【課題】不揮発性メモリのバッファ領域のウェアレベルを緩和するメモリシステムが提供される。
【解決手段】本発明によるメモリシステムは使用者領域とバッファ領域を有する不揮発性メモリと、前記不揮発性メモリのウェアレベル情報に基づいて、前記使用者領域の一部ブロックを前記バッファ領域に転換する動作を管理するためのウェアレベル制御ロジックと、を含む。前記ウェアレベル情報は前記使用者領域のプログラム−消去サイクル情報、ＥＣＣエラー率情報、又は消去ループ回数情報であり得る。本発明によると、バッファ領域のＰ／Ｅサイクル耐久性（ｅｎｄｕｒａｎｃｅ）を増加するか、或いはＥＣＣエラー率や消去ループ回数の増加率を減らすことによって、メモリシステムの性能を向上させ得る。 （もっと読む）

【課題】動作速度及び電力消耗を減らすことができるメモリシステム及びそれの動作方法が提供される。
【解決手段】本発明の実施形態によるメモリシステムは不揮発性メモリ装置と、前記不揮発性メモリ装置を制御するように構成されたメモリ制御器と、を含み、前記メモリ制御器は前記不揮発性メモリ装置から読み出されたデータのエラーの位置情報を含むエラーフラッグ情報を前記不揮発性メモリ装置へ提供する。 （もっと読む）

【課題】不揮発性の半導体ディスクの寿命を監視する半導体ディスク寿命監視装置を提供する。
【解決手段】半導体ディスク５−１〜５−Ｋの書込み制御を行うファイルシステム３と、当該ファイルシステム３と前記半導体ディスク５−１〜５−Ｋを接続するインタフェースドライバ４を備え、当該インタフェースドライバ４により書込みが行われる半導体ディスク５−１〜５−Ｋの寿命を予測する半導体ディスク寿命監視装置１であって、前記ファイルシステム３からの書込みを書込情報として測定する測定部７と、前記測定結果を累積し第１の保存データ３２として保存する保存部８と、前記保存した累積書込情報に基づいて、半導体ディスク５−１〜５−Ｋの寿命を予測する。 （もっと読む）

【課題】インタリーブ動作を実行可能に構成され且つＬＭアドレススキャン動作を実行する半導体記憶装置における消費電力の削減、及び動作の高速化を図る。
【解決手段】複数のカラムのうちの少なくとも１つは、複数ビットのデータの書き込み動作の進行状況を示すＬＭフラグデータを記憶するためのＬＭカラムである。カラム制御回路の各々は、対応するメモリコアにＬＭカラムが存在するか否かを確認するためのＬＭアドレススキャン動作をする。そのＬＭアドレススキャン動作の結果をレジスタに格納し、その後の各種動作においては、前記データラッチ回路に保持されたデータが第１のデータである場合、そのメモリコアにおいて前記ＬＭカラムからＬＭフラグデータを読み出す動作を実行する一方、前記レジスタに保持されたデータが第２のデータである場合、そのメモリコアにおいて前記ＬＭカラムからＬＭフラグデータを読み出す動作を実行しない。 （もっと読む）

【課題】不揮発性半導体メモリの書き換え時に、適切なパルス電圧および適切なパルス幅を備える信号を印加可能な不揮発性半導体記憶装置を提供することである。
【解決手段】本発明にかかる不揮発性半導体記憶装置は、記録されている情報を所定のパルス電圧および所定のパルス幅を備える信号を印加することで書き換え可能な不揮発性半導体メモリ１１と、不揮発性半導体メモリ１１の書き換えを制御する書き換え制御部１２と、を備える。書き換え制御部１２は、不揮発性半導体メモリの総書き換え回数に基づき仮のパルス電圧および仮のパルス幅の少なくとも一つを決定する。更に、決定された仮のパルス電圧および仮のパルス幅の少なくとも一つを不揮発性半導体メモリ１１の温度に基づいて補正することで、書き換え時に不揮発性半導体メモリ１１に印加する信号のパルス電圧およびパルス幅の少なくとも一つを決定する。 （もっと読む）

【課題】新たなリードパラメータで不揮発性メモリ装置をリードするリードリトライを行う方法、該方法を行う装置を提供する。
【解決手段】リードリトライ動作及び／またはその部属的なリードリトライ動作は、リードリトライ動作が保証（ｗａｒｒａｎｔｅｄ）されるか否かを判断する前に初期化されるか、完了することができる。例えば、ＮＡＮＤフラッシュメモリ装置のページは、新たなリード電圧レベルをページのワードラインに印加して、リードリトライ動作でリードされうる。例えば、リードリトライ動作は、エラー訂正動作でターゲットページのデータの以前リードページのエラーを訂正不能と判断される前に、ターゲットページで行われる。 （もっと読む）

