.1〜1%、MoO 0〜1%、Sb 0〜2%、ZnO 50〜65%2.この懸濁液を素子体に塗布する工程と3.この素子体を焼結する工程とを含んで成る方法。 (もっと読む)


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