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Fターム[4M113BA14]の内容

超電導デバイスとその製造方法 (1,906) | 基板及び薄膜の製造方法 (344) | 薄膜の形成 (326) | 気相法 (148) | PVD、物理蒸着法 (112) | MBE、MEE、ALE、MLE (7)

Fターム[4M113BA14]に分類される特許

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【課題】膜表面における不純物としてのフッ素化合物の発生を抑制しながら、簡易な方法で、希土類元素、フッ素、鉄、ヒ素、及び酸素からなる超伝導体を含む超伝導薄膜を形成することができる超伝導薄膜の製造方法を提供する。
【解決手段】基体上に、分子線エピタキシー法により、少なくとも希土類元素の固体原料及び希土類三フッ化物の固体原料を用い、希土類元素、フッ素、鉄、ヒ素、及び酸素からなる超伝導体を含む超伝導薄膜を形成する工程を有する超伝導薄膜の製造方法である。 (もっと読む)


【課題】ハロゲン元素を含む原料を供給するMBE法又はMOCVD法により、基板がエッチングされることなく、また、基板の種類に依存せず、薄膜を基板上に成長させることができる薄膜の製造方法を提供すること。
【解決手段】ハロゲン元素を含む原料を供給するMBE法又はMOCVD法により、薄膜を基板上に成長させる薄膜製造方法であって、前記薄膜を成長させるとき、前記薄膜を構成する原料とともに、Ga、B、Al、In、Tl、F、Cl、Br、及びIから成る群から選ばれる1種以上を供給することを特徴とする薄膜製造方法。 (もっと読む)


【課題】鉄砒素系超伝導体の高品質な超伝導薄膜を備えた超伝導体構造、その製造方法、及び電子素子を提供すること。
【解決手段】基板と、前記基板上に形成され、III-V族半導体から成るバッファ層と、前記バッファ層上に形成され、下記式(1)で表される組成を有する超伝導薄膜と、を含み、前記超伝導薄膜におけるAs−As間隔は、前記III-V族半導体におけるV族原子間距離の約1倍であることを特徴とする超伝導体構造。式(1)LnFeAsO1-pq(式(1)において、Lnは1種以上のランタノイド元素であり、0<p<1、0≦q<1) (もっと読む)


【課題】量子ビット素子から大きな信号を得ることができる、超伝導量子ビット素子及びそれを用いた集積回路を提供する。
【解決手段】超伝導量子ビット素子1は、超伝導量子ビット部2と超伝導量子ビット部に接続された量子ビット読出部3とを備え、超伝導量子ビット部2は3つのジョセフソン接合を有する超伝導量子干渉素子からなり、量子ビット読出部3は、2つのジョセフソン接合を有する超伝導量子干渉素子からなり、量子ビット読出部3のジョセフソン接合の1つ2dを、超伝導量子ビット部3のジョセフソン接合の1つと共用できる。量子ビット読出部3は、量子ビットからの十分に大きな磁束信号を得ることができるため、ノイズが大きい環境でも量子ビットの信号を正確に読み出し得る。従来に比較して、必要なジョセフソン接合の個数を1個減らすことができるので、製作が容易となる。 (もっと読む)


【課題】配線が配置された基板表面近傍においても、原子の強い閉じ込めを安定した状態でできるようにする。
【解決手段】まず、冷却部171により、原子捕捉素子を上記Tc以下まで冷却し、次に、レーザ照射部162からのレーザ照射により、加熱領域152を加熱して上記Tc以上にまで昇温し、当該部分を常伝導状態とする。次に、原子を捕捉しているQMT173を、原子捕捉素子の捕捉領域151の上に移動させ、この状態で、端子131及び端子132の間に電流を流して超伝導開回路103に電流が流れた状態とし、加えて、外部磁場発生部160より磁場161を発生させて捕捉領域151に外部からバイアス磁場が印加された状態とする。次に、レーザ照射部162からのレーザ照射を停止し、加熱領域152の加熱状態を停止し、超伝導閉回路102の全体が超伝導(超伝導閉回路)にされた状態とする。 (もっと読む)


【課題】高いQ値の高温超伝導フィルタを実現可能とするNdBa2Cu37やLaBa2Cu37などの薄膜が、MgO基板の上に形成できるようにする。
【解決手段】酸化マグネシウム(MgO)基板101を用意する。MgO基板101は、主表面が(100)面とされたものであり、また、一辺が20mm程度の矩形の基板である。次に、MgO基板101を、分子線エピタキシー装置の処理室内に搬入し、MgO基板101が600℃〜640℃の範囲に加熱された状態とし、例えば、ネオジウム(Nd),バリウム(Ba),及び銅(Cu)を蒸発源(蒸着源)とする分子線エピタキシー法により、MgO基板101の主表面にNd1Ba2Cu37-d(0≦d≦0.3)からなる高温超伝導体薄膜102が膜厚500nm程度に形成された状態とする。 (もっと読む)


【課題】 超伝導デバイスにおいて、局所的な電流の集中を防止するとともに、安定した高周波伝送特性を実現し、電流特性と電力特性を両立させる。
【解決手段】 超伝導デバイスは、第1の誘電体基板(11)と、前記第1の誘電体基板上に超伝導材料で形成された2次元回路型の共振器パターン(12)と、前記共振器パターンの上方に、好ましくは誘電体(16)を介して位置し、前記共振器パターンに所望の帯域幅のカップリングを生じさせる導体パターン(17)とを有する。導体パターンは、円形または楕円形であるのが好ましい。 (もっと読む)


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