【課題】書き込み不良を低減させた不揮発性半導体記憶装置を提供する。
【解決手段】実施形態に係る不揮発性半導体記憶装置は、異なる複数の閾値電圧によって不揮発にデータを記憶するメモリセルを複数個有するメモリセルアレイと、前記メモリセルに対するデータ書き込みにおいて、前記メモリセルの閾値電圧を遷移させるプログラム動作、並びに、当該プログラム動作後の前記メモリセルの閾値電圧を検知するベイファイ動作、を有する書き込みループを実行する制御部とを備え、前記制御部は、前記複数の閾値電圧のうち最上位の前記閾値電圧に遷移させるデータ書き込みにおいて、前記メモリセルに対する書き込みループ数が第１回数よりも多くなった場合、前記書き込みループ数が前記第１回数以下の場合よりも前記ベリファイ動作がパスし易い条件を用いて前記ベリファイ動作を実行することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】不良ブロック情報を適切に管理することのできる不揮発性半導体記憶装置を提供する。
【解決手段】一の実施の形態に係る不揮発性半導体記憶装置は不揮発にデータを記憶する複数のメモリセルを配列してなる複数のブロック、並びにメモリセルと接続されるワード線、及びビット線を有するメモリセルアレイと、メモリセルアレイ内に設けられ、ブロックが不良ブロックであること示す不良ブロック情報を不揮発に記憶可能に構成された不良ブロック格納領域と、ワード線を選択するロウデコーダと、メモリセルに対するデータの書き込み、消去及び読み出しを制御する制御回路とを備える。制御回路は、不良ブロック格納領域に書き込まれた不良ブロック情報をビット線を介して外部へ出力する出力動作を実行可能に構成されるとともに、外部から入力された不良ブロック情報をビット線を介して不良ブロック格納領域に書き込む第１の書き込み動作を実行可能に構成される。 （もっと読む）

【課題】高品質な半導体装置を提供する。
【解決手段】第１の絶縁膜１１１、第１の電極１１２、第２の絶縁膜１１３、及び第２の電極１１４を含むゲート構造を有するメモリセルＭＣが複数設けられた記憶部１１と、少なくとも外部１００からのデータを受信し、記憶部にデータを供給する端子１５と、第１の絶縁膜、第１及び第２の電極とを含むゲート構造を有し、電流経路の一端に第１の電圧が印加される第１導電型の第１のトランジスタ１６ａ、一端が第１のトランジスタの電流経路の他端に接続され、他端が端子に接続される第１の抵抗素子１６ｂ、一端が端子及び第１の抵抗素子の他端に接続される第２の抵抗素子１６ｃ及び、ゲート構造を有し、電流経路の一端が第２の抵抗素子の他端に接続され、電流経路の他端に第２の電圧が印加される第２導電型の第２のトランジスタ１６ｄを含む第１の回路１６と、を備える。 （もっと読む）

【課題】データ書き込みを高速化した不揮発性半導体記憶装置を提供することを目的とする。
【解決手段】実施形態に係る不揮発性半導体記憶装置は、メモリセルアレイと、プログラム動作並びにベリファイ動作を有する書き込みループを繰り返し実行する制御回路とを備え、ベリファイ動作は、メモリセルの閾値電圧が、メモリセルの所望の閾値電圧の下限を示す本ベリファイ電圧よりも低い値で設定された予備ベリファイ電圧まで遷移したことを確認する予備ベリファイステップ、並びに、メモリセルの閾値電圧が本ベリファイ電圧まで遷移したことを確認する本ベリファイステップからなり、書き込みループは、各データに対応した１又は２以上のベリファイ動作からなり、制御回路は、所定の第１条件を具備した後、所定のデータに対応したベリファイ動作の予備ベリファイステップを省略させた書き込みループを実行する。 （もっと読む）

【課題】動作信頼性を向上出来る半導体記憶装置を提供すること。
【解決手段】実施形態の半導体記憶装置１は、メモリセルアレイ１０と、ビット線ＢＬと、ソース線ＳＬと、センス回路１３とを備える。メモリセルアレイ１０は、半導体基板４０上に積層されたメモリセルＭＴが直列接続されたメモリストリング１６を有する。ビット線ＢＬは、いずれかのメモリストリング１６に接続され、データを転送可能である。ソース線ＳＬは、いずれかのメモリストリング１６に接続され、データの読み出し時において、ビット線ＢＬから読み出し電流が流れ込む。センス回路１３は、ビット線ＢＬに接続され、読み出しデータをセンスする。センス回路１３の動作タイミングは、ソース線ＳＬに流れる電流に基づいて決定される。 （もっと読む）

【課題】インタリーブ動作を実行可能に構成された半導体記憶装置における更なる動作の高速化を図る。
【解決手段】複数のアドレス変換回路１５１ａ〜１５１ｄが、メモリコア１１ａ〜１１ｄの各々にそれぞれ設けられ、外部から供給される論理アドレスデータを物理アドレスデータに変換する。アドレス変換回路は、インタリーブ動作において第１のメモリコアが第２のメモリコアより先にアクセスされる場合には、論理アドレスデータを変換せず物理アドレスとして出力する一方、第２のメモリコアが第１のメモリコアより先にアクセスされる場合には、論理アドレスデータに所定値を加算したアドレスデータに対応する物理アドレスデータとして出力する。 （もっと読む）

【課題】メモリセルの過消去を防止し、データの誤書き込みを低減した不揮発性半導体記憶装置を提供することを目的とする。
【解決手段】実施形態に係る不揮発性半導体記憶装置は、メモリストリングに隣接するダミーに接続された第１配線、並びに、メモリセル毎に接続された第２配線を有するセルアレイを備え、ダミーセルに隣接する前記メモリセルを第１対象メモリセル、第１対象メモリセルに隣接する前記メモリセルを第２対象メモリセルとし、第１配線に印加される電圧を隣接第１配線電圧とし、第１対象メモリセルに接続された第２配線に印加される電圧を第２配線電圧とし、第２対象メモリセルに接続された第２配線に印加される電圧を第３配線電圧とした場合、駆動回路は、消去動作時において、第１配線電圧よりも第３配線電圧が小さい場合、第１配線電圧と第３配線電圧の差を第１配線電圧と第２配線電圧の差よりも小さくする。 （もっと読む）

【課題】高集積化を図ることができる不揮発性半導体記憶装置を提供する。
【解決手段】実施形態に係る不揮発性半導体記憶装置は、セルの書き込みにおいて、制御装置は複数の第２の選択ゲートトランジスタに第１電位を与えた後、第１電位よりも低い第２電位を与える。複数のビット線のうち、書き込み不十分のセルに第３電位を与え、書き込み終了に間近のセルに第３電位より高い第４電位を与え、書き込みが終わったセルに第４電位より高い第５電位を与える。制御装置は、第２電位を与えた後、複数のワード線のうち選択されたワード線に書き込み電位を与え、第１電位は、第２の選択ゲートトランジスタをオンすることにより第３電位をＮＡＮＤストリングに転送する電位であり、第２電位は、第３電位をＮＡＮＤストリングに転送した後、前記第２の選択ゲートトランジスタをオフする電位である。 （もっと読む）

【課題】アンチヒューズ型のＯＴＰメモリへの書き込み時間を短縮化すること。
【解決手段】書込回路は、ＯＴＰマクロに対して書き込むデータを記憶する記憶部と、前記書き込むデータの書き込みを前記ＯＴＰマクロに実行させる第一の信号を印加し、前記ＯＴＰマクロが記憶しているデータの読み出しを前記ＯＴＰマクロに実行させる第二の信号を印加する制御部と、前記第二の信号に応じて前記ＯＴＰマクロから読み出されたデータと、前記記憶部が記憶するデータとを比較し、比較結果を出力する比較部とを有し、前記制御部は、前記比較結果が一致を示す場合、前記書き込むデータに関する処理を終了し、前記比較結果が不一致を示す場合、前記第一の信号及び前記第二の信号の印加を再度行う。 （もっと読む）

【課題】電源電圧の供給停止を検出せずに、かつメモリセルからデータを読み出すことなく、書き換え動作中の電源遮断が容易に検出できる不揮発性半導体記憶装置を提供する。
【解決手段】行列上にフラッシュメモリセルが配置されたメモリアレイ９９は、メモリブロック８＿０〜８＿３に分割される。メモリブロック８＿０〜８＿３は、データを記憶するノーマルメモリセルＮＣと、消去動作の完了の有無表わすためのフラグメモリセルＦＣを含む。制御回路６は、メモリブロックの消去動作が終了後に、フラグメモリセルＦＣを書込状態に設定する。 （もっと読む）

【課題】ライトパラメータを効率よく探索することができる半導体記憶装置を提供する。
【解決手段】半導体記憶装置は、パラメータセットを初期値から変更して生成した新たな２以上のパラメータセットを用いて半導体メモリセルに情報を書き込み、その半導体メモリセルについて変換回路の出力を取得し、変換回路の出力の最大値が得られたパラメータセットと、最小値が得られたパラメータセットとをパラメータ空間上で結ぶ延長上に位置する、他のパラメータセットを、新たな初期値として設定して検証を再実施し、書き込んだ情報と読み出した情報が一致する半導体メモリセルについては、初期値を用いた検証を終了する。 （もっと読む）